placa offset fotosensible positiva y procedimiento de

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OFICINA ESPAÑOLA DE
PATENTES Y MARCAS
19
k
kInt. Cl. : B41C 1/10
11 Número de publicación:
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ESPAÑA
k
2 196 925
B41M 5/36
TRADUCCION DE PATENTE EUROPEA
12
kNúmero de solicitud europea: 99972155.8
kFecha de presentación: 12.11.1999
kNúmero de publicación de la solicitud: 1 159 133
kFecha de publicación de la solicitud: 05.12.2001
T3
86
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k
54 Tı́tulo: Placa offset fotosensible positiva y procedimiento de producción correspondiente.
k
30 Prioridad: 16.11.1998 JP 324734/98
k
17.11.1998
12.01.1999
27.07.1999
27.07.1999
24.08.1999
JP
JP
JP
JP
JP
326340/98
4985/99
211957/99
211958/99
236705/99
45 Fecha de la publicación de la mención BOPI:
16.12.2003
k
45 Fecha de la publicación del folleto de patente:
ES 2 196 925 T3
16.12.2003
Aviso:
k
73 Titular/es:
MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION
5-2 Marunouchi 2-chome
Chiyoda-ku, Tokyo 100-0005, JP
k
72 Inventor/es: Hidaka, Katsuhiko;
Yagisawa, Hiroyuki;
Akamatsu, Masao y
Tsuchiya, Tatsunori
k
74 Agente: Ungrı́a López, Javier
En el plazo de nueve meses a contar desde la fecha de publicación en el Boletı́n europeo de patentes,
de la mención de concesión de la patente europea, cualquier persona podrá oponerse ante la Oficina
Europea de Patentes a la patente concedida. La oposición deberá formularse por escrito y estar
motivada; sólo se considerará como formulada una vez que se haya realizado el pago de la tasa de
oposición (art. 99.1 del Convenio sobre concesión de Patentes Europeas).
Venta de fascı́culos: Oficina Española de Patentes y Marcas. C/Panamá, 1 – 28036 Madrid
ES 2 196 925 T3
DESCRIPCION
Placa offset fotosensible positiva y procedimiento de producción correspondiente.
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Antecedentes de la invención
Campo de la invención
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La presente invención se refiere a una placa positiva fotosensible de impresión litográfica que se puede
exponer a rayos de la zona inicial del infrarrojo, a un método para producir dicha placa y a un método
para formar una imagen positiva, empleando dicha placa. más particularmente, la invención se refiere a
una placa positiva fotosensible de impresión litográfica, que es adecuada para fabricación directa de la
placa mediante un láser de semiconductores, a un método para producirla y a un método para exponerla
y revelarla. En este documento, el término de placa positiva fotosensible de impresión litográfica en
condiciones de no expuesta significa, generalmente, que es un precursor de placa positiva fotosensible de
impresión litográfica.
Discusión de los Antecedentes
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Junto con el progreso de la tecnologı́a de tratamiento de imágenes mediante ordenadores, la atención
se ha extendido al sistema directo de realización de una placa positiva fotosensible o sensible al calor,
en la que se forma una imagen resistente protectora, partiendo directamente de información digital de la
imagen, por ejemplo, mediante un rayo láser o una cabeza térmica, sin recurrir a una pelı́cula de máscara
de sal de plata.
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Particularmente, se ha deseado intensamente realizar un sistema de fabricación de placas directamente
fotosensibles al láser, con un alto grado de desarrollo, en el que se emplee un láser de semiconductores
de alta potencia, desde el punto de vista de la larga vida útil del láser de semiconductores y de bajo
dimensionamiento.
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Se conoce un método de formación de imágenes en el que se utiliza la fotosensibilidad al láser o la
sensibilidad al calor, para preparar una placa de impresión litográfica utilizando un colorante sublimable
de transferencia. Por ejemplo, se conoce un método para preparar una placa de impresión litográfica
utilizando la reacción de reticulación de un compuesto diazo (por ejemplo, documentos JP-A 52-151024,
JP-B-251732, JP-A-50-15603, JP-B-3-34051, JP-B-61-21831, JP-B-60-12939 y patente de Estados Unidos
número 3.664.737), o un método para preparar una placa de impresión litográfica utilizando la reacción
de descomposición de nitrocelulosa (por ejemplo, documentos JP-A-50-102403 y JP-A-50-102401).
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Además, en los últimos años, se ha propuesto una técnica en la que un elemento fotorresistente, de
tipo de amplificación quı́mica, se combina con un colorante absorbente de rayos de luz de longitud de
onda larga. Por ejemplo, el documento JP-A-6-43633 describe un material fotosensible en el que cierto
colorante de escuarilio se combina con un generador foto ácido y con un aglutinante.
Se ha propuesto una técnica de este tipo para preparar placas de impresión litográfica mediante exposición de una capa fotosensible que contiene un colorante absorbente de rayos infrarrojos, un ácido
latente de Bronsted, una resina de resol y una resina de novolak, con un modelo de imagen, mediante
por ejemplo, un láser de semiconductores (documento JP-A-7-20629). Además también se ha descrito
(documento JP-A-7-271029) la misma técnica en la que se usa un compuesto de s-triacina, en lugar del
ácido latente de Bronsted anteriormente indicado.
Sin embargo, estos métodos convencionales no eran necesariamente adecuados en su rendimiento desde
un punto de vista práctico. Normalmente, era necesario tener una etapa de tratamiento térmico después
de la fase de exposición del proceso de fabricación de la placa. Esta etapa extra de tratamiento térmico
daba como resultado un mayor tiempo de operación además del requisito de espacio extra para los aparatos y de los mayores costes de equipo. Además, como la temperatura de la etapa de calentamiento afecta
significativamente a la sensibilidad, resistencia a la impresión y a la resistencia quı́mica, se requerı́a que
los usuarios del proceso controlaran estrictamente la temperatura.
Para superar tales problemas, en el documento JP-A-8-207013 se ha propuesto una placa positiva
fotosensible de impresión litográfica del tipo de conversión térmica, que no requiere tratamiento térmico
alguno. También se ha descrito otra técnica en la que se forma una capa fotosensible insoluble en un
producto revelador alcalino. La capa está compuesta por una resina de novolak, un colorante de cianina
y un agente de supresión de solubilidad, tal como un éter sulfónico. La capa se irradia con un láser de
forma que la capa fotosensible se hace soluble cuando se irradia, con lo que se forma una imagen. Una
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técnica similar a esta se ha descrito en el documento WO97/39384.
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Como se ha mencionado anteriormente, también existe un método de preparación de una placa positiva fotosensible de impresión litográfica mediante exposición con un láser. El método convencional
emplea una capa fotosensible en la que un generador fotoácido se mezcla con un agente fotosensible y la
energı́a procedente de una luz láser se usa para producir un cambio quı́mico del aditivo, con lo que se
aumenta la solubilidad de la capa fotosensible. Una técnica alternativa se ha propuesto en el documento
JP-A-8-207013, que corresponde a la Solicitud de Patente de Estados Unidos con No. de Serie 08/906.258,
presentada el dı́a 5 de Agosto de 1997, en la que la capa que forma una placa positiva fotosensible de
impresión litográfica es tal que su solubilidad en los productos alcalinos aumenta como resultado del calor
generado por irradiación con la propia luz láser. En este caso, no se produce sustancialmente cambio
quı́mico cuando se aumenta la solubilidad en los productos alcalinos de la capa fotosensible. Esta técnica
alternativa es altamente ventajosa porque cuando se usa un compuesto insensible a los rayos ultravioleta
(UV) como agente supresor de solubilidad u otro aditivo, la capa fotosensible será insensible a los rayos
UV, de forma que la operación se puede realizar incluso bajo luz blanca.
Hay inconvenientes cuando se forma una imagen positiva por exposición con láser y se provoca un
cambio quı́mico. El tiempo de irradiación de un punto sobre la capa fotosensible con la luz láser es
extremadamente corto y, por consiguiente, la fotosensibilidad es el problema.
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Para acelerar el cambio quı́mico y para aumentar la fotosensibilidad, se prefiere una irradiación con
una luz de longitud de onda corta que tenga gran cantidad de energı́a. Sin embargo, este enfoque presenta
un problema, porque no hay disponibles fácilmente generadores de láser que tengan una corta longitud
de onda acoplada con gran cantidad de energı́a.
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Además, cuando el cambio quı́mico se produce por el calor convertido procedente de la energı́a luminosa, se producen problemas porque el tiempo de irradiación es extremadamente corto. Si se aumenta
la cantidad añadida de material de conversión foto-térmica para aumentar la cantidad de conversión
térmica, la luz se absorbe alrededor de la superficie de la capa fotosensible, pero en la capa interna disminuye la luz, con lo que la reactividad será extremadamente mediocre. Como resultado, la velocidad de
disolución de la capa disminuirá según se avanza hacia la parte inferior de la pelı́cula, de forma que el
tiempo de disolución del total de la porción irradiada no se volverá a acelerar y habrá una limitación en
el aumento de la sensibilidad, lo que es problemático.
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Una forma de superar este problema es hacer fina la capa fotosensible. Sin embargo, cuando la capa
fotosensible es del tipo de conversión térmica, si la capa se hace demasiado fina crece la cantidad de
difusión térmica hacia el soporte y disminuye la sensibilidad.
Además cuando se usa una gran cantidad de agente supresor de solubilidad o se usa un agente de
supresión intensa de solubilidad, se disminuye la solubilidad en los productos alcalinos del total de la capa
fotosensible, con lo que es necesario hacer alta la irradiación de energı́a de luz láser y, por consiguiente, el
tiempo de exposición tiende a ser largo, lo que es un inconveniente. Además, como la luz disminuye en la
capa interior, la reactividad será extremadamente mediocre y, como resultado, la velocidad de disolución
disminuirá según se avanza hacia la parte inferior de la capa de la pelı́cula, con lo que el tiempo de
disolución del total de la porción irradiada no se volverá a acelerar y habrá una limitación en el aumento
de la sensibilidad.
Por el contrario, cuando la cantidad de agente supresor de solubilidad es pequeña, o cuando se usa
un agente débil de supresión de solubilidad, la resistencia de toda la capa fotosensible tiende a ser baja
y existen problemas en la resistencia a la impresión y en la propiedad de conservación.
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Además, la propiedad de conservación, la resistencia a la impresión y la resistencia quı́mica están influidas significativamente por el deterioro debido al envejecimiento o por las condiciones de conservación.
Particularmente, por ejemplo, cuando se cambia el peso molecular de los componentes aglutinantes de
un material fotosensible para mejorar la resistencia quı́mica o la resistencia a la impresión, la solubilidad
en los productos alcalinos será mediocre, con lo que se deteriorará la propiedad de revelado. Como se
ha mencionado anteriormente, la resistencia quı́mica, la propiedad de conservación y la resistencia a la
impresión siempre están en relación antinómica con respecto a las caracterı́sticas de rendimiento, tales
como la sensibilidad o la propiedad de revelado y no se satisfacen las caracterı́sticas de rendimiento requeridas para la placa positiva fotosensible de impresión litográfica.
Resumen de la invención
El objeto de la presente invención es proporcionar una placa positiva fotosensible de impresión li3
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tográfica que se pueda exponer mediante exploración con un rayo de luz láser, placa que se caracteriza
por una alta sensibilidad y una adecuada propiedad de conservación, una excelente solubilidad de la
porción expuesta de la capa fotosensible, en el momento del revelado, una capacidad de desarrollar una
imagen clara y una excelente resistencia a la impresión y resistencia quı́mica. La invención también
incluye un método para producir la placa y un método para formar una imagen positiva, empleando la
placa positiva fotosensible de impresión litográfica de la invención. En este documento, el término de
placa positiva fotosensible de impresión litográfica en condición de no expuesta significa generalmente
que es un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica.
Otro objeto de la presente invención es proporcionar una placa positiva fotosensible de impresión
litográfica que sea capaz de formar una imagen usando una luz láser de larga longitud de onda que tenga
una longitud de onda dentro del intervalo de 600 nm a 1.300 nm.
Otro objeto de la presente invención es proporcionar una placa positiva fotosensible de impresión
litográfica que sea capaz de formar una imagen usando una luz láser y que tenga una propiedad uniforme
de revelado en el total de la placa.
Otro objeto de la presente invención es proporcionar un método para producir dicha placa positiva
fotosensible de impresión litográfica con un bajo coste de tratamiento por placa, mediante disminución
del espacio para tratamiento.
Otro objeto más de la presente invención es proporcionar un método para producir una placa positiva
fotosensible de impresión litográfica que tenga caracterı́sticas uniformes de la capa fotosensible y que sea
capaz de imprimir una imagen bella.
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La presente invención se ha elaborado como resultado de extensos estudios para conseguir los objetivos
anteriormente indicados. Más particularmente, el objeto de la presente invención es proporcionar:
(1) Una placa positiva fotosensible de impresión litográfica que comprenda un material fotosensible
que contiene un material de conversión foto-térmica que tiene una banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y una resina soluble en álcali, en la que
la velocidad de disolución de dicho material fotosensible, en condiciones de no expuesto, en un revelador
alcalino aumenta desde la parte superficial o superior de dicho material fotosensible según se avanza hacia
la parte inferior de dicho material fotosensible.
(2) Un método para producir una placa positiva fotosensible de impresión litográfica que comprende:
aplicar un recubrimiento de una composición fotosensible que contiene un material de conversión fototérmica que tiene una banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de
600 nm a 1.300 nm y una resina soluble en álcali, sobre un soporte, para formar una capa de material
fotosensible y difundir un compuesto que tiene un grupo polar, desde la superficie del material fotosensible.
(3) Un método para producir una placa positiva fotosensible de impresión litográfica que comprende:
aplicar un recubrimiento de una composición fotosensible que contiene un material de conversión fototérmica que tiene una banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de
600 nm a 1.300 nm y una resina soluble en álcali, sobre un soporte, para formar un material fotosensible,
solapar dicho material fotosensible con un material protector que contiene humedad y mantener la capa
fotosensible, solapada, bajo condiciones de calefacción.
(4) Un método para producir una placa positiva fotosensible de impresión litográfica, en el que una
composición que comprende un material de conversión foto-térmica que tiene una banda de absorción
comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y una resina soluble
en álcali, se aplica sobre un soporte para formar una capa de material fotosensible que, posteriormente,
se solapa con un material protector, para formar un tamaño predeterminado de placa de impresión litográfica, método en el que se apilan varias de dichas placas de impresión litográfica, una sobre otra y en
el que se aplica un material aislante calorı́fugo a casi la totalidad de las superficies superior y de fondo
de la misma y el apilado se mantiene bajo un estado de calentamiento,
(5) Un método para producir una placa positiva fotosensible de impresión litográfica en el que una
composición fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica que tiene una banda de
absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y una resina
soluble en álcali, se aplica sobre un soporte para formar una capa de material fotosensible y se realiza
un proceso de secado para secar a una temperatura comprendida dentro del intervalo de 20◦C a 100◦C
durante un tiempo predeterminado, anterior a la difusión de la superficie del material fotosensible y
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(6) Un método para formar una imagen positiva, método que comprende la exploración y la irradiación de la placa positiva fotosensible de impresión litográfica como se define en (1), con una luz láser
que tiene una longitud de onda comprendida en el intervalo de 600 nm a 1.300 nm, para proyectar una
imagen para exposición, operación que va seguida por el revelado con un revelador alcalino.
Breve descripción de los dibujos
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La figura 1 es un gráfico (1) que ilustra la velocidad de disolución de la capa fotosensible de la placa
positiva fotosensible de impresión litográfica de la presente invención.
La curva de la muestra 1 representa datos de velocidad de disolución para la placa fotosensible de
impresión litográfica fabricada de acuerdo con el ejemplo A6. La curva de la muestra 2 describe datos de
velocidad de disolución para la placa de impresión fabricada de acuerdo con el ejemplo A5.
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La figura 2 es un gráfico (2) que ilustra la velocidad de disolución de la capa fotosensible de la placa
positiva fotosensible de impresión litográfica de la presente invención.
La figura 3 es un gráfico (3) que ilustra la velocidad de disolución de la capa fotosensible de la placa
positiva fotosensible de impresión litográfica de la presente invención. El gráfico de la figura 3 es idéntico
al gráfico de la figura 1, pero el gráfico se ha usado para deducir diferentes puntos de datos, para calcular
el gradiente S3.
La figura 4 es un dibujo esquemático que ilustra un modo de ejecución del proceso de secado a utilizar
en la presente invención.
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La figura 5 es un gráfico que ilustra la cantidad de desplazamiento del espesor de la pelı́cula recubierta
y la temperatura de la superficie recubierta, en el proceso de secado a usar en la presente invención.
La Figura 6 es una sección longitudinal que ilustra el método de mantenimiento bajo calentamiento
(proceso de envejecimiento) a usar en la presente invención.
La figura 7 es una sección longitudinal que ilustra otro ejemplo de método de mantenimiento bajo
calentamiento (proceso de envejecimiento) a usar en la presente invención.
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La figura 8 es un dibujo esquemático que ilustra un modo de ejecución del proceso de tratamiento
bajo calentamiento a usar en la presente invención, e ilustra placas de impresión litográfica y materiales
protectores apilados, uno sobre otro y cubiertos con un material impermeable para la humedad.
La figura 9 es un dibujo esquemático que ilustra un modo de ejecución del proceso de tratamiento bajo
calentamiento a usar en la presente invención, e ilustra una placa de impresión litográfica y un material
protector, enrollados en una bobina y cubiertos con un material impermeable para la humedad.
La figura 10 es un dibujo esquemático que ilustra un modo de ejecución del proceso de tratamiento
bajo calentamiento a usar en la presente invención, e ilustra placas de impresión litográfica y materiales
protectores, apilados uno sobre otro y cubiertos con un generador de calor de forma de lámina.
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La figura 11 es un dibujo esquemático que ilustra un modo de ejecución del proceso de tratamiento
bajo calentamiento a usar en la presente invención, e ilustra una cámara de envejecimiento equipada con
un aparato de circulación de aire, para realizar un tratamiento de envejecimiento de un apilado de placas
de impresión litográfica y de materiales protectores.
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La figura 12 es un dibujo esquemático que ilustra un modo de ejecución del proceso de tratamiento
bajo calentamiento a usar en la presente invención, e ilustra un apilado de placas de impresión litográfica
y de materiales protectores, que tiene un material aislante calorı́fugo aplicado en las superficies superior
y de fondo del mismo.
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La figura 13 es un dibujo esquemático que ilustra un modo de ejecución del proceso de tratamiento
bajo calentamiento a usar en la presente invención, e ilustra el estado en el que una placa de impresión
litográfica se enrolla en una bobina junto con un material protector y se usa un material aislante calorı́fugo para cobertura del núcleo de la bobina y para cobertura de la periferia exterior de la bobina.
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La figura 14 es un gráfico que ilustra la distribución de temperaturas en el ejemplo E1 de referencia.
La figura 15 es un gráfico que ilustra la distribución de temperaturas en el ejemplo E2 de referencia.
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La figura 16 es un gráfico que ilustra la distribución de temperaturas en el ejemplo E3 de referencia.
Explicación sobre los números de referencia usados en los dibujos
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1: Placa positiva fotosensible de impresión litográfica
2: Material protector
3: Plataforma
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4: Material impermeable contra la humedad
5: Material aislante calorı́fugo
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6: Material de núcleo de bobina
7: Cámara de envejecimiento
8: Aparato de circulación de aire
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9: Generador de calor con forma de lámina
11: Primera etapa de secado
12: Segunda etapa de secado
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13: Boquilla con ranura para secado con aire caliente
14: Rodillo transportador
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15: Barra de aluminio (placa positiva fotosensible de impresión litográfica antes del corte y después de
que la capa fotosensible se ha aplicado recubriendo a la misma)
Descripción detallada de la invención
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Un objeto de la presente invención es proporcionar una placa positiva fotosensible de impresión litográfica que se pueda exponer usando rayos de la zona inicial del infrarrojo que tienen una longitud de
onda comprendida en el intervalo de 600 nm a 1.300 nm.
Tal placa positiva fotosensible de impresión litográfica comprende un material fotosensible formado
mediante recubrimiento de una composición que comprende un material de conversión tofo-térmica que
tiene una banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a
1.300 nm y una resina soluble en álcali, sobre un soporte.
El soporte sobre el que se formará una capa fotosensible que comprende una composición fotosensible,
puede ser, por ejemplo, una placa metálica de aluminio, cinc, acero, cobre o una aleación de los mismos,
una placa metálica que tenga, por ejemplo, cromo, cinc, cobre, nı́quel, aluminio o hierro, depositado
electrolı́ticamente o depositado por vapor sobre la misma, una lámina de papel, una pelı́cula de plástico,
una lámina de vidrio, una lámina de papel recubierto con resina, una lámina de papel que tenga una
hoja metálica tal como hoja de aluminio pegada a la misma, o una pelı́cula de plástico que tiene un
tratamiento hidrófilo aplicado a la misma. Se prefiere una placa de aluminio.
Como soporte para la placa fotosensible de impresión litográfica de la presente invención se prefiere
emplear una placa de aluminio a la que se ha aplicado tratamiento de grano, mediante pulimento con
cepillo o mediante ataque electrolı́tico en una solución de ácido clorhı́drico o de ácido nı́trico; a la que
también se ha aplicado un tratamiento de anodizado, en un disolvente de ácido sulfúrico y, si es necesario,
a la que también se ha aplicado un tratamiento superficial tal como un tratamiento de sellado de poros.
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Como material de conversión foto-térmica para la composición fotosensible de la presente invención,
se emplea un material que tiene una banda de absorción comprendida en un intervalo de longitudes de
onda de 600 nm a 1.300 nm, preferiblemente, de 650 nm a 1.100 nm y que absorbe una luz con longitud de
onda comprendida en el intervalo de 600 nm a 1.300 nm y la convierte en calor. El material de conversión
foto-térmica es un compuesto que absorbe eficazmente la luz que tiene una longitud de onda comprendida en el intervalo de 600 nm a 1.300 nm, mientras que no absorbe sustancialmente, o absorbe sin ser
sustancialmente sensible, a la luz en una región ultravioleta y que no producirá modificación quı́mica de
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la composición fotosensible por un rayo ultravioleta débil que pueda estar contenido en la luz blanca.
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El material de conversión foto-térmica puede ser un colorante, un pigmento orgánico o un pigmento inorgánico. Especı́ficamente, se puede mencionar un pigmento orgánico tal como negro de humo,
monóxido de titanio u óxido férrico; un pigmento de ftalocianina, tal como naftalocianina; o un colorante
que tiene una banda de absorción en la región de la zona inicial del infrarrojo, como se describe en,
por ejemplo, “Special Function Dye” (“Colorante de Función Especial”) (compilado por Ikemori y Hashiratani, 1986, publicado por Kabushiki Kaisha CMC), “Chemistry of Functional Dyes” (“Quı́mica de
Colorantes Funcionales”) (compilado por Higaki, 1981, publicado por Kabushiki Kaisha CMC), o “Dye
Handbook” (“Manual de Colorantes”) (compilado por Oga, Hirashima, Matsuoka y Kitao, publicado por
Kodansha).
Como material de conversión foto-térmica, a continuación se indican ejemplos especı́ficos del colorante
o pigmento que tiene una banda de absorción en la región de la zona inicial del infrarrojo.
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TABLA 1
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Estos colorantes se pueden sintetizar de acuerdo con métodos convencionales. Los siguientes colorantes adecuados adicionales pueden estar disponibles comercialmente.
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S-62 colorante de polimetino: IR-820B (fabricado por Nipón Kayaku K.K.)
S-63 colorante de nigrosina: Índice de Color Negro Disolvente 5
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S-64 colorante de nigrosina: Índice de Color Negro Disolvente 7
S-65 colorante de nigrosina: Índice de Color Negro Ácido 2
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S-66 negro de humo: MA-100 (fabricado por Mitsubishi Chemical Corporation)
S-67 monóxido de titanio: Negro de Titanio 13M (fabricado por Mitsubishi Material K.K.)
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S-68 monóxido de titanio: Negro de Titanio 12S (fabricado por Mitsubishi Material K.K.)
Como material de conversión foto-térmica a usar en la presente invención, se prefiere un colorante de
cianina, un colorante de polimetina, un colorante de escuarilio, un colorante de croconio, un colorante
de pirilio, un colorante de tiopirilio, un compuesto de tipo de ftalocianina y un compuesto que tenga un
esqueleto de N,N-diariliminio. Particularmente, son más preferidos un colorante de cianina, un colorante
de polimetina, un colorante de pirilio, un colorante de tiopirilio y un compuesto que tenga un esqueleto
de N,N-diariliminio.
Además, el material de conversión foto-térmica preferido varı́a dependiendo de la longitud de onda
del láser. Por ejemplo, en el caso de uso de una luz láser que tenga una longitud de onda en las cercanı́as
de los 830 nm, se prefiere particularmente un colorante de cianina y lo más preferido es un compuesto
representado por la siguiente fórmula general (I).
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donde cada uno de los anillos C1 y C2 , que son independientes entre sı́, es un anillo de benceno o un anillo
de naftaleno que pueden tener un sustituyente, donde cada uno de Y1 e Y2 , que son independientes entre
sı́, es un grupo dialquilmetileno o un átomo de azufre, cada uno de R1 y R2 , que son independientes entre
sı́, es un grupo hidrocarburo que puede tener un sustituyente, L1 es un grupo tri-, penta- o hepta-metino
que puede tener un sustituyente, siempre que dos sustituyentes de dichos grupos de penta- o hepta-metino
se puedan unir entre sı́ para formar un anillo de cicloalqueno C5−7 y X’ es un contra anión.
Como sustituyente para cada uno de R1 y R2 en la fórmula (1), se prefiere un grupo alcoxi, un grupo
fenoxi, un grupo hidroxilo o un grupo fenilo. Como sustituyente para L1 , se prefiere un grupo alquilo,
un grupo amino o un átomo de halógeno. Como sustituyente para cada uno de los anillos C1 y C2 , se
prefiere un grupo alquilo, un grupo alcoxi, un grupo nitro o un átomo de halógeno.
Además, en el caso de uso de una luz láser que tenga una longitud de onda en las cercanı́as de los
1.064 nm, se prefiere particularmente un compuesto que tenga un esqueleto de N,N-diariliminio y lo más
preferido es un compuesto representado por la siguiente fórmula general (IIa) o (IIb).
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donde cada uno de los anillos C3 a C6 , que son independientes entre sı́, es un anillo de benceno que
puede tener un sustituyente, X’ es un contra anión y el anillo de ciclohexadieno al que se unen átomos
de nitrógeno puede tener un sustituyente.
En la fórmula (IIa) y en la fórmula (IIb) como sustituyente para cada uno de C3 a C6 , se prefiere
un grupo alcoxi, un grupo ariloxi, un grupo dialquilamino, un grupo diarilamino o un grupo alquilarilamino y entre estos, se prefiere particularmente un grupo dialquilamino, un grupo diarilamino o un grupo
alquilarilamino. Como posición de sustitución se prefiere la posición para-. Además, al menos tres de
los anillos C3 a C6 tienen los sustituyentes mencionados anteriormente y, más preferiblemente, todos los
anillos C3 a C6 tienen sustituyentes. Como sustituyente para el anillo de ciclohexadieno se prefiere un
grupo alquilo o un átomo de halógeno.
La proporción de tal material de conversión foto-térmica en la composición positiva fotosensible de la
presente invención es, preferiblemente, al menos un 0,1 % en peso, más preferiblemente, al menos un 1 %
en peso, de forma particularmente preferible, al menos un 2 % en peso y preferiblemente también, un 50 %
en peso como máximo, más preferiblemente un 30 % en peso como máximo y de forma particularmente
preferible un 20 % en peso como máximo.
La resina soluble en álcali a usar como el segundo componente de la composición fotosensible de la
presente invención, puede ser cualquier resina que sea soluble en un revelador alcalino y, preferiblemente,
una resina que contenga al menos una resina de novolak o una resina de polivinil fenol.
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Además, la resina soluble en álcali puede ser una mezcla de al menos dos clases y la resina soluble
en álcali se puede mezclar con una resina insoluble en elemento alcalino, dentro de un intervalo que no
perjudique a la solubilidad del material fotosensible en el revelador alcalino.
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La resina de novolak puede ser una resina preparada mediante policondensación de al menos un miembro seleccionado de hidrocarburos aromáticos tales como fenol, m-cresol, o-cresol, p-cresol, 2,5-xilenol,
3,5-xilenol, resorcinol, pirogalol, bisfenol, bisfenol-A, trisfenol, o-etilfenol, m-etilfenol, p-etilfenol, propilfenol, n-butilfenol, t-butilfenol, 1-naftol y 2-naftol, con al menos un aldehı́do o cetona, seleccionados de
aldehı́dos tales como formaldehı́do, acetaldehı́do, propionaldehı́do, benzaldehı́do y furfural y cetonas tales
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como acetona, metil etil cetona y metil isobutil cetona, en presencia de un catalizador ácido.
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En lugar del formaldehı́do y del acetaldehı́do se pueden usar, respectivamente, paraformaldehı́do y
paraldehı́do. El peso molecular medio ponderal calculado como poliestireno, medido mediante cromatografı́a de permeación de gel (denominado en lo sucesivo en este documento simplemente como GPC) de la
resina de novolak (el peso molecular medio ponderal por medición de GPC se denominará en lo sucesivo
como PM) es, preferiblemente, de 1.000 a 15.000, de forma particularmente preferida, de 1.500 a 10.000.
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Más preferiblemente, el hidrocarburo aromático de la resina de novolak puede ser una resina de novolak obtenida mediante policondensación de al menos un fenol seleccionado de: fenol, o-cresol, m-cresol,
p-cresol, 2,5-xilenol, 3,5-xilenol y resorcinol, con al menos un miembro seleccionado de aldehı́dos, tales
como formaldehı́do, acetaldehı́do y propionaldehı́do.
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Entre estos, se prefiere una resina de novolak que es un producto de policondensación de un aldehı́do
con un fenol que comprende m-cresol/p-cresol/2,5-xilenol/3,5-xilenol/resorcinol en una proporción molar de mezclado de 70 a 100/de 0 a 30/de 0 a 20/de 0 a 20/de 0 a 20, o con un fenol que comprende
fenol/m-cresol/p-cresol con una proporción molar de mezclado de 10 a 100/de 0 a 60/de 0 a 40. Entre
los aldehı́dos se prefiere particularmente el formaldehı́do. Como se ha expuesto en los ejemplos, tanto
en el de la invención cono en el comparativo, la proporción molar de m-cresol/p-cresol/fenol del novolak
usado es 3:2:5.
La resina de polivinil fenol puede ser un polı́mero de uno o varios hidroxiestirenos, tales como o-hidroxiestireno, m-hidroxiestireno, p-hidroxiestireno, 2-(o-hidroxifenil)propileno, 2-(mhidroxifenil)propileno y 2-(p-hidroxifenil)propileno. Tal hidroxiestireno puede tener un sustituyente tal
como un halógeno tal como cloro, bromo yodo o flúor, o un sustituyente alquilo C1−4 , en su anillo
aromático. Por consiguiente, el polivinil fenol puede ser un polivinil fenol que puede tener un halógeno o
un sustituyente alquilo C1−4 , en su anillo aromático.
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Normalmente, La resina de polivinil fenol está preparada mediante polimerización de uno o varios
hidroxiestirenos que pueden tener un sustituyente en presencia de un iniciador de polimerización radical
o de un iniciador de polimerización catiónica. Tal resina de polivinil fenol puede ser la sometida a hidrogenación parcial.
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También puede ser una resina que tenga parte de grupos -OH en un polivinil fenol protegida por,
por ejemplo, grupos T-butoxicarbonilo, grupos piranilo o grupos furanilo. Preferiblemente, el PM de la
resina de polivinil fenol es de 1.000 a 100.000 y particularmente preferida es de 1.500 a 50.000.
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Más preferiblemente, la resina de polivinil fenol puede ser un polivinil fenol que puede tener un sustituyente alquilo C1−4 , en su anillo aromático, de forma particularmente preferida, puede ser un polivinil
fenol no sustituido.
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Cuando el PM de la resina de novolak indicado anteriormente o de la resina de polivinil fenol es menor
que el intervalo indicado, ninguna pelı́cula de recubrimiento adecuada tiende a ser obtenible; y cuando
dicho PM excede de dicho intervalo indicado, la solubilidad de la porción no expuesta en un revelador
alcalino tiende a ser pequeña, con lo que se tiende a que difı́cilmente se pueda obtener un modelo.
Entre las resinas anteriormente indicadas, se prefiere particularmente una resina de novolak.
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Preferiblemente, la proporción de tal resina en la composición positiva fotosensible a usar en la presente invención es de al menos un 40 %, más preferiblemente, al menos un 60 % y preferiblemente, un
95 % como máximo y más preferiblemente, un 90 % como máximo, siendo una proporción en peso.
Como se usa en este documento, una “capa fotosensible” o un “material fotosensible” comprende al
menos un material de conversión foto-térmica que tiene una banda de absorción de una longitud de onda
comprendida en un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y una resina soluble en álcali.
Al material fotosensible a usar en la presente invención se puede incluir un tercer componente. El
tercer componente es un agente supresor de solubilidad capaz de disminuir la velocidad de disolución en
un revelador alcalino, de una mezcla que comprende el material mencionado anteriormente de conversión
foto-térmica y la resina soluble en álcali mencionada anteriormente. (De aquı́ en adelante, el tercer componente se denominará simplemente como agente supresor de solubilidad):
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Los agentes supresores de solubilidad a usar en la presente invención incluyen un éster de ácido
sulfónico, un éster de ácido fosfórico, un éster de ácido carboxı́lico aromático, una disulfona aromática,
un anhı́drido carboxı́lico, una cetona aromática, un aldehı́do aromático, una amina aromática, un compuesto de éter aromático o un compuesto que tiene un esqueleto de triarilmetano. Además, un colorante
ácido de color desarrollable que tiene un esqueleto de lactona, un esqueleto de N,N-diarilamida o un esqueleto de diarilmetilimino, o un colorante básico de color desarrollable que tiene un esqueleto de lactona,
un esqueleto de tiolactona o un esqueleto de sulfolactona.
Además, como agente supresor de solubilidad se puede mencionar un agente superficialmente activo
y se prefiere un agente no iónico superficialmente activo, tal como un polietilenglicol, un copolı́mero
en bloque de polietilenglicol/polipropilenglicol, un éter alquı́lico de polietilenglicol, un éter alquı́lico de
polietilenglicol/polipropilenglicol, un alquilfenil éster de polietilenglicol, un éster de ácido graso de polietilenglicol, una alquilamina de polietilenglicol, un alquil amino éter de polietilenglicol, un éster de ácido
graso de glicerina o un producto de adición de óxido de polietileno del mismo, un éster de ácido graso de
sorbitán o un producto de adición de óxido de polietileno del mismo, un éster de ácido graso de sorbitol
o un producto de adición de óxido de polietileno del mismo, un éster de ácido graso de pentaeritrita
o un producto de adición de óxido de polietileno del mismo, o un éster de ácido graso de poliglicerol.
Preferiblemente, el agente no iónico superficialmente activo tiene un valor de HLB de al menos 8, de
forma particularmente preferida tiene un valor de HLB de al menos 10.
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De entre estos, como agente supresor de solubilidad de la presente invención, se prefiere un éster de
ácido sulfónico o el agente no iónico superficialmente activo que tiene un valor de HLB de al menos 10, tal
como un polietilenglicol, un copolı́mero en bloque de polietilenglicol/polipropilenglicol, un éter alquı́lico
de polietilenglicol, un alquil fenil éter de polietilenglicol, un éster de ácido graso de polietilenglicol, un
éster de ácido graso de glicerol o un producto de adición de óxido de polietileno del mismo, un éster de
ácido graso de sorbitán o un producto de adición de óxido de polietileno del mismo, un éster de ácido
graso de sorbitol o un producto de adición de óxido de polietileno del mismo, un éster de ácido graso de
pentaeritrita o un éster de ácido graso de poliglicerol. Además, el colorante ácido de color desarrollable
que tiene un esqueleto de lactona y que se puede usar como un agente de exposición de formación de
imágenes, también tiene un efecto supresor de solubilidad.
De entre tales agentes supresores de solubilidad, se prefiere un compuesto de éster de ácido sulfónico
y un compuesto que tiene un esqueleto de triarilmetano y lo más preferido es un éster de ácido sulfónico
que tiene un esqueleto de naftaleno.
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Además, también se puede usar, de forma preferida, el compuesto mencionado anteriormente que
tiene un efecto supresor de solubilidad y que tiene parte de grupos hidroxilo o grupos carboxilo que están
contenidos en la resina soluble en álcali, unidos al mismo mediante enlace éster. En este caso, se considera
que la parte de resina y la parte de agente supresor de solubilidad coexisten en una molécula. Entre los
compuestos que tienen la parte de agente supresor de solubilidad en una molécula de resina soluble en
álcali, se prefiere uno en el que la resina soluble en álcali tenga grupos hidroxilo fenólicos y al menos
parte de dichos grupos hidroxilo fenólicos esté esterificada por un compuesto de ácido sulfónico.
El mecanismo del agente supresor de solubilidad no está necesariamente claro. Sin embargo, se ha
considerado lo siguiente. Particularmente, la capa fotosensible de la placa positiva fotosensible de impresión litográfica de la presente invención tiene como caracterı́sticas que se disuelve en un revelador
alcalino y que la solubilidad es baja antes de la irradiación con luz láser y es alta después de dicha
irradiación. El material fotosensible a usar en la presente invención comprende una resina soluble en
álcali, tal como una resina de novolak o una resina de polivinil fenol y la resina soluble en álcali tiene
grupos polares tales como grupos hidroxilo fenólicos. Se ha sugerido que la resina soluble en álcali puede
tener conformación espacial, donde los grupos polares pueden interactuar entre sı́, con lo que la fuerza
intermolecular entre moléculas de resina será grande, o puede tener una conformación espacial especı́fica
en la que los sustituyentes que sufrirán reacción de neutralización con un elemento alcalino, tales como
los grupos carboxı́licos o los grupos hidroxilo fenólicos, están cubiertos con otra parte de las moléculas
de resina y, como resultado, la velocidad de reacción para el revelador alcalino tiende a ser baja.
En el caso en que el agente supresor de solubilidad se añada a tal resina soluble en álcali, la solubilidad
del material fotosensible en un revelador alcalino tiende a ser baja en comparación con el caso en el que
no se agrega agente supresor de solubilidad alguno. Se cree que la solubilidad es baja porque la fuerza
intermolecular entre las moléculas de resina se intensifica por grupos polares de la molécula del agente
supresor de solubilidad, además, la fuerza de unión se intensifica por interacción de los grupos polares
de las moléculas del agente supresor de solubilidad con los grupos polares de la resina soluble en álcali,
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tal como un enlace de hidrógeno. Alternativa o simultáneamente, la resina soluble en álcali puede tener
una conformación espacial en la que la fuerza intermolecular entre las moléculas de resina aumenta como
resultado de cierta estructura especı́fica de las moléculas del agente supresor de solubilidad, o el propio
agente supresor de solubilidad puede tener una solubilidad baja en un revelador alcalino.
5
El material de conversión foto-térmica, la resina soluble en álcali y el agente supresor de solubilidad,
mencionados anteriormente, son componentes básicos para el material fotosensible a usar en la presente
invención y la placa fotosensible de impresión litográfica de la presente invención puede contener, dentro
de un intervalo que no perjudique a sus rendimientos, diversos aditivos en la capa fotosensible.
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Como aditivo, se puede usar un colorante ácido de color desarrollable para mejorar la propiedad de
exposición de formación de imágenes y, particularmente se prefiere usar un compuesto capaz de formar
un complejo de cambio de protones con el grupo hidroxilo fenólico de la resina soluble en álcali.
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Normalmente, es poco probable que se forme dicho complejo de cambio de protones únicamente mezclando el colorante ácido de color desarrollable con la resina soluble en álcali que tiene grupos hidroxilo
fenólicos y, normalmente, se acelera su formación realizando un tratamiento térmico. Se considera que
una porción expuesta con luz láser desarrolla color y que se puede obtener una propiedad excelente de
exposición de formación de imágenes, con base en este principio.
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El colorante ácido de color desarrollable de la presente invención no absorbe luz visible en sı́ mismo, o
absorbe una pequeña cantidad. 100 partes en peso de una resina de novolak fenólica y 10 partes en peso
de un colorante ácido de color desarrollable se disuelven en 1.000 partes en peso de metil cellosolve y la
solución se aplica sobre un soporte, operación que va seguida por un secado a 80◦C durante 2 minutos,
para formar una pelı́cula recubierta de 2,5 µm y cuando se confirme, en la región de la luz visible, una
absorción de al menos 10 veces la absorción del propio colorante ácido de color desarrollable, el colorante
ácido de color desarrollable es aplicable a la presente invención.
Entre los colorantes ácidos de color desarrollable, se prefiere un compuesto que tiene un esqueleto de
lactona y lo que más se prefiere es un compuesto que tiene un esqueleto de la siguiente fórmula (III) en
su molécula.
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donde cada uno de los C7 a C9 es un anillo de benceno o un anillo de naftaleno que puede tener un
sustituyente y los sustituyentes de los C7 y C8 pueden unirse entre sı́ para formar una estructura cı́clica.
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Preferiblemente, en la fórmula (III), el sustituyente en cada uno de los C7 a C9 , es un grupo alquilo,
un átomo de halógeno, un grupo alcoxi que puede tener un sustituyente, un grupo ariloxi que puede tener
un sustituyente, un grupo amino que puede tener un sustituyente, un grupo alquiltio que puede tener un
sustituyente, o un grupo ariltio que puede tener un sustituyente y lo más preferido es que al menos uno
de los C7 y C8 tenga un grupo alcoxi que puede tener un sustituyente, un grupo ariloxi que puede tener
un sustituyente, un grupo amino que puede tener un sustituyente, un grupo alquiltio que puede tener un
sustituyente, o un grupo ariltio que puede tener un sustituyente.
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Además, cuando el caso lo requiere, la capa fotosensible a usar en la presente invención puede contener
un material colorante como un pigmento o un tinte, tal como Victoria Pure Blue (42595), Auramine O
(41000), Catilon Briliant Flavin (básico 13), Rhodamine 6GCP (45160), Rhodamine B (45170), Safranine
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OK70: 100(50240), Erio Grawsin X (42080), Fast Black HB (26150), No 120/Lionol Yellow (21090), Lionol Yellow GRO (21090), Similor First Yellow 8GF (21105), Benzidine Yellow 4T-564D (21095), Shimilor
First Red 4015 (12355), Lionol Red B4401 (15850), Fast Gen Blue TGR-L (74160) ó Lionol Blue SM
(26150). Los números situados entre paréntesis indican el ı́ndice (C.I.) de color.
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El material fotosensible a usar en la presente invención también puede contener un ácido orgánico
que tiene pKa de, preferiblemente, al menos 2, o un anhı́drido de tal ácido orgánico, con el objeto de
mejorar la propiedad de revelado tal como proporcionar una propiedad de bajo revelado, cuando el caso
lo requiere.
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El ácido orgánico o su anhı́drido puede ser, por ejemplo, uno de los descritos por ejemplo en los
documentos JP-A-60-88942, JP-A-63-276048 o JP-A-2-96754. Especı́ficamente, puede ser, por ejemplo, un ácido carboxı́lico saturado alifático tal como ácido glicérico, ácido metilmalónico, ácido dimetilmalónico, ácido propilmalónico, ácido succı́nico, ácido málico, ácido mesotartárico, ácido glutárico,
ácido β-metilglutárico, ácido β,β-dimetilglutárico, ácido β-etilglutárico, ácido β,β-dietilglutárico, ácido
β-propilglutárico, ácido β,β-metilpropilglutárico, ácido pimélico, ácido subérico o ácido sebácico, un
ácido carboxı́lico insaturado alifático tal como ácido maleico, ácido fumárico o ácido glutacónico,
un ácido carboxı́lico saturado carbocı́clico tal como ácido 1,1-ciclobutano dicarboxı́lico, ácido 1,3ciclobutano dicarboxı́lico, ácido 1,1-ciclopentano dibcarboxı́lico, ácido 1,2-ciclopentano dicarboxı́lico,
ácido 1,1-ciclohexano di arboxı́lico, ácido 1,2-ciclohexano dicarboxı́lico, ácido 1,3-ciclohexano dicarboxı́lico ó ácido 1,4-ciclohexano dicarboxı́lico, un ácido carboxı́lico insaturado carbocı́clico tal como
ácido 1,2-ciclohexeno dicarboxı́lico, ácido 2,3-dihidroxibenzoico, ácido 3,4-dimetilbenzoico, ácido 3,4dimetoxibenzoico, ácido 3,5-dimetoxibenzoico, ácido p-toluico, ácido 2-hidroxi-p-toluico, ácido 2-hidroxim-toluico, ácido 2-hidroxi-o-toluico, ácido mandélico, ácido gálico, ácido ftálico, ácido isoftálico ó ácido
tereftálico, o anhı́drido tal como ácido meldrum, ácido ascórbico, ahı́drido succı́nico, anhı́drido glutárico,
anhı́drido maleico, anhı́drido ciclohexeno dicarboxı́lico, anhı́drido ciclohexano dicarboxı́lico o anhı́drido
ftálico.
Entre estos, se prefiere el ácido dicarboxı́lico alifático y el más preferido es el ácido dicarboxı́lico
alicı́clico.
El material fotosensible a usar en la presente invención puede contener un compuesto capaz de reticular la resina soluble en álcali por el efecto del calor (en lo sucesivo denominado algunas veces como
compuesto termo-reticulante). En el caso en que el compuesto termo-reticulante está contenido en el
material fotosensible, mediante tratamiento térmico después de la exposición, la resina soluble en álcali
sufre una reticulación, con lo que se puede mejorar la resistencia quı́mica y la resistencia a la impresión.
El compuesto termo-reticulante a usar en la presente invención puede ser un compuesto capaz de reticular
la resina soluble en álcali, cuando se calienta normalmente a una temperatura de 150◦C a 300◦C.
El compuesto termo-reticulante puede ser un compuesto que contiene nitrógeno y que tiene una
propiedad de termo-reticulación, preferiblemente, un compuesto que contiene un grupo amino. Más
especı́ficamente, puede ser, por ejemplo, un compuesto de amino que tiene, como grupos funcionales,
al menos dos miembros seleccionados de un grupo metilol, un grupo alcoximetilo que es un producto
modificado por condensación de alcohol del mismo y un grupo acetoximetilo. Entre los compuestos
que tienen un grupo amino, se prefiere uno que tenga una estructura heterocı́clica, particularmente una
estructura heterocı́clica que contiene nitrógeno en su estructura y, es más preferido un compuesto que
tenga un esqueleto de melamina, representado por la siguiente fórmula (IV).
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donde cada uno de los R3 a R8 , que son independientes entre sı́, es un grupo -CH2 OU, siempre que U
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sea un átomo de hidrógeno, un grupo alquilo, un grupo alquenilo o un grupo acilo. Además, entre los
compuestos de la fórmula (IV), se prefiere uno que tenga un átomo de hidrógeno o grupo de alquilo C1−4
como U y es ventajoso uno que tenga una proporción de alcoxilación (la proporción (proporción molar)
de U en -CH2 OU, cuando es un grupo alquilo C1−4 , con respecto al total de -CH2 OU, representado por
cada uno de los R3 a R8 ) de al menos un 70 %, preferiblemente, de un 80 % a un 100 %.
Además, también es particularmente ventajoso uno que tiene un átomo de hidrógeno o un grupo
metilo como U y que tiene una proporción de metoxilación (la proporción (proporción molar) de U en
-CH2 OU cuando es un grupo metilo, con respecto al total de -CH2 OU) de un 80 % a un 100 %.
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Especı́ficamente, dicho compuesto de amino puede ser, por ejemplo, un derivado de melamina, tal
como melamina metoxi metilada (por ejemplo, Cymel serie 300 (1) de Mitsui Cytec Company (antigua
Mitsui Cyanamid Company)), un derivado de benzoguanamina, tal como una resina de una mezcla de
metil/etil de benzoguanamina alcoxilada (por ejemplo, Cymel serie 1100 (2) de Mitsui Cytec Company),
un derivado de glicolurilo, tal como una resina de tetrametilol glicolurilo (por ejemplo, Cymel serie 1100
(3) de Mitsui Cytec Company), u otro derivado de resina de urea.
De entre estos, se prefiere particularmente un derivado de melamina.
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El material fotosensible de la presente invención también puede contener, por ejemplo, un tinte, un
pigmento, un agente de mejora de la propiedad de recubrimiento, un agente de mejora del revelado, un
agente de mejora de la adherencia, un agente de mejora de la sensibilidad o un agente oleófilo, además
de los componentes mencionados anteriormente.
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La irradiación del material fotosensible a usar en la presente invención, con un rayo de la zona inicial
del infrarrojo que tenga una longitud de onda comprendida dentro del intervalo de 600 nm a 1.300 nm,
provoca que la velocidad de disolución de la porción expuesta en un revelador alcalino sea alta. Para
aprovechar esta caracterı́stica, se prefiere considerar los siguientes puntos con respecto a la sustancia que
va a estar contenida en el material fotosensible.
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(1) El material fotosensible, incluyendo los compuestos incluidos en el mismo, preferiblemente, no
sufre sustancialmente un cambio quı́mico por irradiación con rayos ultravioleta o rayos visibles (250 nm 600 nm) o con rayos de la zona inicial del infrarrojo (600 nm - 1.300 nm). Con “ningún cambio quı́mico”
se quiere decir que el compuesto no sufre un cambio quı́mico cuando se expone a la luz, pero puede sufrir
un cambio de conformación o un cambio en la interacción de dicho compuesto con otros materiales, por
medio de fuerzas débiles, tales como fuerzas de Van der Waal y enlace de hidrógeno. Por ejemplo, los
compuestos que sufrirán un cambio quı́mico por irradiación por luz, tales como los compuestos generadores foto-ácidos o los compuestos de o-quinonadiacida, pueden actuar como agentes de supresión muy
intensa de solubilidad y, por consiguiente, cuando tal compuesto no está contenido en el material fotosensible, las caracterı́sticas originales de la capa fotosensible de la presente invención (denominado en lo
sucesivo algunas veces como material fotosensible inclinado) son tales que no se impide que la velocidad
de disolución en un revelador alcalino, en condiciones de no expuesta, aumente desde la parte superficial
hacia la parte inferior.
(2) La solubilidad de la capa fotosensible en un revelador alcalino no se cambia sustancialmente por
irradiación con rayos ultravioleta, con lo que la placa fotosensible de impresión litográfica se puede manejar bajo luz blanca, lo que es ventajoso.
Normalmente, la composición fotosensible a usar en la presente invención se prepara disolviendo
los diversos componentes mencionados anteriormente en un disolvente adecuado. El disolvente no está
particularmente limitado, siempre que sea un disolvente que proporcione solubilidad suficiente para los
componentes usados y presente una excelente propiedad de pelı́cula de recubrimiento. Por ejemplo, puede
ser un disolvente de cellosolve, tal como metilcellosolve, etilcellosolve, acetato de metilcellosolve o acetato
de etilcellosolve, un disolvente de propilenglicol, tal como monometil éter de propilenglicol, monoetil éter
de propilenglicol, monobutil éter de propilenglicol, acetato de monometil éter de propilenglicol, acetato
de monoetil éter de propilenglicol, acetato de monobutil éter de propilenglicol o dimetil éter de dipropilenglicol, un disolvente de éster tal como acetato de butilo, acetato de amilo, butirato de etilo, butirato
de butilo, oxalato de dietilo, piruvato de etilo, 2-hidroxi-butirato de etilo, acetoacetato de etilo, lactato
de metilo, lactato de etilo o 3-metoxipropionato de metilo, un disolvente de alcohol tal como heptanol,
hexanol, alcohol de diacetona o alcohol furfurı́lico, un disolvente de cetona tal como ciclohexanona, o
metil amil cetona, un disolvente altamente polar, tal como dimetil formamida, dimetil acetamida, o Nmetil pirrolidona, o una mezcla de disolventes de los mismos, o uno que tiene un hidrocarburo aromático
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añadido al mismo. La proporción del disolvente está, normalmente, dentro de un intervalo de 1 a 20 veces
en una proporción en peso con respecto a la cantidad total de la composición fotosensible.
Entre tales disolventes, se prefiere un disolvente de cellosolve.
5
Como método para aplicar la composición fotosensible sobre la superficie de un soporte, a usarse en
la presente invención, se puede emplear, por ejemplo, un método convencional tal como recubrimiento
rotacional, recubrimiento por laminación, recubrimiento por inmersión, recubrimiento por cuchillo de
aire, recubrimiento por rodillo, recubrimiento por cuchilla o recubrimiento por cortina.
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Capa Fotosensible Inclinada
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El espesor de dicha capa fotosensible es, preferiblemente, de 1 µm a 3 µm, ó de 13 mg/dm2 a 30
mg/dm2 de peso del espesor de pelı́cula, más preferiblemente, de 1 µm a 2 µm ó de 16 mg/dm2 a 28
mg/dm2.
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Con respecto a la placa positiva fotosensible de impresión litográfica, es necesario que la porción no
expuesta mantenga una alta resistencia a los productos alcalinos y que la porción expuesta se pueda
convertir en un estado tal que toda la porción expuesta del material fotosensible se disuelva rápidamente
en un revelador alcalino.
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Para conseguir esto, en la presente invención, se emplea el material fotosensible inclinado. Cuando se
inclina la velocidad de disolución, se puede obtener el siguiente efecto. Esto es, en el caso de exposición
mediante luz láser, la luz disminuye desde la parte superficial hacia la parte inferior de dicho material fotosensible, debido a absorción por un colorante de foto-amplificación. En tal caso, el grado de solubilidad
en elemento alcalino proporcionada por la luz láser al material fotosensible soluble en elemento alcalino,
es directamente proporcional a la cantidad de energı́a absorbida de la luz láser y es inversamente proporcional al grado de resistencia a los productos alcalinos de la capa fotosensible original. Por consiguiente,
con respecto a una capa fotosensible que tiene una resistencia uniforme a los productos alcalinos, antes
de la exposición, en la dirección del espesor, la velocidad de disolución disminuye hacia la parte inferior
de dicho material fotosensible, después de la exposición.
Sin embargo, si la velocidad de disolución se inclina, la parte superficial en la que el grado de conversión de la luz láser en calor es alto, tiene una alta resistencia a los productos alcalinos y la parte
inferior en la que se disminuye la luz láser, originalmente tiene una alta solubilidad. Por consiguiente,
será soluble la parte total de capa de las porciones irradiadas con la luz láser.
Como se usa en este documento, se considera que el término “capa” es un término genérico que incluye tanto productos “monocapa” como productos de “capa múltiple”. Por conveniencia, el término
genérico “capa” se ha usado de forma intercambiable con el término genérico “material” para describir
el recubrimiento fotosensible aplicado al soporte. Sin embargo, la capa o material fotosensible se puede
aplicar al soporte bien como una monocapa o bien como varias capas. Cuando se usa el término “capa”
en el contexto de una capa singular de una realización de múltiples capas, su singularidad es evidente
por el contexto en el que se usa el término.
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Recubrimientos de Múltiples Capas
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Un método de formación de un material fotosensible inclinado es depositar sobre el sustrato una diversidad de capas fotosensibles que tienen solubilidades ligeramente diferentes en un revelador alcalino.
Por ejemplo, cuando se preparan composiciones fotosensibles de cinco capas, que tienen solubilidades
diferentes en un revelador alcalino (denominadas de aquı́ en adelante como A, B, C, D y E) y las solubilidades de las capas A, B, C, D y E en un revelador alcalino son a, b, c, d y e, respectivamente y
cuando a<b<c<d<e, aplicando un recubrimiento de E como la capa más inferior de la capa fotosensible
y, aplicando posteriormente D, C, B y A, siendo esta última la capa superior, se puede obtener la capa
fotosensible inclinada deseada. Las capas fotosensibles a usar para tal recubrimiento múltiple no están
limitadas particularmente siempre que constituyan una diversidad de capas y siempre que se obtenga el
efecto mencionado anteriormente, al menos se prefieren cuatro capas y es más preferido que al menos
sean cinco capas.
Las capas fotosensibles que tienen diferentes solubilidades en un revelador alcalino, se pueden depositar al mismo tiempo, o se pueden depositar de forma sucesiva. Sin embargo, cuando las capas respectivas
son finas, será más difı́cil controlar los interfaces de unión entre ellos y, por consiguiente, se prefiere la
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aplicación simultánea en el caso de al menos tres capas. Como método para conseguir que las solubilidades
de las capas fotosensibles en un revelador alcalino sean diferentes, por ejemplo, se cambia el contenido del
agente supresor de solubilidad, se cambia el tipo de agente supresor de solubilidad, se cambia el contenido
del material de conversión foto-térmica o se cambia el tipo de material de conversión foto-térmica.
5
Además, en el caso de preparación de un material fotosensible inclinado compuesto por una diversidad de capas, el agente supresor de solubilidad puede estar únicamente contenido en la capa superior,
preferiblemente, estará contenido en todas las capas excepto en la capa más baja y lo más preferido es
que esté contenido en todas las capas.
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En el caso de producción de una placa de impresión inclinada mediante recubrimiento múltiple, como
es difı́cil controlar los interfaces, preferiblemente, el material fotosensible inclinado es monocapa. Como
método para formar un material fotosensible inclinado de monocapa, se hace disminuir la concentración
del agente supresor de solubilidad en el material fotosensible, desde la superficie del material fotosensible
hacia la parte más profunda de dicho material fotosensible.
Sin embargo, normalmente, el agente supresor de solubilidad está mezclado con otros componentes
de la composición fotosensible en un disolvente y aplicado recubriendo, con lo que la concentración del
agente supresor de solubilidad es casi la misma en cualquier parte del material fotosensible y, por consiguiente, es imposible preparar un material fotosensible inclinado. Por consiguiente, en el caso en el que
el agente supresor de solubilidad esté mezclado con diferente concentración, será necesaria una operación
especial tal como el mezclado en una máquina de aplicación de recubrimiento, inmediatamente antes de
la aplicación.
Además, es posible aplicar una diversidad de capas fotosensibles que tienen solubilidades diferentes
en un revelador alcalino y destruir sustancialmente los interfaces entre las capas, mediante tratamiento
después de la aplicación, con el fin de obtener formalmente una monocapa. Sin embargo, con este método
también será necesaria una operación especial tal como mantener apropiadamente la miscibilidad dentro
de las capas fotosensibles.
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Con respecto a la placa fotosensible de impresión litográfica de la presente invención, con el objeto de
mejorar la resistencia de la impresión, mejorar la propiedad de revelado y elementos similares, se puede
disponer una capa foto-insensible en el lado superior, en el lado inferior o en ambos lados de la capa
fotosensible de la monocapa o de las capas plurales.
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Secado del Recubrimiento
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A continuación, se explican detalladamente los procesos de secado del material fotosensible y los procesos posteriores, con referencia a un modo preferido de ejecución del proceso de producción de una placa
positiva fotosensible de impresión litográfica que tiene un material fotosensible inclinado de monocapa.
Normalmente, una placa de impresión litográfica que tiene un lı́quido fotosensible aplicado sobre la misma
se somete en primer lugar a un proceso de secado. El proceso de secado ası́ como también un proceso
de mantenimiento bajo calentamiento (denominado de aquı́ en adelante, algunas veces, como proceso de
envejecimiento), que se explicará posteriormente, se pueden realizar de forma continua o por separado.
Por consiguiente, en el caso en que estos dos procesos se ejecuten de forma continua, la demarcación
entre el proceso de secado y el proceso de envejecimiento puede ser imprecisa en algunos casos y en el
caso en que se ejecuten de forma continua, el proceso de difusión de un compuesto que tiene un grupo
polar, desde la superficie del material fotosensible, se denominará como el proceso de envejecimiento y se
distinguirá del proceso anterior a la difusión, que se denominará como el proceso de secado.
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La temperatura del proceso de secado afecta a la temperatura (Tg) de transición vı́trea de la capa
fotosensible completa. Para preparar la capa fotosensible inclinada de la presente invención, preferiblemente, después del secado la temperatura Tg es de al menos 50◦ C, más preferiblemente, al menos 70◦C
y de forma particularmente preferible, al menos 80◦ C. Además, es preferible que la temperatura sea de
120◦C como máximo, más preferiblemente, de 110◦ C como máximo y de forma particularmente preferible,
de 100◦C como máximo. Además, para obtener una capa fotosensible que tenga tal temperatura Tg, la
temperatura de secado es preferiblemente de al menos 20◦C, más preferiblemente, de al menos 25◦C y
normalmente de 100◦ C como máximo, preferiblemente, de 80◦ C como máximo y más preferiblemente de
60◦C como máximo.
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El método más preferido es un método de ajuste de la temperatura del proceso de secado en dos etapas. La figura 4 representa un modo de ejecución del proceso de secado a usar en la presente invención.
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En la parte 11 de la figura 4 (primera etapa de secado), el intervalo de temperaturas y el tiempo de secado
se fijan de manera que el secado se ejecute durante al menos 25 segundos hasta el punto de terminación
del secado a velocidad constante de la capa fotosensible después de la aplicación del recubrimiento. Aquı́,
el punto de terminación del secado a velocidad constante es el tiempo desde la iniciación del secado hasta
que el proceso de evaporación de la pelı́cula aplicada alcanza la etapa de difusión interna determinada.
Prácticamente, como se representa en la figura 5, se obtiene un gráfico que presenta el espesor de pelı́cula
en el tiempo de secado y el punto de terminación del secado a velocidad constante se puede obtener como
el tiempo hasta que el gráfico alcanza el punto de inflexión. La cantidad de disolvente restante en la
terminación de la primera etapa de secado es preferiblemente de un 10 % en peso, más preferiblemente
de un 3 % en peso con respecto al material fotosensible. En el caso en el que el espesor de pelı́cula
del material fotosensible está en un nivel de 15 mg/dm2 a 30 mg/dm2 , la temperatura de secado, en la
primera etapa de secado es, preferiblemente, al menos de 25◦C y, preferiblemente, de 60◦C como máximo
y, más preferiblemente, de 45◦C como máximo. Además, la primera etapa de secado se realiza con una
temperatura máxima que, preferiblemente, es superior en 20◦C, más preferiblemente, en 10◦ C, a la temperatura de transición vı́trea de la resina soluble en álcali que se va a usar.
A continuación, en la etapa de secado presentada en la parte 12 de la figura 4 (segunda etapa de
secado), el disolvente restante es preferiblemente un 8 % en peso como máximo, más preferiblemente un
6 % en peso como máximo, para obtener resistencia del material fotosensible. La temperatura de secado
de la segunda etapa de secado es, preferiblemente, de al menos 40◦ C, más preferiblemente, al menos
45◦C, preferiblemente, de 80◦C como máximo, más preferiblemente de 75◦C como máximo.
En el caso en que las temperaturas de secado de la primera etapa de secado y de la segunda etapa
de secado sean diferentes, la temperatura de la primera etapa de secado es preferiblemente menor que la
temperatura de la segunda etapa de secado.
El Proceso de Envejecimiento
A continuación, se explicará el proceso de envejecimiento.
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En el proceso de envejecimiento, en la capa fotosensible de la placa positiva fotosensible de impresión
litográfica, que tiene la composición fotosensible aplicada sobre la misma y secada, se difunde un compuesto que tiene un grupo polar, desde la superficie del material fotosensible, para producir un material
fotosensible de monocapa que tiene una velocidad de disolución inclinada. Para realizar la difusión, se
prefiere que al menos una cierta cantidad de compuesto que se va difundir se evapore bajo las condiciones
de temperatura de envejecimiento y, por consiguiente, el compuesto tiene un punto de ebullición de, preferiblemente, 200◦C como máximo, más preferiblemente, de 150◦C como máximo y además, el compuesto
tiene un punto de ebullición de al menos 50◦ C, más preferiblemente, de al menos 70◦ C. Preferiblemente,
el peso molecular es de 150 como máximo, más preferiblemente, de 100 como máximo. Como grupo polar
en la molécula, se prefiere un grupo hidroxilo, un grupo carboxilo, un grupo cetona, un grupo aldehı́do
o un grupo éster y lo más preferido es un grupo hidroxilo. Además, como compuesto especı́fico, lo más
preferido es H2 O.
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Como método para realizar la difusión de H2 O (denominado de aquı́ en adelante simplemente como
difusión de agua), se prefiere un método de contacto con una atmósfera que contiene humedad y como
método de contacto con una atmósfera que contiene humedad, se realiza un tratamiento bajo una
atmósfera que tiene una humedad absoluta de normalmente al menos 0,007 kg/kg’, preferiblemente,
al menos 0,018 kg/kg’ y además, preferiblemente, de 0,5 kg/kg’ como máximo, más preferiblemente, de
0,2 kg/kg’ como máximo, durante preferiblemente al menos 10 horas, más preferiblemente, durante un
tiempo de 16 a 32 horas.
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Con el objeto de controlar con precisión la humedad, se controla la temperatura del tratamiento que,
preferiblemente, es de al menos 30◦ C, más preferiblemente, de al menos 40◦C y además, preferiblemente,
de 100◦C como máximo, más preferiblemente, de 80◦ C como máximo y de forma particularmente preferible, de 75◦ C como máximo.
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Producción de una Monocapa Fotosensible
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A continuación, se explicarán especı́ficamente algunos modos preferidos para producir de forma eficaz
un material fotosensible de monocapa que tiene una velocidad de disolución inclinada.
El primer modo preferido es tal que se deposita una composición fotosensible sobre un soporte, se
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seca y se envejece. Durante el proceso de envejecimiento, el soporte que tiene la composición fotosensible
depositada sobre el mismo se solapa con un material protector que tiene un contenido de agua de un 1 %
a un 10 % en peso y el laminado se mantiene bajo calentamiento, con lo que la humedad que se va a
difundir en el material fotosensible se puede suministrar de forma eficaz desde el material protector.
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La forma de la placa de impresión litográfica, en el momento de tratamiento de envejecimiento, no
está limitada particularmente. Por ejemplo, una placa de impresión litográfica, con forma de banda, se
puede suministrar de forma continua a un aparato de tratamiento de envejecimiento para realizar dicho
tratamiento de envejecimiento. Además, la placa de impresión litográfica se puede enrollar una vez en una
bobina, o se puede cortar con un tamaño adecuado y la diversidad de las placas de impresión litográfica
cortadas se puede apilar para realizar el tratamiento de envejecimiento.
Entre estos procedimientos, se prefiere realizar el tratamiento de envejecimiento en la forma de un
apilado de las placas de impresión litográfica con un tamaño predeterminado, con lo que el aparato de
envejecimiento puede ser compacto y se podrá manejar fácilmente la placa de impresión litográfica.
El solapamiento de la placa positiva fotosensible de impresión litográfica con el material protector
no está limitado particularmente, siempre que el material fotosensible de la placa de impresión esté en
contacto con el material protector. Como se representa en la figura 6, las placas 1 de impresión y los
materiales 2 protectores están apilados sobre una plataforma 3 para laminación. Además, como se representa en la figura 7, la placa 1 positiva fotosensible de impresión litográfica y el material 2 protector,
están solapados entre sı́ y enrollados en forma de bobina, sobre un material 4 de núcleo de bobina, para
laminación.
En el caso en que el tratamiento de envejecimiento se ejecute en una forma de una bobina o de una
pila, con el fin de conseguir la condición de una humedad absoluta de 0,007 kg/kg’ a 0,2 kg/kg’, incluso en
la parte interior de la placa de impresión, se prefiere dejar que el material protector intercalado entre las
placas de impresión litográfica contenga una cantidad apropiada de humedad. El contenido de agua del
material protector varı́a dependiendo del material de composición de dicho material protector y en el caso
en que se usa una lámina de papel como material protector, dicho contenido de agua es, preferiblemente,
al menos un 1 % en peso, más preferiblemente, al menos un 3 % en peso y además, es preferible que sea
de un 10 % como máximo, más preferiblemente, de un 7 % como máximo y de forma particularmente
preferida de un 5 % como máximo.
En la presente especificación, el contenido de agua del material protector se representa basado en el
estado del material protector secado a 105◦C durante 2 horas, que se considera como contenido de agua
de 0 %.
Cuando se usa el material protector en la presente invención, se puede usar uno cualquiera que pueda
contener humedad. Sin embargo, normalmente, se emplea un material que tiene forma de lámina y se
prefiere un material que tenga excelente absorción de humedad y excelente desorción de humedad. Se
puede emplear una celulosa tal como una pulpa, una fibra semi-sintética tal como acetato de celulosa, una
fibra natural tal como algodón o seda, una resina o goma sintética tal como poliéster, nylon, poli(alcohol
vinı́lico), goma hidroclorada, poliimida o poliuretano, en forma de fibras o un material de celda abierta,
como una lámina de papel tal como papel Japonés, papel Western, papel sintético o papel mezclado, o
como una tela tejida, una tela no tejida o una lámina de espuma. Además, también se puede emplear un
conjunto laminado del mismo con otro material que tenga forma de lámina.
El número de láminas apiladas y el número de veces de enrollamiento en la bobina no están particularmente limitados, siempre que el material protector esté intercalado entre al menos 2 láminas y siempre
que se pueda seleccionar fácilmente en base a las condiciones de producción y del plan de producción.
Sin embargo, con vistas a la elevación de la temperatura de la placa fotosensible de impresión litográfica,
el número de láminas apiladas está, preferiblemente, dentro de un intervalo de 100 a 2.000 láminas y el
enrollado con forma de bobina está, preferiblemente, dentro de un intervalo de 100 a 2.000 m.
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Como método de calefacción se puede emplear aire caliente, por ejemplo un secador, una calefacción
en una atmósfera que tiene la temperatura controlada, un dispositivo alejado de calefacción de rayos
infrarrojos o un dispositivo de calefacción por microondas.
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El segundo modo preferido es tal que, sobre un soporte se aplica una composición fotosensible y, en el
proceso de envejecimiento, el soporte que tiene una composición fotosensible aplicada sobre el mismo, se
solapa con un material protector que contiene humedad, para obtener una placa de impresión litográfica
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de un tamaño predeterminado, que, a continuación, se apila o se enrolla en una bobina y al menos todas
las superficie laterales de la placa de impresión litográfica, en forma de un apilado o de una bobina,
se cubren con un material que sustancialmente no tiene permeabilidad a la humedad (denominado de
aquı́ en adelante como material impermeable para la humedad) que, a continuación, se mantiene bajo
calentamiento. Mediante cobertura con un material impermeable para la humedad, se puede impedir la
evaporación de la humedad requerida para difusión en el material fotosensible, con lo que es probable
que se obtenga la humedad absoluta deseada.
El material impermeable para la humedad que se emplea para cubrir el apilado o la bobina no está
limitado particularmente, siempre que tenga una baja permeabilidad para la humedad y siempre que
se pueda colocar cercano o adherido al apilado o a la bobina. Sin embargo, con vistas a la facilidad
de manejo, se prefiere un material impermeable para la humedad con forma de lámina (denominado de
aquı́ en adelante como lámina impermeable para la humedad). Además, la permeabilidad para la humedad es, preferiblemente, de 7 g/m2 /24 horas/mm25◦C como máximo, más preferiblemente, de 2 g/m2 /24
horas/mm25◦C como máximo. Como el material, normalmente, se puede mencionar, por ejemplo, trifluoruro de polietileno, politetrafluoroetileno, polietileno, polipropileno, poli(cloruro de vinilo), poli(cloruro
de vinilideno), poliestireno, ionómero, una hoja de aluminio, PET, o una lámina impermeable para la
humedad depositada por vapor sobre una lámina de papel.
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En el caso en que dicha placa fotosensible de impresión litográfica se cubre con tal lámina, la lámina
se adhiere a la placa fotosensible de impresión litográfica, de forma que entre ellas hay presente una
cantidad de aire que es lo más pequeña posible y se produce fácilmente la elevación de la temperatura de
la placa.
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Además, la lámina se selecciona de forma que no sea tan gruesa. Preferiblemente, el espesor está
dentro de un intervalo de 10 µm a 1.000 µm, más preferiblemente, dentro de un intervalo de 20 µm a 500
µm.
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La lámina impermeable para la humedad se usa para impedir la descarga hacia el exterior de la humedad del material protector enrollado en una bobina o apilado con la placa de impresión litográfica. Como
la propia placa de impresión litográfica tiene un cometido como material impermeable para la humedad,
será suficiente la cobertura de al menos todas las superficies laterales del apilado o bobina mencionados
anteriormente (la parte que no está cubierta con la placa de impresión litográfica situada en la parte más
exterior). Sin embargo, por comodidad, se puede cubrir todo el apilado o toda la bobina.
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Como ejemplo especı́fico del uso de la lámina impermeable para la humedad, como se representa en
la figura 8, las placas 1 de impresión y los materiales 2 protectores se apilan sobre una plataforma 3, de
forma laminada y posteriormente, se cubren las superficies laterales de todo el apilado con, por ejemplo,
una lámina 4 impermeable para la humedad. Además, se prefiere aplicar, por ejemplo, una cinta a la
lámina 4 impermeable para la humedad, para sellar las placas apiladas, después de la cobertura.
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Además, como se representa en la figura 9, se solapan ente sı́ una placa positiva fotosensible de impresión litográfica y un material protector, que se enrollan sobre un material de núcleo para formar una
bobina y las superficies laterales de la bobina completa se cubren con, por ejemplo, una lámina 4 impermeable para la humedad, para su sellado.
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El tercer modo preferido es tal que sobre un soporte se aplica una composición fotosensible y en el
proceso de envejecimiento, el soporte que tiene una composición fotosensible aplicada sobre el mismo se
solapa con un material protector que contiene humedad para obtener una placa de impresión litográfica
de un tamaño predeterminado que, posteriormente, se apila o se enrolla formando una bobina y las superficies laterales de la placa de impresión litográfica, apilada o enrollada en forma de bobina, se cubren
con un generador de calor, seguido por el mantenimiento del apilado o de la bobina bajo calentamiento,
con lo que sin que sea necesaria una cámara especial para envejecimiento, el envejecimiento se puede
realizar fácilmente y se puede reducir el tiempo de envejecimiento.
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En lo que se refiere al generador de calor, la forma y el mecanismo de generación de calor no están
limitados particularmente. Con respecto al mecanismo de generación de calor, como parte calefactora
se puede mencionar, por ejemplo, una parte calefactora obtenida mediante alambrado helicoidal de un
hilo de nicromo o de una lámina de nicromo, una parte calefactora obtenida mediante alambrado impreso de una lámina metálica o una parte calefactora que tiene un recubrimiento conductor aplicado o
impregnado sobre tela, fibra de vidrio o tela de algodón que tiene hilo de cobre trenzado sobre la misma
y preferiblemente, se puede usar una parte calefactora que está totalmente cubierta con una lámina de
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pelı́cula de resina sintética piro-retardante y que tiene resistencia calorı́fuga, para aislamiento eléctrico.
Como material de resina sintética se prefieren el cloruro de vinilo y el Teflón.
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Además, el propio generador de calor para cubrir las placas fotosensibles de impresión litográfica apiladas puede no tener el mecanismo de generación de calor. Por ejemplo, el material de cobertura puede
ser de una sustancia que absorbe rayos infrarrojos, tal como un cuerpo negro y el material de cobertura
está fabricado para generar calor mediante irradiación con rayos ultravioleta procedentes del exterior del
material de cobertura. Sin embargo, en tal caso, para evitar que el material fotosensible se exponga a los
rayos infrarrojos, como material de cobertura se usa un material que no transmita los rayos infrarrojos.
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Además, con vistas a la aplicación para placas de impresión de diversos tamaños, se prefiere un generador de calor que tenga una forma de lámina que se pueda plegar.
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El generador se dispone en las superficies laterales del apilado o del enrollado de la placa fotosensible
de impresión litográfica y, con vistas a la eficacia calorı́fica, preferiblemente, el generador de calor estará
en contacto con las superficies laterales de la placa fotosensible de impresión litográfica.
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Como método de contacto, se puede mencionar, por ejemplo, un método de enrollado de una banda
generadora de calor sobre las superficies laterales, o un método de unión de generadores de calor de forma
de lámina que tienen el mismo área que cada una de las superficies laterales respectivas.
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Como ejemplo especı́fico de uso de un generador de calor con forma de lámina, como se representa
en la figura 10, las placas 1 de impresión y los materiales 2 protectores se apilan de forma laminada
sobre una plataforma 3 y, posteriormente, las superficies laterales del total del apilado se cubren con un
generador 9 de calor que tiene forma de lámina.
Empleando un material impermeable para la humedad como el generador de calor, dicho generador de
calor también puede actuar como el material impermeable para la humedad mencionado anteriormente.
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Para adherencia del generador de calor a las superficies laterales de las placas apiladas, sin que haya
aire presente entre los mismos, se puede mencionar, por ejemplo, un método de fijación del exterior del
generador de calor de forma de lámina, enrollado o unido, mediante una diversidad de cinturones de
resina, goma, fibra o cuero, o un método de enrollar la pelı́cula de resina contraı́ble por calor sobre las
superficies laterales y calentar la pelı́cula mediante por ejemplo, un secador, para contracción.
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En el caso en que las placas apiladas se someten al tratamiento térmico, empleando el generador de
calor de forma de lámina en un espacio calentado a una temperatura opcional, se prefiere controlar la
temperatura midiendo la temperatura de las placas apiladas y, posteriormente, la temperatura de las
placas apiladas alcanzará la temperatura deseada, ajustando la tensión eléctrica del generador de calor
para mantener la temperatura.
En el caso en el que el tratamiento térmico se ejecute empleando el generador de calor en forma de
lámina en un espacio que está a la temperatura ordinaria, se prefiere disponer el generador de calor de
forma de lámina en las superficies laterales de las placas apiladas o de la bobina y, posteriormente, cubrir
su periferia con un material aislante calorı́fugo, de forma que el calor generado por el generador de calor
no se descargue al exterior.
En tal caso, se prefiere cubrir la superficie superior de las placas apiladas o las superficies periféricas
de la bobina, con un material aislante calorı́fugo.
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Con el fin de aumentar la cantidad de calor que sale del generador de calor, se pueden apilar varias
láminas generadoras de calor, una sobre otra.
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Preferiblemente, el generador de calor está equipado con, por ejemplo, un circuito automático de
control de temperatura, un circuito con fusibles, un circuito de detección de cortocircuito de alambre
termo-sensible, un circuito de detección de rotura de alambre termosensible o un circuito de detección de
excesiva elevación de temperatura superficial, para protección.
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Como se ha mencionado anteriormente, apilando o enrollando la placa positiva fotosensible de impresión litográfica y cubriendo las superficies laterales con un generador de calor de forma de lámina,
operaciones seguidas por el calentamiento, se puede mejorar la eficacia de calefacción, con lo que se disminuye el tiempo del tratamiento térmico.
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El cuarto modo preferido es tal que sobre un soporte se aplica una composición fotosensible y, en
el proceso de envejecimiento, el tratamiento de envejecimiento se realiza mientras que un fluido a una
temperatura de 30◦ C a 100◦C choca contra la placa de impresión litográfica. En el proceso de envejecimiento, la placa de impresión litográfica se mantiene bajo calentamiento y la temperatura del fluido
de alrededor de la placa de impresión litográfica puede disminuir algunas veces, debido a la placa de
impresión litográfica. Por consiguiente, haciendo chocar al fluido y circulando siempre el fluido alrededor
de la placa de impresión litográfica, se puede acelerar la transferencia de calor a la placa de impresión
litográfica, con lo que se puede disminuir el tiempo necesario para llegar a la temperatura deseada para
conseguir el tratamiento de envejecimiento. Como fluido, normalmente, se emplea aire y se puede emplear
cualquier fluido siempre que sea un gas inerte para la capa fotosensible, tal como el nitrógeno o el argón.
La velocidad de choque del fluido térmico es, preferiblemente, al menos 0,2 m/s, más preferiblemente,
al menos 0,5 m/s y de forma particularmente preferida es de al menos 2 m/s. Además, se prefiere que
dicha velocidad sea de 100 m/s como máximo, más preferiblemente de 50 m/s como máximo y de forma
particularmente preferida de 20 m/s como máximo.
En el caso en que la placa de impresión litográfica está solapada con un material protector que contiene
humedad y está apilada o enrolada formando una bobina, como la humedad requerida para el envejecimiento se puede suministrar desde el material protector, para realizar el tratamiento de envejecimiento
no se requiere que el fluido contenga humedad. Por otra parte, en el caso en que el tratamiento de envejecimiento se realiza sin solapado con un material protector que contiene humedad, la humedad necesaria
para el envejecimiento se puede suministrar ajustando la humedad absoluta del fluido para que sea de al
menos 0,007 kg/kg’.
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En el proceso de envejecimiento, como método preferido de hacer chocar un fluido contra la placa
de impresión litográfica, una placa de impresión litográfica de un tamaño predeterminado, que tiene solapado con la misma un material protector que contiene humedad, se apila o se enrolla formando una
bobina y la placa de impresión litográfica, apilada o enrollada formando una bobina, se pone en una
cámara de un tamaño predeterminado y la placa de impresión litográfica se mantiene bajo calentamiento
mientras que circula aire por la cámara. En tal caso, se prefiere apilar placas de impresión litográfica
de un tamaño predeterminado. La figura 11 ilustra un modo de ejecución del proceso de envejecimiento.
En una plataforma 4, se solapan placas 1 de impresión litográfica de un tamaño predeterminado con
materiales protectores, a continuación se apilan y el apilado se pone en una cámara 7 de un tamaño
predeterminado, además la cámara se equipa con un aparato 8 de circulación de aire, para hacer circular
aire por la cámara.
Como método para hacer circular el aire se puede usar, por ejemplo, un ventilador. Preferiblemente,
el área de la abertura del ventilador es igual o mayor que el área de las superficies laterales del apilado y
se prefiere que el fluido, a una temperatura especifica, choque casi perpendicularmente contra el apilado.
El ventilador se puede disponer hacia una superficie lateral, hacia dos superficies, hacia tres superficies
o hacia todas las superficies laterales del apilado, o hacia una superficie lateral o hacia ambas superficies
laterales de la bobina, para el choque del fluido.
En el caso en que se realiza el tratamiento térmico del apilado usando un ventilador en un espacio
calentado a una temperatura opcional, se prefiere suministrar un fluido caliente a la abertura de succión
del ventilador, por medio de, por ejemplo, un conducto y se prefiere medir la temperatura de las placas
apiladas y, después de que las placas apiladas alcanzan la temperatura deseada, parar el ventilador o
controlar el flujo de aire o el caudal de aire, con el objeto de mantener la temperatura.
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El quinto modo preferido es tal que en un soporte se deposita la composición fotosensible y, en el
proceso de envejecimiento, el soporte que tiene una composición fotosensible aplicada sobre el mismo se
solapa con un material protector que contiene humedad, para obtener una placa de impresión litográfica
de un tamaño predeterminado, se apilan varias de dichas placas de impresión litográfica y se aplica un
material aislante calorı́fugo a casi el total de las superficies superior y de fondo de dichas placas de
impresión litográfica apiladas y el apilado se mantiene bajo calentamiento. Aplicando a las mismas el
material aislante calorı́fugo, se impide la transferencia calorı́fica de las superficies de la parte superior y
del fondo y la transferencia calorı́fica únicamente se puede realizar desde las superficies laterales y, por
consiguiente, las condiciones de transferencia calorı́fica son las mismas para la parte superior, para la
parte media y para la parte inferior de las placas de impresión litográfica apiladas y se puede impedir la
no uniformidad del material fotosensible.
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Como se representa en la figura 12, una placa 1 fotosensible de impresión se corta con un tamaño
predeterminado y se apila alternativamente con una lámina 2 deslizada, se aplica un material 5 aislante
calorı́fugo a las superficies superior y del fondo y casi el total de las superficies superior y del fondo están
cubiertas con el material 5 aislante calorı́fugo.
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El material 5 aislante calorı́fugo no está particularmente limitado y se prefiere uno que de lugar a
menor probabilidad de generar suciedad y se puede emplear, por ejemplo, una forma de resina sintética,
una tela tejida, una tela no tejida, un cartón o una lana de vidrio.
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Preferiblemente, el material 5 aislante calorı́fugo es un material que tiene un coeficiente global de
trasferencia calorı́fica de 2 w/m2 ·hr·K como máximo, preferiblemente, de 1 w/m2 ·hr·K como máximo.
En el envejecimiento del apilado, como se representa en la figura 12, mediante calentamiento del
apilado se descarga humedad del material protector y el grado de descarga varı́a dependiendo de la
temperatura de la placa de impresión litográfica apilada y del contenido de agua del material protector. Cuando la temperatura de la placa de impresión litográfica se mantiene alta, el material protector
descarga una gran cantidad de humedad contenida en el mismo y la concentración de humedad en la
superficie de la capa fotosensible será alta, con lo que la difusión de agua desde la superficie de la capa
fotosensible se puede realizar más rápidamente.
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Como se ha mencionado anteriormente, se considera que la concentración de la humedad en la superficie recubierta se puede controlar por la temperatura de la placa de impresión litográfica y, por
consiguiente, cuando se usa material aislante calorı́fugo, se puede calentar uniformemente todo el apilado
de placas de impresión litográfica, con lo que se impide la no uniformidad en el envejecimiento del material
fotosensible.
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Como se representa en la figura 13, cuando la placa 1 fotosensible de impresión tiene forma de banda
alargada, se puede enrollar en un material 5 de núcleo realizado de material aislante calorı́fugo y el material 5 aislante calorı́fugo se enrolla sobre la placa 1 fotosensible de impresión enrollada, para cubrir la
periferia exterior del rollo.
Por consiguiente, en la presente invención, en el caso de enrollado para conseguir un rollo, la periferia
exterior se toma para el lado superior y el lado del material del núcleo es el lado inferior.
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Aquı́, preferiblemente, la placa 1 fotosensible de impresión se calienta preliminarmente en, por ejemplo,
un horno de calefacción, antes de que se apile o de que se enrolle para conseguir un rollo. Preferiblemente,
la temperatura de precalentamiento está comprendida dentro de ± 10◦ C, más preferiblemente, dentro
de ± 5◦ C y de forma particularmente preferida, dentro de ± 3◦ C con respecto a la temperatura para
tratamiento térmico.
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La placa 1 fotosensible de impresión, intercalada en el material 5 aislante calorı́fugo en la parte superior y en el fondo, se acopla en una cámara de tratamiento térmico o se cubre con un generador de calor
de forma de lámina, para realizar el tratamiento térmico.
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Las condiciones preferidas para producir la placa positiva fotosensible de impresión litográfica de la
presente invención varı́an dependiendo del aparato de secado, del aparato de envejecimiento, del tamaño
de la placa de impresión, del tipo de la resina soluble en álcali del material fotosensible, del espesor de
pelı́cula o de elementos similares y también cambiará el modo preferido mencionado anteriormente.
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Preferiblemente, el disolvente que permanece en el material fotosensible después de la ejecución del
tratamiento de envejecimiento es, preferiblemente, un 8 % en peso como máximo, más preferiblemente un
6 % en peso como máximo, de forma particularmente preferida un 5 % en peso como máximo. Además, es
preferible que este disolvente restante sea de al menos un 0,05 % en peso, más preferiblemente, un 0,2 %
en peso.
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Gradiente de Caracterı́sticas de Solubilidad
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Con respecto a la placa positiva fotosensible de impresión litográfica ası́ obtenida, como se representa
en la figura 1, la solubilidad de la capa fotosensible en un revelador alcalino aumenta continuamente
desde la parte superficial hacia la parte de la capa inferior.
O sea, como se representa en la figura 1, el gradiente de la lı́nea V1 que representa la velocidad media
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de disolución del material fotosensible en la superficie, o justamente debajo de la misma, es decir, la parte
del 100 % del espesor de pelı́cula con respecto a la parte del 90 % del espesor de pelı́cula y el gradiente de
la lı́nea V2 , que representa la velocidad media de disolución de la parte del 90 % del espesor de pelı́cula
con respecto a la disolución completa, son diferentes. Por consiguiente, se obtiene un material fotosensible
que tiene una velocidad más alta de disolución en la parte inferior que en la parte del 90 % del espesor
de pelı́cula y que en la parte superficial de la misma.
La razón no está necesariamente clara y la presente invención no esta restringida a la consideración
indicada a continuación. Sin embargo, se estima que la solubilidad de la composición fotosensible de la
presente invención en un revelador alcalino cambia dependiendo del estado de unión fı́sica o fisicoquı́mica
de las moléculas de resina adyacentes o moléculas adyacentes a través de otro compuesto co-existente.
Como se ha mencionado anteriormente, cuando la composición fotosensible se expone a una atmósfera
que contiene humedad, se difunden moléculas de agua en la capa fotosensible para formar, por ejemplo,
uniones de hidrógeno, o cambia la alineación de las moléculas, con lo que disminuye la solubilidad en un
revelador alcalino.
Se considera que la capa fotosensible obtenida por difusión de un material en el material fotosensible,
por ejemplo, moléculas de agua, tiene una distribución tal que la proporción de la interacción entre la
resina soluble en álcali y, por ejemplo, las moléculas de agua, tal como unión de hidrógeno, disminuye
continuamente desde la capa superficial hacia la parte interior y tiene una estructura en la que se inclina
la resistencia a los productos alcalinos, es decir, la velocidad de disolución de dicha capa fotosensible en
un revelador alcalino aumenta continuamente desde la parte superficial hacia la parte de la capa inferior.
Las capas fotosensibles de esta invención difieren de las capas positivas fotosensibles de impresión
litográfica de la técnica anterior que contienen un compuesto convencional de quinonadiacida como un
componente de la composición fotosensible. El revelado de las placas de la técnica anterior requiere y
aprovecha un cambio quı́mico del compuesto de quinonadiacida que se produce debido a irradiación con
luz, es decir, cuando se irradia, la parte de diazocetona sufre fotodegradación para producir ácido carboxı́lico, con lo que aumenta la solubilidad de la capa fotosensible en un revelador alcalino. En tal caso,
la anchura de revelado de la composición fotosensible es originalmente grande y, por consiguiente, no es
necesario controlar la reacción con la humedad en el proceso de producción de la placa de impresión.
Por el contrario, como en la presente invención, en el caso en que se cambie la solubilidad de un
revelador alcalino mediante un cambio distinto a un cambio quı́mico (estimado como que es un cambio
fı́sico, tal como un cambio de conformación), se ha descubierto que un compuesto que tiene un grupo
polar, tal como una molécula de agua, está significativamente implicado y afecta a la solubilidad de la
composición fotosensible en un revelador alcalino antes de la irradiación con luz láser.
Con respecto a la placa fotosensible de impresión litográfica (no expuesta) de la presente invención,
como se ha mencionado anteriormente, el material fotosensible tiene una estructura inclinada. Como se
puede ver en la figura 3, la velocidad de disolución del material fotosensible es de 0,01 a 20 % en el semipunto (t/2) del tiempo (t) hasta que la proporción restante de pelı́cula alcanza el 80 %. La solubilidad del
material fotosensible en un revelador alcalino es preferiblemente tal que al menos un 1/4, preferiblemente,
al menos un 1/2, desde la superficie de la capa, tenga una estructura inclinada.
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La proporción de la velocidad V2 media de disolución en un revelador alcalino en la parte interior
desde la parte del 90 % del espesor de pelı́cula hasta la parte del 0 % del espesor de pelı́cula, con respecto
a la velocidad V1 media de disolución en un revelador alcalino en la parte superficial de la parte del 100 %
del espesor de pelı́cula hasta la parte del 90 % del espesor de pelı́cula, es decir, V2 /V1 (esto se define
como gradiente y, algunas veces se hará referencia como gradiente) es de al menos 2, más preferiblemente
de al menos 5, de forma particularmente preferida, de al menos 13.
El gradiente (V2 /V1 ) también se puede obtener mediante cálculo a partir de la siguiente fórmula:
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Gradiente de solubilidad =
(A) x 9
(B) - (A)
donde (A) es el tiempo (seg) requerido para la disolución del material fotosensible desde la superficie al
10 % del espesor y (B) es el tiempo (seg) requerido para la disolución de todo el espesor (100 %) de la
capa del material fotosensible.
Dibujando una curva de disolución (figura 1) de un material fotosensible inclinado tratado con un
revelador alcalino, se hace más evidente que cuanto más profundo es el material fotosensible, más alta es
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la solubilidad el elemento alcalino. Además, el gradiente mencionado anteriormente se puede obtener del
gráfico representado en la figura 1.
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Además, dependiendo de la estructura de la placa de impresión litográfica, cuando se disuelve la capa
fotosensible, permanece una pequeña cantidad de material fotosensible en el interfaz entre el material
fotosensible y el soporte, resto que está provocado por poros o por condiciones superficiales del soporte
y, en tal caso, se puede obtener una curva de disolución como la presentada en la tabla 2. Sin embargo,
en algunos casos, en la impresión práctica no hay deposición alguna de tinta o elemento similar y ello
no será un problema. En un caso en el que se obtiene tal curva de disolución, el gradiente se obtiene de
la diferencia entre dicha velocidad de disolución desde la parte del 100 % del espesor de pelı́cula hasta
la parte del 90 % del espesor de pelı́cula y la velocidad de disolución desde el 90 % hasta el 20 % (esto
se define como el gradiente S2 y algunas veces se hará referencia como gradiente S2 ). En la figura 2, el
gradiente S2 = V3 /V1 .
Además, en tal caso, el gradiente S2 es, preferiblemente, al menos 2, más preferiblemente, al menos 5
y de forma particularmente preferida, al menos 13.
Además, el material fotosensible que está inclinado también se puede explicar por el siguiente método.
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En la curva de disolución de la figura 3, que es la misma curva de disolución que la de la figura 1,
cuando el tiempo de disolución hasta que la proporción de pelı́cula restante alcanza un 20 % es (t) y
cuando la velocidad de disolución de la pelı́cula en el semi-punto (t/2) es (R %), se define que el gradiente
S3 = R (aunque R es de 0 a 80, cuando el material fotosensible no está inclinado, teóricamente R es 40
y, por consiguiente, prácticamente, R es 0 o más y es menor que 40. Además, cuando la proporción de
pelı́cula restante se toma en este momento para S, R = 100 - S).
Por ejemplo, el cálculo del gradiente S3 de la muestra (1) de la figura 3 es como sigue: El tiempo (T)
hasta que la solubilidad alcanza el 80 % es 80 segundos. En el punto T/2 = 40 segundos, la solubilidad
es del 3 %. Por consiguiente, el gradiente S3 = 3.
30
De acuerdo con esta definición, el gradiente S3 preferiblemente es 20 como máximo, más preferiblemente es 10 como máximo, de forma particularmente preferida es 5 como máximo. Además, dicho valor
es preferiblemente al menos 0,01, más preferiblemente, al menos 0,1, de forma particularmente preferida,
al menos 1.
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El gradiente S3 se puede obtener de una curva de disolución como la representada en la figura 3.
La velocidad de disolución del material fotosensible en un revelador alcalino se puede medir por el
método siguiente.
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Esto es, una luz que tiene una longitud de onda adecuada para ser absorbida por el material fotosensible se irradia sobre el soporte, antes del recubrimiento y, usando espectrofotometrı́a de reflexión se mide
la absorbancia (a) de la luz reflejada desde el soporte antes del recubrimiento. Posteriormente, se mide la
absorbancia (b) de la luz reflejada desde la placa positiva fotosensible de impresión litográfica obtenida
mediante aplicación de un recubrimiento de la composición fotosensible sobre el soporte para formar
un material fotosensible. Posteriormente, la placa de impresión litográfica se sumerge en un revelador
alcalino con oscilación calmada durante un tiempo predeterminado y se saca del mismo, operación que
va seguida por un secado y posteriormente se mide de nuevo la absorbancia (c) de la luz reflejada.
La proporción de pelı́cula restante se puede calcular mediante la fórmula siguiente de las absorbancias
obtenidas.
Proporción de pelı́cula restante = c - a
b-a
El revelador alcalino a usar para obtener el gradiente y la proporción de pelı́cula restante, mencionados anteriormente, se usa normalmente para la placa positiva fotosensible de impresión litográfica
prácticamente al máximo.
Con respecto a la placa positiva fotosensible de impresión litográfica de la presente invención, como
se ha mencionado anteriormente, la velocidad de disolución de la parte de la capa inferior del material
fotosensible en un revelador alcalino es alta. Por consiguiente, el total de la capa de la porción expuesta
será soluble en el momento del revelado después de la exposición y, por lo tanto, se obtendrá una imagen
clara. Además, como la parte superficial antes de la exposición tiene una alta resistencia a los productos
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alcalinos, la superficie de la pelı́cula que tiene una porción no expuesta que permanece sobre la misma,
tiene una alta resistencia a los productos quı́micos. Además, con respecto a la resistencia a la impresión,
se puede obtener una placa positiva fotosensible de impresión litográfica que tiene una alta resistencia al
agua de humectación que se va a usar para impresión y que tiene una alta resistencia al desgaste.
5
Irradiación de Luz Láser
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Como fuente luminosa para la exposición de imágenes de la placa fotosensible de impresión litográfica
de la presente invención se prefiere una fuente luminosa que genere un rayo de luz tal como un rayo láser
de la zona inicial del infrarrojo, de 600 nm a 1.300 nm, preferiblemente, de 650 nm a 1.100 nm. Por
ejemplo, puede ser un láser rubı́, un láser YAG, un láser de semiconductores o un LED. Particularmente
se prefiere un láser de semiconductores o un láser YAG, que es de pequeño tamaño y tiene larga vida
útil. Con tal fuente de luz láser se efectúa normalmente la exposición de exploración y, posteriormente, se
realiza el revelado con un revelador para obtener una placa de impresión litográfica que tiene una imagen.
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Entre estas, se emplea preferiblemente un láser que genera un rayo luminoso que tiene una longitud
de onda en las cercanı́as de 830 nm y un láser que genera un rayo luminoso con una longitud de onda en
las cercanı́as de 1.064 nm.
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Normalmente, la superficie de la capa fotosensible se explora con un rayo luminoso que tiene una alta
intensidad condensada por la lente, rayo que procede de la fuente de luz láser y la caracterı́stica fotosensible (mJ/cm2 ) de la capa fotosensible, a usar en la presente invención, algunas veces puede depender de
la intensidad luminosa (mJ/s·cm2 ) del rayo láser recibido. La intensidad luminosa del rayo láser se puede
obtener dividiendo la cantidad de energı́a del rayo láser por unidad de tiempo (mJ/s), medida mediante
un aparato de medida de energı́a luminosa, por el área de irradiación (cm2 ) de la capa fotosensible con el
rayo láser. El área de irradiación con el rayo láser se define normalmente como el área de la porción cuya
intensidad excede de la intensidad 1/e2 de la intensidad pico del láser o, simplemente, se puede medir
exponiendo una composición fotosensible que presente la ley de reciprocidad.
En el método de formación de una imagen positiva de la presente invención, la intensidad de luz de
la fuente luminosa es, preferiblemente, al menos 2,0 x 106 mJ/s·cm2 , más preferiblemente, al menos 1,0
x 107 mJ/s·cm2 . Cuando la intensidad luminosa está dentro del intervalo mencionado anteriormente, se
puede mejora la caracterı́stica fotosensible de la placa positiva fotosensible de impresión litográfica de la
presente invención y se puede reducir el tiempo de exposición de exploración y ello es significativamente
ventajoso de forma práctica.
Revelador
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En el método de formación de una imagen positiva de la presente invención, como revelador para
revelar la placa positiva fotosensible de impresión litográfica, mencionada anteriormente, sometida a exposición de imagen, se puede usar una solución acuosa de un nivel de un 0,1 % en peso a un 5 % en peso
de una sal inorgánica alcalina tal como silicato sódico, silicato potásico, silicato de litio, silicato amónico,
metasilicato sódico, metasilicato potásico, hidróxido sódico hidróxido potásico, hidróxido de litio, carbonato sódico, bicarbonato sódico, carbonato potásico, fosfato secundario de sodio, fosfato terciario de
sodio, fosfato secundario de amonio, fosfato terciario de amonio, borato sódico, borato potásico o borato
amónico, o como revelador alcalino se puede usar un compuesto orgánico de amina, tal como monometilamina, dimetilamina, trimetilamina, monoetilamina, dietilamina, trietilamina, monoisopropilamina,
diisopropilamina, monobutilamina, monoetanolamina, dietanolamina, trietanolamina, monoisopropanolamina o diisopropanolamina.
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Entre estos, se prefiere uno que contenga un hidróxido metálico alcalino y un silicato metálico alcalino
ya que la solubilidad de una sal alcalina en agua es excelente y hace fácil la preparación del revelador.
Además, más preferiblemente, el contenido del silicato metálico alcalino es de un 0,1 % a un 5 % en peso
como dióxido de silicio y la proporción de la concentración molar de dióxido de silicio () con respecto a la
concentración molar del metal alcalino es de 0,1 a 1,5 y de forma particularmente preferida, el contenido
como dióxido de silicio es de un 0,2 % a un 3 % en peso y la proporción de la concentración molar de
silicio con respecto a la concentración molar del metal alcalino es de 0,2 a 1,0.
Además, el pH del revelador es, preferiblemente, de al menos 12, más preferiblemente de 12,5 a 14,0.
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El revelador alcalino preferido a usar por el método de formación de una imagen positiva de la presente
invención, es uno que contiene un agente anfótero superficialmente activo.
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Como agente anfótero superficialmente activo se puede mencionar, por ejemplo, un compuesto de betaı́na, tal como N-lauril-N,N-dimetil-N-amonio, N-estearil-N,N-dimetil-N-carboxiamonio,
N-lauril-N,N-dihidroxietil-N-carboxiamonio, N-lauril-N,N-dihidroxietil-N-carboximetilamonio, N-laurilN,N,N-tris(carboximetil)amonio, o un compuesto de imidazolina tal como ácido graso de aceite de sódico
de N-coco, acil-N-carboximetil-N-hidroxietil etilenodiamina.
Entre los agentes superficialmente activos mencionados anteriormente se prefiere particularmente un
compuesto de betaı́na.
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Usando un revelador que contiene un agente anfótero superficialmente activo, mejorará la proporción
restante de cantidad de recubrimiento de pelı́cula y también mejorará la resistencia a los arañazos.
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Además, como el revelador contiene un agente anfótero superficialmente activo, tiende a confirmarse
la mejora en la sensibilidad y en la velocidad de revelado, la mejora en el rendimiento del revelador en
el tratamiento de revelado (área de tratamiento de revelado de la capa fotosensible) y la supresión del
deterioro con el envejecimiento del revelador.
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Además, el revelador alcalino a usar en la presente invención preferiblemente contiene una silicona.
Cuando contiene una silicona, la retención de pelı́cula de porción no expuesta se puede suprimir adicionalmente y, como resultado, se puede ensanchar el intervalo de las condiciones de revelado.
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Como silicona, se prefiere un aceite de silicona que tenga un enlace de siloxano como esqueleto, especı́ficamente, que tiene una cadena de dimetilpolisiloxano o una cadena que tiene parte de grupos metilo
de la misma sustituidos con hidrógeno o grupos fenilo, o un aceite de silicona de una resina de silicona
usada como un tipo de solución, un tipo de emulsión o un tipo compuesto y es mas preferida una que se
use como agente de despumación y además, se prefiere particularmente una que tenga un grupo hidrófilo
de tipo auto-emulsionable, tal como un copolı́mero de dimetilpolisiloxano y óxido de polialquileno.
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El revelador a usar en la presente invención puede contener un aditivo tal como un disolvente orgánico
soluble en agua, tal como un alcohol polihı́drico, un alcohol aromático o un alcohol alicı́clico, un reblandecedor de agua tal como un polifosfato, un aminopolicarboxilato o un sulfonato orgánico, un agente
reductor tal como un compuesto fenólico, un compuesto de amina, un sulfito, un fosfito o un tiofosfato,
un agente de quelado, tal como un ácido fosfónico orgánico o un ácido fosfonoalcano tricarboxı́lico o
una sal de cada uno de ellos, un ajustador de pH, tal como un compuesto mercapto soluble en elemento
alcalino o compuesto de tioéter, un ácido inorgánico, un ácido orgánico o una sal de cada uno de ellos, o
un agente de despumación, tal como un compuesto orgánico de silano, según lo requiera el caso.
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El revelado se realiza, por ejemplo, mediante revelado por inmersión, revelado por rociado, revelado
por pincel o revelado ultrasónico, preferiblemente, a una temperatura de aproximadamente 10◦ C a aproximadamente 50◦ C, de forma particularmente preferida de aproximadamente 15◦ C a aproximadamente
45◦C.
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La placa positiva fotosensible de impresión litográfica de la presente invención no requiere precalentamiento y, por consiguiente, se puede someter directamente al proceso de revelado alcalino, después
de la exposición. Después del revelado, se prefiere realizar un tratamiento de cochura con el fin de reforzar
la capa fotosensible restante.
Ejemplos
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A continuación, la presente invención se explicará con mayor detalle en relación con algunos ejemplos.
Sin embargo, hay que entender que la presente invención no está restringida por medio alguno a tales
ejemplos especı́ficos.
55
Ejemplos A1 a A6 y ejemplos comparativos A1 y A2
Preparación de una placa de impresión litográfica
Preparación de una placa de aluminio
60
Una placa de aluminio (material: 1050, dureza: H16) que tenı́a un espesor de 0,24 mm se sometió
a un tratamiento de desengrase a 60◦C durante un minuto en una solución acuosa de hidróxido sódico
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con un 5 % en peso y, posteriormente, a un tratamiento de ataque electrolı́tico en una solución acuosa
de ácido clorhı́drico que tenı́a una concentración de 0,5 moles/l a una temperatura de 25◦ C, con una
densidad de corriente de 60 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de 30 segundos. Posteriormente,
dicha placa se sometió a un tratamiento de neutralización en una solución acuosa de hidróxido sódico
con un 5 % en peso, a 60◦ C, durante 10 segundos y, posteriormente, a un tratamiento de anodizado en
una solución de ácido sulfúrico con un 20 % en peso, a una temperatura de 20◦C, con una densidad de
corriente de 3 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de un minuto. Además, se sometió a un tratamiento hidrotérmico de sellado de poros con agua caliente a 80◦C, durante 20 segundos, para obtener
una placa de aluminio que servı́a como soporte para una placa de impresión litográfica.
Sobre la placa de aluminio preparada por el método descrito anteriormente y secada a 85◦ C durante
2 minutos, mediante una barra, se aplicó un lı́quido fotosensible que comprendı́a los siguientes componentes, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica que tenı́a una capa fotosensible con
un espesor de pelı́cula de 24 mg/dm2, aplicados sobre la misma.
15
Lı́quido fotosensible
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Material de conversión foto-térmica:
Compuesto S-53 de la tabla 1
Resina soluble en álcali:
Resina de novolak de m-cresol/p-cresol/fenol (proporción molar 3:2:5)
Agente supresor de solubilidad: Lactona de cloruro de metilrrosanilina
Aditivo 1: Cymel 300, fabricado por Mitsui Cytec Company
Aditivo 2: Ácido ciclohexano-1,2-dicarboxı́lico
Aditivo 3: Tetraoleato de polioxietilenosorbit
Disolvente: Metil cellosolve
Etil cellosolve
0,04 g
1,0 g
0,1 g
0,01 g
0,05 g
0,04 g
6,6 g
1,7 g
A continuación, se efectuó la evaluación con respecto a la placa de impresión que tenı́a aplicado a la
misma el siguiente tratamiento. Los resultados se presentan en la tabla 2.
Ejemplo A1
35
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se sometió a un tratamiento
a 55◦C, en condiciones de humedad absoluta de 0,037 kg/kg’, durante 10 horas, para obtener una placa
fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo A2
40
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se sometió a un tratamiento
a 55◦C, en condiciones de humedad absoluta de 0,037 kg/kg’, durante 24 horas, para obtener una placa
fotosensible de impresión litográfica.
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Ejemplo A3
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se sometió a un tratamiento
a 55◦C, en condiciones de humedad absoluta de 0,037 kg/kg’, durante 32 horas, para obtener una placa
fotosensible de impresión litográfica.
50
Ejemplo A4
55
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se sometió a un tratamiento
a 60◦C, en condiciones de humedad absoluta de 0,049 kg/kg’, durante 12 horas, para obtener una placa
fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo A5
60
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se sometió a un tratamiento
a 40◦C, en condiciones de humedad absoluta de 0,043 kg/kg’, durante 24 horas, para obtener una placa
fotosensible de impresión litográfica. Se midió la velocidad de disolución de la capa fotosensible de la
placa de impresión y el resultado se describe en la figura 1, como la curva para la muestra 2.
44
ES 2 196 925 T3
Ejemplo A6
5
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se sometió a un tratamiento
a 40◦ C, en condiciones de humedad absoluta de 0,001 kg/kg’, durante 120 horas, para obtener una placa
fotosensible de impresión litográfica. Se midió la velocidad de disolución de la capa fotosensible de la
placa de impresión y el resultado se describe en la figura 1, como la curva para la muestra 1.
Ejemplo A7
10
15
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se sometió a un tratamiento
a 55◦C, en condiciones de humedad absoluta de 0,007 kg/kg’, durante 32 horas, para obtener una placa
fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo comparativo A1
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente no se sometió a tratamiento
alguno.
20
Ejemplo comparativo A2
El siguiente lı́quido fotosensible se aplicó recubriendo sobre una placa de aluminio y se secó de la
misma forma que en el ejemplo A1 y no se efectuó tratamiento alguno.
Lı́quido fotosensible
25
30
35
40
Colorante de amplificación:
Compuesto S-53 de la tabla1
Resina soluble en álcali:
Resina de novolak de m-cresol/p-cresol/fenol (proporción molar 3:2:5)
Agente supresor de solubilidad: trimetiloletano
Disolvente:
Metil cellosolve
Etil cellosolve
0,015
0,5
0,1
1,0
4,3
g
g
g
g
A continuación, se efectuó la evaluación con respecto a los siguientes elementos. Proceso de ejecución
de impresión en los ejemplos A1 a A7 y ejemplos comparativos A1 y A2.
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se pegó sobre un cilindro
giratorio y se efectuó la exposición de exploración con una luz láser (8 W) mediante un trazador láser
de semiconductores (Trendsetter 830 nm, fabricado por CREO CO., LTD) bajo una lámpara amarilla.
A continuación, se realizó el revelado a 28◦ C cada 5 segundos, durante 120 segundos, con un revelador
alcalino DP4 (para una placa litográfica positiva, fabricado por Fuji Photo Film Co., Ltd.) diluido 7
veces y se efectuó la evaluación con respecto a rendimientos por los métodos siguientes.
Ejemplo A8
45
Sobre la placa de aluminio preparada por el método descrito anteriormente y secada a 85◦ C, durante
2 minutos, se aplicó, mediante una barra, un lı́quido fotosensible que comprendı́a los siguientes componentes, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica que tenı́a una capa fotosensible con
un espesor de pelı́cula de 24 mg/dm2, aplicada sobre la misma.
50
Lı́quido fotosensible
55
60
Colorante de amplificación: Compuesto S-60 de la tabla 1
Resina soluble en álcali:
Resina de novolak de m-cresol/p-cresol/fenol (proporción molar 3:2:5)
proporción de fenol 50 %
Agente supresor de solubilidad: Lactona de cloruro de metilrrosanilina
Aditivo 1:
Cymel 300, fabricado por Mitsui Cytec Company
Aditivo 2:
Ácido ciclohexano-1,2-dicarboxı́lico
Aditivo 3:
Tetraoleato de polioxietilenosorbit
Disolvente:
Metil cellosolve
Etil cellosolve
45
0,04 g
1,0 g
0,1 g
0,01 g
0,04 g
0,03 g
8,5 g
2,1 g
ES 2 196 925 T3
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se sometió a un tratamiento
a 55◦C en condiciones de humedad absoluta de 0,04 kg/kg’, durante 24 horas, para obtener una placa
fotosensible de impresión litográfica.
5
10
Proceso de ejecución de impresión del ejemplo A8
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se pegó sobre un cilindro
giratorio y se efectuó la exposición de exploración con una luz láser mediante un trazador láser de
semiconductores (CRESCENT 3030T 1.064 nm, fabricado por Geber) bajo una lámpara amarilla. A
continuación, se realizó el revelado a 28◦C cada 5 segundos, durante 120 segundos con un revelador alcalino DP4 (para una placa litográfica positiva, fabricado por Fuji Photo Film Co., Ltd.) diluido 7 veces y
se efectuó la evaluación con respecto a rendimientos por el método mencionado anteriormente.
Medición del gradiente de solubilidad de la capa fotosensible en la dirección del espesor
15
20
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se sumergió en una solución
que tenı́a un revelador alcalino DP4 diluido 7 veces. Se midió el tiempo (seg) hasta que se disolvió el
10 % de la capa fotosensible y el tiempo (seg) hasta que se disolvió el 100 % de la capa fotosensible y,
mediante la fórmula siguiente, se obtuvo el valor del gradiente de solubilidad de la capa fotosensible en
la dirección del espesor.
Gradiente de solubilidad =
25
(A) x 9
(B) - (A)
(A: Tiempo (seg) requerido para disolución de la capa fotosensible desde la superficie hasta el 10 % del
espesor.
(B: Tiempo (seg) requerido para disolución del total (100 %) de la capa fotosensible.
30
Se indica que cuanto más alto es el gradiente de solubilidad más alto es el efecto supresor de solubilidad en la superficie de la capa interior.
Medición del intervalo de tiempo apropiado para el revelado
35
En el tratamiento de revelado con DP4 diluido 7 veces, se midió el tiempo cuando se disolvió la porción
total irradiada con una energı́a láser de 200 mJ/cm2 mediante la máquina de exposición anteriormente
indicada y también se midió el tiempo cuando se disolvió el 10 % de la porción no irradiada con el láser
(porción sólida) y la diferencia obtenida se tomó como el tiempo apropiado.
40
Sensibilidad
Es la cantidad de energı́a láser con la que se puede obtener una imagen apropiada, empapando o
sumergiendo la placa fotosensible de impresión litográfica, obtenida bajo las condiciones de exposición
mencionadas anteriormente, en el revelador DP4 diluido 7 veces, a 28◦C, durante 40 segundos.
45
Sensibilidad = Cantidad requerida de energı́a láser irradiada para formar una imagen con una inmersión
en el revelador anteriormente indicado durante 40 segundos (mJ/cm2 )
Resistencia a la impresión
50
55
Se horneó un modelo de impresión con una exposición de 140 mJ/cm2 a 8 W proporcionada por la
máquina de exposición mencionada anteriormente y cada placa se trató por una máquina automática de
revelado con DP4 diluido 7 veces, con una temperatura del lı́quido de 32◦C, para preparar una placa de
impresión. Mediante el uso de ello, se efectuó la impresión de 100.000 láminas y se evaluó visualmente el
defecto de impresión de 3 % de puntos mediante un amplificador de 25x.
Condiciones de impresión: High Echo Beni, fabricado por Toyo Ink, una salida del 3 %.
Agua de humectación: Astro No. 1, Mark 2, 1 %, pH = 5,0, una salida de 40 %.
60
Papel de impresión: OK Art.
Velocidad de impresión: 6.000 láminas/hora
46
ES 2 196 925 T3
Presión de impresión: 0,13
Resistencia quı́mica
5
Resistencia quı́mica a la goma: cada muestra se reveló con DP4 diluido 7 veces (temperatura del
lı́quido: 28◦ C) y se sumergió en un lı́quido de goma (GU7, fabricado por Fuji Photo Film Co., Ltd.)
durante 2 horas, después de lo cual se midió la proporción restante de pelı́cula de la porción no expuesta
(porción sólida) mediante un densitómetro de reflexión y se evaluó.
10
La evaluación normal fue tal que o: 100 - 90 %, ∆: 90 - 80 %, x: 80 % como máximo, en base al valor
medido de la proporción restante de pelı́cula, mencionada anteriormente.
Propiedad de conservación
15
20
30 láminas de tamaño de 1.030 x 800 mm se envolvieron con una lámina de papel impermeable para
la humedad y se conservaron a 25◦ C en condiciones de humedad de un 56 %, durante 3 meses y se realizó
el revelado por el método de exposición mencionado anteriormente con DP4 diluido 7 veces, después de
lo cual se valoró la fluctuación en los rendimientos.
La valoración normal fue tal que o: valor de fluctuación dentro de ± 10 %, ∆: dentro de ± 20 % y
x: al menos ± 20 % en la evaluación de sensibilidad mencionada anteriormente. Los resultados de las
evaluaciones mencionadas anteriormente se indican en la tabla 2.
25
30
35
40
45
50
55
60
47
ES 2 196 925 T3
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
48
ES 2 196 925 T3
5
10
15
20
25
Ejemplos B1 a B6 y Ejemplos comparativos B1 y B2
Preparación de una placa de impresión litográfica
30
Preparación de una placa de aluminio
35
40
45
Una placa de aluminio (material: 1050, dureza: H16) que tenı́a un espesor de 0,24 mm y una anchura
de 1.200 mm se sometió a un tratamiento de desengrase a 60◦C durante un minuto en una solución acuosa
de hidróxido sódico con un 5 % en peso y, posteriormente, a un tratamiento de ataque electrolı́tico en
una solución acuosa de ácido nı́trico que tenı́a una concentración de 0,5 moles/l a una temperatura de
25◦C, con una densidad de corriente de 60 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de 30 segundos.
Posteriormente, dicha placa se sometió a un tratamiento de neutralización en una solución acuosa de
hidróxido sódico con un 5 % en peso, a 60◦ C, durante 10 segundos y, posteriormente, a un tratamiento
de anodizado en una solución de ácido sulfúrico al 20 %, a una temperatura de 20◦C, con una densidad
de corriente de 3 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de un minuto. Además, se sometió a un
tratamiento hidrotérmico de sellado de poros con agua caliente a 80◦ C, durante 20 segundos, para obtener
una placa de aluminio que servı́a como soporte para una placa de impresión litográfica.
Sobre la placa de aluminio preparada por el método descrito anteriormente y secada a 85◦C durante 2
minutos, mediante una barra, se aplicó un lı́quido fotosensible que comprendı́a los siguientes componentes,
para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica que tenı́a una capa fotosensible con un espesor
de pelı́cula de 24 mg/dm2, aplicados sobre la misma.
50
55
60
49
ES 2 196 925 T3
Lı́quido fotosensible
5
10
Material de conversión foto-térmica:
Compuesto S-53 de la tabla 1
Resina soluble en álcali:
Resina novolak de m-cresol/p-cresol/fenol (proporción molar 3:2:5)
Agente supresor de solubilidad: Lactona de cloruro de metilrrosanilina
Aditivo 1:
Cymel 300, fabricado por Mitsui Cytec Company
Aditivo 2:
Ácido ciclohexano-1,2-dicarboxı́lico
Aditivo 3:
Tetraoleato de polioxietilenosorbit
Disolvente:
Metil cellosolve
Etil cellosolve
0,04 g
1,0 g
0,1 g
0,01 g
0,05 g
0,04 g
6,6 g
1,7 g
15
Ejemplo B1
20
Sobre la superficie de la capa fotosensible, de la placa fotosensible de impresión litográfica mencionada
anteriormente, se aplicó un material protector (material: papel de pulpa natural) que tenı́a un contenido
de agua de un 1,5 %, un espesor de 100 µm y un peso de 25 g/dm2 , seguido por un corte a una longitud
de 1.000 mm, mediante un dispositivo cortador. 300 láminas de la misma se apilaron sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma. A continuación,
la plataforma se depositó en una cámara que tenı́a una atmósfera de 60◦ C y se realizó un tratamiento
durante 24 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
25
Ejemplo B2
30
Sobre la superficie de la capa fotosensible, de la placa fotosensible de impresión litográfica mencionada
anteriormente, se aplicó de manera uniforme un material protector (material: papel de pulpa natural)
que tenı́a un contenido de agua de un 4 %, un espesor de 100 µm y un peso de 25 g/dm2, seguido por un
corte a una longitud de 1.000 mm mediante un dispositivo cortador. 300 láminas de la misma se apilaron
sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma. A
continuación, la plataforma se depositó en una cámara que tenı́a una atmósfera de 60◦C y se realizó un
tratamiento durante 24 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
35
Ejemplo B3
40
Sobre la superficie de la capa fotosensible, de la placa fotosensible de impresión litográfica mencionada
anteriormente, se aplicó de manera uniforme un material protector (material: una lámina mezclada que
comprendı́a un 70 % de pulpa natural y un 30 % de polietileno) que tenı́a un contenido de agua de un
4 %, un espesor de 100 µm y un peso de 25 g/dm2 , seguido por un corte a una longitud de 1.000 mm
mediante un dispositivo cortador. 300 láminas de la misma se apilaron sobre una plataforma de resina
que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma. A continuación, la plataforma se
depositó en una cámara que tenı́a una atmósfera de 60◦ C y se realizó un tratamiento durante 24 horas,
para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
45
Ejemplo B4
50
55
Sobre la superficie de la capa fotosensible, de la placa fotosensible de impresión litográfica mencionada
anteriormente, se aplicó un material protector (material: papel de pulpa natural) que tenı́a un contenido
de agua de un 5 %, un espesor de 100 µm y un peso de 25 g/dm2 , seguido por un corte a una longitud
de 1.000 mm mediante un dispositivo cortador. 20 láminas de la misma se apilaron, una sobre otra y las
placas fotosensibles de impresión litográfica apiladas se intercalaron con cartones protectores que tenı́an
un espesor de 1 mm y se aplicó una cinta engomada que tenı́a una anchura de 50 mm a los cuatro lados.
A continuación, el apilado se depositó en una cámara que tenı́a una atmósfera de 55◦C y se realizó un
tratamiento durante 24 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo B5
60
Sobre la superficie de la capa fotosensible, de la placa fotosensible de impresión litográfica mencionada
anteriormente, se aplicó un material protector (material: papel de pulpa natural) que tenı́a un contenido
de agua de un 5 %, un espesor de 100 µm y un peso de 25 g/dm2 y 1.000 m del laminado se enrollaron
formando una bobina. A continuación, la bobina se depositó en una cámara que tenı́a una atmósfera
50
ES 2 196 925 T3
de 60◦ C y se realizó un tratamiento durante 24 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión
litográfica.
Ejemplo B6
5
10
15
20
Sobre la superficie de la capa fotosensible, de la placa fotosensible de impresión litográfica mencionada
anteriormente, se aplicó un material protector (material: papel de pulpa natural) que tenı́a un contenido
de agua de un 4 %, un espesor de 100 µm y un peso de 35 g/dm2 y que tenı́a polietileno laminado sobre
su superficie con un espesor de 8 µm, seguido por un corte a una longitud de 1.000 mm mediante un
dispositivo cortador. 300 láminas de la misma se apilaron sobre una plataforma de resina que tenı́a un
tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma. A continuación, la plataforma se depositó en
una cámara que tenı́a una atmósfera de 60◦C y se realizó un tratamiento durante 24 horas, para obtener
una placa fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo comparativo B1
Sobre la superficie de la capa fotosensible, de la placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente, no se aplicó material protector alguno y la placa de impresión litográfica se cortó
a una longitud de 1.000 mm mediante un dispositivo cortador. 300 láminas de la misma se apilaron
sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma. A
continuación, la plataforma se depositó en una cámara que tenı́a una atmósfera de 60◦C y se realizó un
tratamiento durante 24 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo comparativo B2
25
30
Sobre la superficie de la capa fotosensible, de la placa fotosensible de impresión litográfica mencionada
anteriormente, se aplicó un material protector (material: pelı́cula de PET) que tenı́a un contenido de
agua de un 0,8 % como máximo y un espesor de 100 µm, seguido por un corte a una longitud de 1.000 mm
mediante un dispositivo cortador. A continuación, 300 láminas de la misma se apilaron sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma. A continuación,
la plataforma se depositó en una cámara que tenı́a una atmósfera de 60◦ C y se realizó un tratamiento
durante 24 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
Proceso de ejecución de impresión
35
40
45
50
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se pegó sobre un cilindro
giratorio y se efectuó la exposición de exploración con una luz láser (8 W) mediante un trazador láser
de semiconductores (Trendsetter 830 nm, fabricado por CREO CO., LTD) bajo una lámpara amarilla.
A continuación, se realizó el revelado a 28◦ C cada 5 segundos, durante 120 segundos, con un revelador
alcalino DP4 (para una placa litográfica positiva, fabricado por Fuji Photo Film Co., Ltd.) diluido 7 veces
y se efectuaron evaluaciones con respecto al intervalo de tiempo apropiado para revelado, sensibilidad,
resistencia a la impresión, resistencia quı́mica y propiedad de conservación, por los mismos métodos que
en el ejemplo A1.
Se midió el contenido de agua del material protector de forma tal que el décimo material protector,
partiendo de la parte superior de dichas placas fotosensibles de impresión litográfica apiladas, antes del
tratamiento, se sometió rápidamente a muestreo y se efectuó una medición de acuerdo con JISP8127-1979.
Los resultados de las evaluaciones de los ejemplos B1 a B6 y de los ejemplos comparativos B1 y B2
se muestran en la tabla 3.
55
60
51
ES 2 196 925 T3
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
52
ES 2 196 925 T3
Ejemplos C1 a C4
Preparación de una placa de impresión litográfica
5
10
15
20
25
Preparación de una placa de aluminio
Una placa de aluminio (material: 1050, dureza: H16) que tenı́a un espesor de 0,24 mm y una anchura
de 1.200 mm se sometió a un tratamiento de desengrase a 60◦C durante un minuto en una solución acuosa
de hidróxido sódico con un 5 % en peso y, posteriormente, a un tratamiento de ataque electrolı́tico en
una solución acuosa de ácido nı́trico que tenı́a una concentración de 0,5 moles/l a una temperatura de
25◦C, con una densidad de corriente de 60 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de 30 segundos.
Posteriormente, dicha placa se sometió a un tratamiento de neutralización en una solución acuosa de
hidróxido sódico con un 5 % en peso, a 60◦ C, durante 10 segundos y, posteriormente, a un tratamiento
de anodizado en una solución de ácido sulfúrico al 20 %, a una temperatura de 20◦C, con una densidad
de corriente de 3 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de un minuto. Además, se sometió a un
tratamiento hidrotérmico de sellado de poros con agua caliente a 80◦ C, durante 20 segundos, para obtener
una placa de aluminio que servı́a como soporte para una placa de impresión litográfica.
Sobre la placa de aluminio preparada por el método descrito anteriormente y secada en un primer
horno a 45◦C durante 30 segundos y secada en un segundo horno a 80◦C durante 30 segundos, mediante
un dispositivo de aplicación con rodillo, se aplicó un lı́quido fotosensible que comprendı́a los siguientes
componentes, para obtener una capa fotosensible con un espesor de pelı́cula de 24 mg/dm2 . A continuación, se intercaló un material protector (material: pulpa natural, contenido de agua: 4 %), seguido
por el corte en trozos de 1.000 x 1.000 mm y el conjunto se apiló para obtener una placa fotosensible de
impresión litográfica.
Lı́quido fotosensible
30
35
40
Material de conversión foto-térmica:
Compuesto S-53 de la tabla 1
Resina soluble en álcali:
Resina novolak de m-cresol/p-cresol/fenol, proporción molar (3:2:5)
Agente 1 supresor de solubilidad:
Lactona de cloruro de metilrrosanilina
Agente 2 supresor de solubilidad:
Resina de novolak y el siguiente compuesto (V),
unidos entre sı́ por un enlace éster
Aditivo 1: Cymel 300, fabricado por Mitsui Cytec Company
Aditivo 2: Ácido ciclohexano-1,2-dicarboxı́lico
Aditivo 3: Tetraoleato de polioxietilenosorbit
Disolvente: Metil cellosolve
Etil cellosolve
0,04 g
1,0 g
0,1 g
0,1
0,01
0,05
0,04
7,2
1,8
g
g
g
g
g
g
45
50
55
60
Ejemplo C1
Sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma,
53
ES 2 196 925 T3
5
se apilaron 1.000 láminas de las placas fotosensibles de impresión litográfica mencionadas anteriormente.
A continuación, la plataforma se depositó en una cámara de tratamiento térmico a la que se habı́a aplicado un acondicionamiento de humedad y que tenı́a una humedad relativa de un 30 %, una humedad
absoluta de 0,039 kg/kg’ y una temperatura de 60◦C y se realizó un tratamiento durante 32 horas, para
obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo C2
10
Sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma,
se apilaron 1.000 láminas de las placas fotosensibles de impresión litográfica mencionadas anteriormente.
A continuación, la plataforma se depositó en una cámara de tratamiento térmico a la que se habı́a aplicado un acondicionamiento de humedad y que tenı́a una humedad relativa de un 20 %, una humedad
absoluta de 0,025 kg/kg’ y una temperatura de 60◦C y se realizó un tratamiento durante 32 horas, para
obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
15
Ejemplo C3
20
Sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma,
se apilaron 1.000 láminas de las placas fotosensibles de impresión litográfica mencionadas anteriormente.
A continuación, la plataforma se depositó en una cámara de tratamiento térmico a la que no se habı́a
aplicado acondicionamiento alguno de humedad y que tenı́a una humedad relativa de un 7 %, una humedad absoluta de 0,0087 kg/kg’ y una temperatura de 60◦ C y se realizó un tratamiento durante 32 horas,
para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
25
Ejemplo C4
30
35
40
Sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma,
se apilaron 1.000 láminas de las placas fotosensibles de impresión litográfica mencionadas anteriormente.
A continuación, la plataforma se depositó en una cámara de tratamiento térmico a la que no se habı́a
aplicado acondicionamiento alguno de humedad y que tenı́a una humedad relativa de un 12 %, una humedad absoluta de 0,015 kg/kg’ y una temperatura de 60◦C y se realizó un tratamiento durante 32 horas,
para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se pegó sobre un cilindro
giratorio y se efectuó una exposición de exploración por láser (8 W) mediante un trazador láser de semiconductores (Trendsetter 830 nm, fabricado por CREO CO., LTD) bajo una lámpara amarilla. A
continuación, se realizó el revelado con un revelador alcalino MT-4 (para una placa litográfica positiva,
fabricado por Mitsubishi Chemical Corporation) diluido 2,3 veces, a 31◦ C mediante una máquina automática de revelado MT-850X, fabricada por G & J y se efectuó una evaluación con respecto a los
rendimientos, por los métodos siguientes.
Método para medir el contenido de agua del material protector
45
El décimo material protector, partiendo de la parte superior de dichas placas fotosensibles de impresión litográfica apiladas, antes del tratamiento, se sometió rápidamente a muestreo y se efectuó una
medición de acuerdo con JISP8127-1979.
Criterio sobre propiedad de revelado
50
55
60
Medición del intervalo de tiempo apropiado para revelado
La porción central de la placa fotosensible de impresión litográfica obtenida de 1.000 x 1.000 mm se
cortó en trozos de 600 x 600 mm y se irradió con una energı́a láser de 160 mJ/cm2 por la máquina de
exposición mencionada anteriormente bajo las condiciones de tratamiento de revelado mencionadas anteriormente con MT4 diluido 2,3 veces, para formar una imagen de porción clara, una porción de imagen
de puntos de semi-tono de 50 % y una porción de imagen no irradiada (porción sólida). A continuación,
se cambió el tiempo de revelado y se midió el tiempo cuando la porción irradiada estaba completamente
disuelta y el tiempo lı́mite en el que el área de puntos de semi-tono del 50 % de láser se mantenı́a uniformemente al 50 % y en el que la porción no irradiada (porción sólida) permanecı́a en un 90 % y la diferencia
de los mismos se tomó como el intervalo de tiempo apropiado para revelado. Cuanto más ancho era el
intervalo de dicho tiempo apropiado para revelado, mejor se producı́a y mayor era la eficacia de dicho
tratamiento.
54
ES 2 196 925 T3
Sensibilidad
5
Es la mı́nima cantidad de energı́a láser (mJ/cm2 ) con la que se puede obtener una imagen apropiada
bajo las condiciones mencionadas anteriormente de exposición y de revelado.
Uniformidad de revelado del total de la placa de la capa fotosensible
10
Una placa que no se habı́a expuesto con MT4 diluido 2,3 veces bajo las condiciones de tratamiento de
revelado mencionadas anteriormente, se sometió a un tratamiento con la máquina automática de revelado
mencionada anteriormente que tenı́a una velocidad de transporte fijada para que fuera de 60 cm/min y
se midió el área de la porción en la que la proporción restante de pelı́cula era de un 90 % como máximo.
Medición de la proporción restante de pelı́cula
15
Se realizó una medición de la misma manera que en el ejemplo A1.
Resistencia a la impresión
20
Se realizó una medición de la misma manera que en el ejemplo A1.
Resistencia quı́mica
Se realizó una medición de la misma manera que en el ejemplo A1.
25
Propiedad de conservación
Se realizó una medición de la misma manera que en el ejemplo A1.
30
Los resultados de las evaluaciones de los ejemplos C1 a C4 se muestran en la tabla 4.
35
40
45
50
55
60
55
ES 2 196 925 T3
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
56
ES 2 196 925 T3
Ejemplos D1 a D6
Preparación de una placa de impresión litográfica
5
10
15
20
25
Preparación de una placa de aluminio
Una placa de aluminio (material: 1050, dureza: H16) que tenı́a un espesor de 0,24 mm y una anchura
de 1.200 mm se sometió a un tratamiento de desengrase a 60◦C durante un minuto en una solución acuosa
de hidróxido sódico con un 5 % en peso y, posteriormente, a un tratamiento de ataque electrolı́tico en
una solución acuosa de ácido nı́trico que tenı́a una concentración de 0,5 moles/l a una temperatura de
25◦C, con una densidad de corriente de 60 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de 30 segundos.
Posteriormente, dicha placa se sometió a un tratamiento de neutralización en una solución acuosa de
hidróxido sódico con un 5 % en peso, a 60◦ C, durante 10 segundos y, posteriormente, a un tratamiento de
anodizado en una solución de ácido sulfúrico con un 20 % en peso, a una temperatura de 20◦ C, con una
densidad de corriente de 3 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de un minuto. Además, se sometió
a un tratamiento hidrotérmico de sellado de poros con agua caliente a 80◦C, durante 20 segundos, para
obtener una placa de aluminio que servı́a como soporte para una placa de impresión litográfica.
Sobre la placa de aluminio preparada por el método descrito anteriormente y secada en un primer
horno a 45◦C durante 30 segundos y secada en un segundo horno a 80◦C durante 30 segundos, mediante
un dispositivo de aplicación con rodillo, se aplicó un lı́quido fotosensible que comprendı́a los siguientes
componentes, para obtener una capa fotosensible con un espesor de pelı́cula de 24 mg/dm2 . A continuación, se intercaló un material protector (material: pulpa natural, contenido de agua: 4 %), seguido
por el corte en trozos de 1.000 x 1.000 mm y el conjunto se apiló para obtener una placa fotosensible de
impresión litográfica.
Lı́quido fotosensible
30
35
40
45
50
55
Material de conversión foto-térmica:
Compuesto S-53 de la tabla 1
Resina soluble en álcali:
Resina novolak de m-cresol/p-cresol/fenol, (proporción molar 3:2:5)
Agente 1 supresor de solubilidad:
Lactona de cloruro de metilrrosanilina
Agente 2 supresor de solubilidad:
Resina de novolak y el siguiente compuesto (V), anteriormente
mencionado, unidos entre sı́ por un enlace éster
Aditivo 1: Cymel 300, fabricado por Mitsui Cytec Company
Aditivo 2: Ácido ciclohexano-1,2-dicarboxı́lico
Aditivo 3: Tetraoleato de polioxietilenosorbit
Disolvente: Metil cellosolve
Etil cellosolve
0,04 g
1,0 g
0,1 g
0,1
0,01
0,05
0,04
7,2
1,8
g
g
g
g
g
g
Ejemplo D1
Sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma,
se apilaron 400 láminas de las placas fotosensibles de impresión litográfica mencionadas anteriormente. A
continuación, como se representa en la figura 3, las superficies laterales del apilado se cubrieron con una
lámina impermeable para la humedad obtenida pegando una lámina de papel de un espesor de 130 µm
a PE y depositando aluminio por vapor sobre la superficie de dicho PE y se adhirieron entre sı́ de forma
que no habı́a aire presente entre estos elementos, además, se aplicó una cinta a los bordes para conseguir
un sellado. La plataforma se depositó en una cámara de tratamiento térmico con una temperatura de
60◦C y posteriormente se realizó un tratamiento durante 32 horas, para obtener una placa fotosensible
de impresión litográfica.
Ejemplo D2
60
Sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma,
se apilaron 1.000 láminas de las placas fotosensibles de impresión litográfica mencionadas anteriormente.
A continuación, se enrolló sobre el apilado un material LDPE fabricado por Showa Packs K.K. que tenı́a
57
ES 2 196 925 T3
5
un espesor de 75 µm y una permeabilidad para la humedad de 2g/m2·24 hr y se adhirieron entre sı́ de
forma que no habı́a aire presente entre estos elementos, además, se aplicó una cinta a los bordes para
conseguir un sellado. La plataforma se depositó en una cámara de tratamiento térmico con una temperatura de 60◦C y posteriormente se realizó un tratamiento durante 32 horas, para obtener una placa
fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo D3
10
15
Sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma,
se apilaron 1.000 láminas de las placas fotosensibles de impresión litográfica mencionadas anteriormente.
A continuación, como se representa en la figura 3, las superficies laterales del apilado se cubrieron con
una envoltura proporcionada por una lámina impermeable para la humedad obtenida pegando entre sı́
Shrink Film D-955 (tri-capa de polietileno) fabricado por Cryovac, una lámina de papel de un espesor
de 25 µm y PE y depositando aluminio por vapor sobre la superficie de dicho PE y se adhirieron entre
sı́ de forma que no habı́a aire presente entre estos elementos, además, se aplicó una cinta a los bordes
para conseguir un sellado. A continuación, la pelı́cula se sometió a contracción con un secador, para
adherencia adicional a las superficies laterales de las placas. La plataforma se depositó en una cámara de
tratamiento térmico con una temperatura de 60◦C y posteriormente se realizó un tratamiento durante
32 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
20
Ejemplo D4
25
30
35
40
Sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma,
se apilaron 1.000 láminas de las placas fotosensibles de impresión litográfica mencionadas anteriormente.
A continuación, como se representa en la figura 3, las superficies laterales del apilado se cubrieron con
dos envolturas iguales formadas por una lámina impermeable para la humedad obtenida pegando entre
sı́ Shrink Film D-955 (tri-capa de polietileno) fabricado por Cryovac, una lámina de papel de un espesor
de 25 µm y PE y depositando aluminio por vapor sobre la superficie de dicho PE, envolturas que se
adhirieron entre sı́ de forma que no habı́a aire presente entre estos elementos, además, se aplicó una cinta
a los bordes para conseguir un sellado. A continuación, la pelı́cula se sometió a contracción con un secador, para adherencia adicional a las superficies laterales de las placas. La plataforma se depositó en una
cámara de tratamiento térmico con una temperatura de 60◦C y posteriormente se realizó un tratamiento
durante 32 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo D5
Sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma,
se apilaron 1.000 láminas de las placas fotosensibles de impresión litográfica mencionadas anteriormente.
A continuación, la plataforma se depositó en una cámara de tratamiento térmico a la que no se habı́a
aplicado acondicionamiento alguno de humedad y que tenı́a una humedad relativa de un 7 %, una humedad absoluta de 0,0087 kg/kg’ y una temperatura de 60◦ C y posteriormente se realizó un tratamiento
durante 32 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo D6
45
50
55
Sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera colocado sobre la misma,
se apilaron 1.000 láminas de las placas fotosensibles de impresión litográfica mencionadas anteriormente.
A continuación, la plataforma se depositó en una cámara de tratamiento térmico a la que no se habı́a
aplicado acondicionamiento alguno de humedad y que tenı́a una humedad relativa de un 12 %, una humedad absoluta de 0,015 kg/kg’ y una temperatura de 60◦ C y posteriormente se realizó un tratamiento
durante 32 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
La placa fotosensible de impresión litográfica, mencionada anteriormente, se pegó sobre un cilindro
giratorio y se efectuó una exposición de exploración por luz láser (8 W) mediante un trazador láser de
semiconductores (Trendsetter 830 nm, fabricado por CREO CO., LTD) bajo una lámpara amarilla. A
continuación, se realizó un revelado con un revelador alcalino MT-4 (para una placa litográfica positiva, fabricado por Mitsubishi Chemical Corporation) diluido 2,3 veces, a 31◦ C mediante una máquina
automática de revelado MT-850X, fabricada por G & J y se efectuó una evaluación con respecto a los
rendimientos, por los métodos siguientes.
60
58
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Método para medir el contenido de agua del material protector
5
El décimo material protector, partiendo de la parte superior de dichas placas fotosensibles de impresión litográfica apiladas, antes del tratamiento, se sometió rápidamente a muestreo y se efectuó una
medición de acuerdo con JISP8127-1979.
Criterio sobre propiedad de revelado
Medición del intervalo de tiempo apropiado para revelado
10
Se realizó una medición de la misma manera que en el ejemplo C1.
Sensibilidad
15
Se realizó una medición de la misma manera que en el ejemplo C1.
Uniformidad de revelado del total de la placa de la capa fotosensible
Se realizó una medición de la misma manera que en el ejemplo C1.
20
Medición de la proporción restante de pelı́cula
Se realizó una medición de la misma manera que en el ejemplo A1.
25
Resistencia a la impresión
Se realizó una medición de la misma manera que en el ejemplo A1.
Resistencia quı́mica
30
Se realizó una medición de la misma manera que en el ejemplo A1.
Propiedad de conservación
35
Se realizó una medición de la misma manera que en el ejemplo A1.
Los resultados de las evaluaciones de los ejemplos D1 a D6 se muestran en la tabla 5.
40
45
50
55
60
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5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
60
ES 2 196 925 T3
Ejemplos de referencia E1 a E3 y Ejemplos E1 y E2
Ejemplo E1 de referencia
5
Se empleó una membrana de una placa fina de aluminio (aleación JIS 1050) que tenı́a un espesor de
0,29 mm y una anchura de 1.180 mm, como placa fina metálica y una membrana de lámina de deslizamiento que comprendı́a un 100 % de pulpa natural que tenı́a un espesor de 0,05 mm, un peso de 35 g/m2
y una anchura de 1.175 mm y que tenı́a polietileno de 8 µm de espesor, laminado sobre una superficie,
como lámina de deslizamiento.
10
15
20
25
30
35
Se unieron estos elementos entre sı́, utilizando electricidad estática y se cortaron con una longitud de
1.000 mm y 860 láminas de las indicadas se apilaron en una plataforma de resina que tenı́a un tablero de
partı́culas con un espesor de 15 mm, un material aislante calorı́fugo con un espesor de 30 mm (nombre
comercial registrado: Formnaht PIF board) y un tablero de refuerzo puesto sobre el mismo, en este orden. Además, sobre las láminas apiladas se colocó un material de lana de vidrio, aislante calorı́fugo, con
un espesor de 50 mm (nombre comercial registrado: Fine Jacket) y después se puso el conjunto en una
cámara de tratamiento térmico cuya temperatura atmosférica se fijó en 60◦ C y posteriormente se realizó
un tratamiento térmico durante 32 horas.
Ejemplo E2 de referencia
Se empleó una membrana de una placa fina de aluminio (aleación JIS 1050) que tenı́a un espesor de
0,20 mm y una anchura de 1.180 mm, como placa fina metálica y una membrana de lámina de deslizamiento que comprendı́a un 100 % de pulpa natural que tenı́a un espesor de 0,05 mm, un peso de 35 g/m2
y una anchura de 1.175 mm y que tenı́a polietileno de 8 µm de espesor, laminado sobre una superficie,
como lámina de deslizamiento.
Se unieron estos elementos entre sı́, utilizando electricidad estática y se cortaron con una longitud de
900 mm y 600 láminas de las indicadas se apilaron en una plataforma de resina que tenı́a un tablero de
partı́culas con un espesor de 15 mm, un material aislante calorı́fugo con un espesor de 30 mm (nombre
comercial registrado: Formnaht PIF board) y un tablero de refuerzo puesto sobre el mismo, en este orden. Además, sobre las láminas apiladas se colocó un material de lana de vidrio, aislante calorı́fugo, con
un espesor de 50 mm (nombre comercial registrado: Fine Jacket) y después se puso el conjunto en una
cámara de tratamiento térmico cuya temperatura atmosférica se fijó en 60◦ C y posteriormente se realizó
un tratamiento térmico durante 32 horas.
Ejemplo E3 de referencia
40
45
Se realizó la misma operación que en el ejemplo E1 de referencia, con la excepción de que no se usó
el material aislante calorı́fugo y de que las 860 láminas apiladas se pusieron en la cámara de tratamiento
térmico y, posteriormente, se realizó un tratamiento térmico durante 24 horas.
Los resultados se muestran en las figuras 14 a 16. En el ejemplo E3 de referencia (figura 16), la
diferencia de las temperaturas de la parte superior y de la parte de la mitad del apilado era de al menos
10◦C, mientras que en el ejemplo E1 de referencia (figura 14) y en el ejemplo E2 de referencia (figura 15),
se suprimió para que fuera de 3◦C como máximo.
Ejemplo E1
50
Preparación de una placa de impresión litográfica
Preparación de una placa de aluminio
55
60
Una placa de aluminio (material: 1050, dureza: H16) que tenı́a un espesor de 0,29 mm y una anchura
de 1.200 mm se sometió a un tratamiento de desengrase a 60◦C durante un minuto en una solución acuosa
de hidróxido sódico con un 5 % en peso y, posteriormente, a un tratamiento de ataque electrolı́tico en
una solución acuosa de ácido nı́trico que tenı́a una concentración de 0,5 moles/l a una temperatura de
25◦C, con una densidad de corriente de 60 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de 30 segundos.
Posteriormente, dicha placa se sometió a un tratamiento de neutralización en una solución acuosa de
hidróxido sódico con un 5 % en peso, a 60◦ C, durante 10 segundos y, posteriormente, a un tratamiento de
anodizado en una solución de ácido sulfúrico con un 20 % en peso, a una temperatura de 20◦ C, con una
densidad de corriente de 3 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de un minuto. Además, se sometió
61
ES 2 196 925 T3
a un tratamiento hidrotérmico de sellado de poros con agua caliente a 80◦C, durante 20 segundos, para
obtener una placa de aluminio que servı́a como soporte para una placa de impresión litográfica.
Formación de una capa fotosensible
5
Sobre la placa de aluminio preparada por el método descrito anteriormente y secada a 85◦ C durante
2 minutos, mediante un dispositivo de aplicación con rodillo, se aplicó un lı́quido fotosensible que comprendı́a los siguientes componentes, para obtener una capa fotosensible de impresión con un espesor de
pelı́cula de 24 mg/dm2.
10
Lı́quido fotosensible
15
20
25
Material de conversión foto-térmica:
Compuesto S-53 de la tabla 1
Resina soluble en álcali:
Resina novolak de m-cresol/p-cresol/fenol, (proporción molar 3:2:5)
Agente supresor de solubilidad:
Lactona de cloruro de metilrrosanilina
Aditivo 1: Cymel 300, fabricado por Mitsui Cytec Company
Aditivo 2: Ácido ciclohexano-1,2-dicarboxı́lico
Aditivo 3: Tetraoleato de polioxietilenosorbit
Disolvente: Metil cellosolve
Etil cellosolve
0,04 g
1,0 g
0,1
0,01
0,05
0,04
6,6
1,7
g
g
g
g
g
g
Tratamiento térmico
30
35
Sobre la superficie de la capa fotosensible, de la placa fotosensible de impresión mencionada anteriormente, se aplicó un material protector (material: papel de pulpa natural) que tenı́a un contenido de
agua de un 4 %, un espesor de 50 µm y un peso de 35 g/dm2 y que tenı́a polietileno laminado sobre una
de sus superficies con un espesor de 8 µm, seguido por un corte a una longitud de 1.000 mm mediante
un dispositivo cortador. 860 láminas de la misma se apilaron sobre una plataforma de resina que tenı́a
un tablero de partı́culas de madera y que adicionalmente tenı́a un material aislante calorı́fugo, todo ello
colocado sobre la misma. A continuación, se colocó un material aislante calorı́fugo de lana de vidrio sobre
la parte superior, que posteriormente se depositó en una cámara que tenı́a una atmósfera de 60◦ C y posteriormente se realizó un tratamiento durante 32 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión.
Evaluación
40
45
Ejecución de la impresión
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se pegó sobre un cilindro
giratorio y se efectuó una exposición de exploración por luz láser (8 W) mediante un trazador láser de
semiconductores (Trendsetter 830 nm, fabricado por CREO CO., LTD) bajo una lámpara amarilla. A
continuación, se realizó el revelado con un revelador alcalino DP4 (para una placa litográfica positiva,
fabricado por Fuji Photo Film Co., Ltd.) diluido 7 veces, a 28◦ C cada 5 segundos, durante 120 segundos
y se efectuó una evaluación con respecto a los rendimientos, por los métodos siguientes.
Medición del intervalo de tiempo apropiado para revelado.
50
Se realizó una medición de la misma manera que en el ejemplo A1.
Resistencia a la impresión
55
Se realizó una medición de la misma manera que en el ejemplo A1.
Ejemplo E2
60
Se realizó la misma operación que en el ejemplo E1, con la excepción de que no se usó el material
aislante calorı́fugo y de que el tratamiento térmico se realizó durante 24 horas, para obtener una placa
fotosensible de impresión.
62
ES 2 196 925 T3
Los resultados se muestran en la tabla 6
5
10
15
20
25
Ejemplos F1 a F7
Preparación de una placa de impresión litográfica
30
Preparación de una placa de aluminio
35
40
45
50
55
60
Una placa de aluminio (material: 1050, dureza: H16) que tenı́a un espesor de 0,24 mm y una anchura
de 1.200 mm se sometió a un tratamiento de desengrase a 60◦C durante un minuto en una solución acuosa
de hidróxido sódico con un 5 % en peso y, posteriormente, a un tratamiento de ataque electrolı́tico en
una solución acuosa de ácido nı́trico que tenı́a una concentración de 0,5 moles/l a una temperatura de
25◦C, con una densidad de corriente de 60 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de 30 segundos.
Posteriormente, dicha placa se sometió a un tratamiento de neutralización en una solución acuosa de
hidróxido sódico con un 5 % en peso, a 60◦ C, durante 10 segundos y, posteriormente, a un tratamiento de
anodizado en una solución de ácido sulfúrico con un 20 % en peso, a una temperatura de 20◦ C, con una
densidad de corriente de 3 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de un minuto. Además, se sometió
a un tratamiento hidrotérmico de sellado de poros con agua caliente a 80◦C, durante 20 segundos, para
obtener una placa de aluminio que servı́a como soporte para una placa de impresión litográfica.
Lı́quido fotosensible
Material de conversión foto-térmica:
Compuesto S-53 de la tabla 1
Resina soluble en álcali:
Resina novolak de m-cresol/p-cresol/fenol, (proporción molar 3:2:5)
Agente 1 supresor de solubilidad:
Lactona de cloruro de metilrrosanilina
Agente 2 supresor de solubilidad:
Resina de novolak y el compuesto (V), anteriormente
mencionado, unidos entre sı́ por un enlace éster
Aditivo 1: Cymel 300, fabricado por Mitsui Cytec Company
Aditivo 2: Ácido ciclohexano-1,2-dicarboxı́lico
Aditivo 3: Tetraoleato de polioxietilenosorbit
Disolvente: Metil cellosolve
Etil cellosolve
63
0,04 g
1,0 g
0,1 g
0,1
0,01
0,05
0,04
7,2
1,8
g
g
g
g
g
g
ES 2 196 925 T3
Ejemplo F1
5
10
15
Mediante un dispositivo de aplicación con rodillo, se aplicó un lı́quido fotosensible, que comprendı́a los
componentes mencionados anteriormente, sobre la placa de aluminio, preparada por el método descrito
anteriormente, que se secó en una primera etapa de secado a 45◦C, durante 33 segundos y que, posteriormente, se secó en una segunda etapa de secado a 60◦C, durante 43 segundos, para obtener una capa
fotosensible de 20 mg/dm2. Después del secado se realizó un tratamiento en condiciones de humedad
absoluta de 0,043 kg/kg’, durante 24 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo F2
Mediante un dispositivo de aplicación con rodillo, se aplicó un lı́quido fotosensible, que comprendı́a los
componentes mencionados anteriormente, sobre la placa de aluminio, preparada por el método descrito
anteriormente, que se secó en una primera etapa de secado a 45◦C, durante 33 segundos y que, posteriormente, se secó en una segunda etapa de secado a 60◦C, durante 43 segundos, para obtener una capa
fotosensible de 24 mg/dm2. Después del secado se realizó un tratamiento en condiciones de humedad
absoluta de 0,043 kg/kg’, durante 24 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo F3
20
25
Mediante un dispositivo de aplicación con rodillo, se aplicó un lı́quido fotosensible, que comprendı́a los
componentes mencionados anteriormente, sobre la placa de aluminio, preparada por el método descrito
anteriormente, que se secó en una primera etapa de secado a 35◦C, durante 33 segundos y que, posteriormente, se secó en una segunda etapa de secado a 60◦C, durante 43 segundos, para obtener una capa
fotosensible de 20 mg/dm2. Después del secado se realizó un tratamiento en condiciones de humedad
absoluta de 0,043 kg/kg’, durante 24 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo F4
30
35
40
45
Mediante un dispositivo de aplicación con rodillo, se aplicó un lı́quido fotosensible, que comprendı́a los
componentes mencionados anteriormente, sobre la placa de aluminio, preparada por el método descrito
anteriormente, que se secó en una primera etapa de secado a 35◦C, durante 33 segundos y que, posteriormente, se secó en una segunda etapa de secado a 60◦C, durante 43 segundos, para obtener una capa
fotosensible de 24 mg/dm2. Después del secado se realizó un tratamiento en condiciones de humedad
absoluta de 0,043 kg/kg’, durante 24 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se trató a 55◦ C en condiciones
de humedad absoluta de 0.037 kg/kg’, durante 24 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión
litográfica.
Ejemplo F5
Mediante un dispositivo de aplicación con rodillo, se aplicó un lı́quido fotosensible, que comprendı́a los
componentes mencionados anteriormente, sobre la placa de aluminio, preparada por el método descrito
anteriormente, que se secó en una primera etapa de secado a 45◦C, durante 33 segundos y que, posteriormente, se secó en una segunda etapa de secado a 70◦C, durante 43 segundos, para obtener una capa
fotosensible de 24 mg/dm2. Después del secado se realizó un tratamiento en condiciones de humedad
absoluta de 0,043 kg/kg’, durante 24 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo F6
50
55
Mediante un dispositivo de aplicación con rodillo, se aplicó un lı́quido fotosensible, que comprendı́a los
componentes mencionados anteriormente, sobre la placa de aluminio, preparada por el método descrito
anteriormente, que se secó en una primera etapa de secado a 75◦C, durante 33 segundos y que, posteriormente, se secó en una segunda etapa de secado a 90◦C, durante 43 segundos, para obtener una capa
fotosensible de 24 mg/dm2. Después del secado se realizó un tratamiento en condiciones de humedad
absoluta de 0,043 kg/kg’, durante 24 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
Ejemplo F7
60
Mediante un dispositivo de aplicación con rodillo, se aplicó un lı́quido fotosensible, que comprendı́a los
componentes mencionados anteriormente, sobre la placa de aluminio, preparada por el método descrito
anteriormente, que se secó en una primera etapa de secado a 45◦C, durante 33 segundos y que, poste64
ES 2 196 925 T3
riormente, se secó en una segunda etapa de secado a 80◦C, durante 43 segundos, para obtener una capa
fotosensible de 18 mg/dm2. Después del secado se realizó un tratamiento en condiciones de humedad
absoluta de 0,043 kg/kg’, durante 24 horas, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica.
5
Proceso de ejecución de impresión
10
La placa fotosensible de impresión litográfica mencionada anteriormente se pegó sobre un cilindro
giratorio y se efectuó una exposición de exploración por luz láser (8 W) mediante un trazador láser de
semiconductores (Trendsetter 830 nm, fabricado por CREO CO., LTD) bajo una lámpara amarilla. A
continuación, se realizó el revelado con un revelador alcalino MT-4 (para una placa litográfica positiva,
fabricado por Mitsubishi Chemical Corporation) diluido 2,3 veces, a 31◦ C mediante una máquina automática de revelado MT-850X, fabricada por G & J y se efectuó una evaluación con respecto a los
rendimientos, por los métodos siguientes.
15
Medición del intervalo de tiempo apropiado para el revelado
20
En el tratamiento de revelado con MT4 diluido 2,3 veces, se midió el tiempo cuando se disolvió la
porción total irradiada con una energı́a láser de 160 mJ/cm2 mediante la máquina de exposición anteriormente indicada y también se midió el tiempo cuando se disolvió el 10 % de la porción no irradiada con
el láser (porción sólida) y la diferencia obtenida se tomó como el intervalo de tiempo apropiado para el
revelado. Cuanto más ancho era el intervalo de dicho tiempo apropiado para revelado, mejor se producı́a
y mayor era la eficacia de dicho tratamiento.
Medición de la Tg de la capa fotosensible
25
30
El lı́quido fotosensible mencionado anteriormente se aplicó, a una temperatura del lı́quido de 25◦C
bajo una atmósfera de 25◦ C y, posteriormente, se secó mediante un secador de aire caliente a 50◦ C durante 3 minutos, para obtener una capa fotosensible de 24 mg/dm2 . El tiempo de enfriado a velocidad
constante era de 30 segundos en este momento. La Tg de dicha capa fotosensible se midió por medio de
D-DSC, con lo que Tg era de 53◦ C.
Tiempo de secado a velocidad constante
35
40
45
Este tiempo se calculó partiendo de la concentración del contenido de sólidos y de los valores de las
propiedades fı́sicas, de la concentración de disolvente y de las propiedades fı́sicas, del espesor de pelı́cula
y de las condiciones de secado. La figura 5 ilustra un ejemplo de cálculo del tiempo del secado a velocidad
constante. El punto de terminación del secado a velocidad constante es el punto en el que el proceso de
evaporación de la pelı́cula aplicada alcanza la etapa determinada de difusión interna y, prácticamente, se
puede obtener como el punto en el que la cantidad de desplazamiento del espesor de la pelı́cula aplicada,
debido al secado, ha alcanzado casi el valor de 0 (punto de inflexión en un gráfico que ilustra el espesor
de la pelı́cula aplicada).
El coeficiente de transferencia de calor en el secado con aire caliente era de 24 kcal/m2 ·hr·K en la
primera etapa de secado de la figura 4 y de 50 kcal/m2 ·hr·◦C en la segunda etapa de secado de la figura
4 y la concentración del contenido de sólidos era de un 13 %.
Sensibilidad
50
Es la mı́nima cantidad de energı́a láser (mJ/cm2 ) con la que se puede obtener una imagen apropiada,
mediante inmersión a 28◦ C, durante 40 segundos, bajo las condiciones mencionadas anteriormente de
exposición y de revelado.
Resistencia a la impresión
55
Se horneó un modelo para impresión con una exposición de 160 mJ/cm2 a 8 W proporcionada por
la máquina de exposición mencionada anteriormente y se realizó un tratamiento bajo las condiciones de
revelado mencionadas anteriormente para preparar una placa de impresión. Usando este procedimiento,
se efectuó la impresión de 100.000 láminas y se evaluó visualmente el defecto de impresión de un 3 % de
puntos mediante un amplificador de 25x.
60
65
ES 2 196 925 T3
Condiciones de impresión:
Agua de humectación:
5
10
15
Papel de impresión:
Velocidad de impresión:
Presión de impresión:
High Echo Beni, fabricado por Toyo Ink,
una salida de un 3 %.
Astro No. 1, Mark 2, 1 %, pH = 5,0, una
salida de un 40 %.
OK Art.
6.000 láminas/hora
0,13
Resistencia quı́mica
Resistencia quı́mica a la goma: cada muestra se reveló bajo las condiciones de exposición y las condiciones de revelado mencionadas anteriormente y se sumergió en un lı́quido de goma GU7, fabricado por
Fuji Photo Film Co., Ltd., durante 2 horas, después de lo cual se midió la proporción restante de pelı́cula
de la porción no expuesta (porción sólida) mediante un densitómetro de reflexión y se evaluó.
La evaluación normal era tal que o: 100 - 90 %, ∆: 90 - 80 %, x: 80 % como máximo, en base al valor
medido de la proporción restante de pelı́cula, mencionada anteriormente.
20
25
Propiedad de conservación
30 láminas de tamaño de 1.030 x 800 mm se envolvieron con una lámina de papel impermeable para
la humedad y se conservaron a 25◦C en condiciones de humedad de un 56 %, durante 3 meses y se realizó
el revelado por el método de exposición mencionado anteriormente con DP4 diluido 7 veces, después de
lo cual se valoró la fluctuación en los rendimientos.
La valoración normal fue tal que o: valor de fluctuación dentro de ± 10 %, ∆: dentro de ± 20 % y
x: al menos ± 20 %, cuando se preparó una placa de impresión bajo las condiciones de exposición y las
condiciones de revelado mencionadas anteriormente.
30
Los resultados de las evaluaciones de los ejemplos F1 a F7 se indican en la tabla 7.
35
40
45
50
55
60
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5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
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Ejemplos G1 a G3
Preparación de una placa de impresión litográfica
5
10
15
20
Preparación de una placa de aluminio
Una placa de aluminio (material: JIS1050, dureza: H16) que tenı́a un espesor de 0,24 mm y una anchura de 1.200 mm se sometió a un tratamiento de desengrase a 60◦ C durante un minuto en una solución
acuosa de hidróxido sódico con un 5 % en peso y, posteriormente, a un tratamiento de ataque electrolı́tico
en una solución acuosa de ácido nı́trico que tenı́a una concentración de 0,5 moles/l a una temperatura de
25◦C, con una densidad de corriente de 60 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de 30 segundos.
Posteriormente, dicha placa se sometió a un tratamiento de neutralización en una solución acuosa de
hidróxido sódico con un 5 % en peso, a 60◦C, durante 10 segundos y, posteriormente, a un tratamiento de
anodizado en una solución de ácido sulfúrico con un 20 % en peso, a una temperatura de 20◦ C, con una
densidad de corriente de 3 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de un minuto. Además, se sometió
a un tratamiento hidrotérmico de sellado de poros con agua caliente a 80◦C, durante 20 segundos, para
obtener una placa de aluminio que servı́a como soporte para una placa de impresión litográfica.
Sobre la placa de aluminio preparada por el método descrito anteriormente y secada a 85◦ C durante
2 minutos, mediante una barra, se aplicó un lı́quido fotosensible que comprendı́a los siguientes componentes, para obtener una capa fotosensible de placa fotosensible de impresión litográfica con un espesor
de pelı́cula aplicada de 24 mg/dm2.
Lı́quido fotosensible
25
30
35
40
Material de conversión foto-térmica:
Compuesto S-53 de la tabla 1
Resina soluble en álcali:
Resina novolak de m-cresol/p-cresol/fenol, (proporción molar 3:2:5)
Agente 1 supresor de solubilidad:
Lactona de cloruro de metilrrosanilina
Agente 2 supresor de solubilidad:
Resina de novolak y el compuesto (V), anteriormente
mencionado, unidos entre sı́ por un enlace éster
Aditivo 1: Cymel 300, fabricado por Mitsui Cytec Company
Aditivo 2: Ácido ciclohexano-1,2-dicarboxı́lico
Aditivo 3: Tetraoleato de polietilenosorbit
Disolvente: Metil cellosolve
Etil cellosolve
0,04 g
1,0 g
0,1 g
0,1
0,01
0,05
0,04
7,2
1,8
g
g
g
g
g
g
Ejemplo G1
45
50
55
Sobre la superficie de la capa fotosensible, de la placa fotosensible de impresión litográfica mencionada
anteriormente, se aplicó un material protector (material: papel de pulpa natural) que tenı́a un contenido
de agua de un 4,0 %, un espesor de 100 µm y un peso de 25 g/dm2 y, posteriormente, se cortó con un
tamaño de 1.180 mm x 900 mm, mediante un dispositivo de corte y 900 de estas láminas se apilaron
sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera situado sobre la misma. A
continuación, las superficies laterales del apilado se cubrieron con una lámina contraı́ble por calor y la
lámina se sometió a contracción con un secador, para adherencia. En la parte superior del apilado se
colocó un material aislante calorı́fugo en forma de una alfombra de 1.200 mm x 1.400 mm.
A continuación, el apilado se llevó a una cámara que tenı́a una atmósfera de 65◦C y se midió el tiempo
que pasó hasta que la temperatura de la placa alcanzo 60◦ C.
Ejemplo G2
60
Sobre la superficie de la capa fotosensible, de la placa fotosensible de impresión litográfica mencionada
anteriormente, se aplicó un material protector (material: papel de pulpa natural) que tenı́a un contenido
de agua de un 4,0 %, un espesor de 100 µm y un peso de 25 g/dm2 y, posteriormente, se cortó con un
tamaño de 1.180 mm x 900 mm, mediante un dispositivo de corte y 900 de estas láminas se apilaron
68
ES 2 196 925 T3
5
10
sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera situado sobre la misma. A
continuación, las superficies laterales del apilado se cubrieron con una lámina contraı́ble por calor y la
lámina se sometió a contracción con un secador, para adherencia. En las superficies laterales del apilado
se enrolló un generador de calor con forma de lámina (300 mm x 4.200 mm (1,26 m2 )) con una densidad de potencia en vatios de 457 W/m2 y además se enrolló una pelı́cula de resina contraı́ble por calor
sobre el lado exterior del mismo, operación que fue seguida por calentamiento del generador de calor,
para adhesión por contracción, a las superficies laterales de las placas apiladas. En la parte superior del
apilado se colocó un material aislante calorı́fugo en forma de una alfombra de 1.200 mm x 1.400 mm.
A continuación, el apilado se llevó a una cámara que tenı́a una atmósfera de 65◦ C y, al mismo tiempo,
se aplicó una tensión eléctrica (100 V) al generador de calor con forma de lámina, para generación de
calor. A continuación, se midió el tiempo que pasó hasta que la temperatura de la placa alcanzo 60◦ C.
Ejemplo G3
15
20
25
30
Sobre la superficie de la capa fotosensible, de la placa fotosensible de impresión litográfica mencionada
anteriormente, se aplicó un material protector (material: papel de pulpa natural) que tenı́a un contenido
de agua de un 4,0 %, un espesor de 100 µm y un peso de 25 g/dm2 y, posteriormente, se cortó con un
tamaño de 1.180 mm x 900 mm, mediante un dispositivo de corte y 900 de estas láminas se apilaron sobre
una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera situado sobre la misma. En las
superficies laterales del apilado se enrolló un generador de calor con forma de lámina (300 mm x 4.200
mm (1,26 m2 )) con una densidad de potencia en vatios de 457 W/m2 y además se enrolló una pelı́cula de
resina contraı́ble por calor sobre el lado exterior del mismo, operación que fue seguida por calentamiento
del generador de calor, para adhesión por contracción, a las superficies laterales de las placas apiladas.
Además, sobre las superficies laterales se enrolló un material aislante calorı́fugo en forma de una alfombra
de 350 mm x 4.400 mm y en la parte superior del apilado se colocó un material aislante calorı́fugo en
forma de una alfombra de 1.200 mm x 1.400 mm. A continuación, se aplicó una tensión eléctrica (100 V)
al generador de calor con forma de lámina, que estaba en una atmósfera a temperatura ordinaria, para
generación de calor. A continuación, se midió el tiempo que pasó hasta que la temperatura medida de la
placa alcanzo 60◦C.
Los resultados de los ejemplos G1 a G3 se muestran en la tabla 8.
TABLA 8
35
40
Tiempo transcurrido hasta que la temperatura de placa
alcanzó 60◦ C.
Ejemplo G1
Ejemplo G2
Ejemplo G3
32 horas
14 horas
10 horas
Ejemplos H1 y H2
45
Preparación de una placa de impresión litográfica
Preparación de una placa de aluminio
50
55
60
Una placa de aluminio (material: JIS1050, dureza: H16) que tenı́a un espesor de 0,24 mm y una anchura de 1.200 mm se sometió a un tratamiento de desengrase a 60◦ C durante un minuto en una solución
acuosa de hidróxido sódico con un 5 % en peso y, posteriormente, a un tratamiento de ataque electrolı́tico
en una solución acuosa de ácido nı́trico que tenı́a una concentración de 0,5 moles/l a una temperatura de
25◦C, con una densidad de corriente de 60 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de 30 segundos.
Posteriormente, dicha placa se sometió a un tratamiento de neutralización en una solución acuosa de
hidróxido sódico con un 5 % en peso, a 60◦ C, durante 10 segundos y, posteriormente, a un tratamiento de
anodizado en una solución de ácido sulfúrico con un 20 % en peso, a una temperatura de 20◦ C, con una
densidad de corriente de 3 A/dm2 , durante un tiempo de tratamiento de un minuto. Además, se sometió
a un tratamiento hidrotérmico de sellado de poros con agua caliente a 80◦C, durante 20 segundos, para
obtener una placa de aluminio que servı́a como soporte para una placa de impresión litográfica.
Sobre la placa de aluminio preparada por el método descrito anteriormente y secada a 85◦ C durante
2 minutos, mediante una barra, se aplicó un lı́quido fotosensible que comprendı́a los siguientes componentes, para obtener una placa fotosensible de impresión litográfica con un espesor de pelı́cula aplicada
69
ES 2 196 925 T3
de 24 mg/dm2 .
Lı́quido fotosensible
5
10
15
20
Material de conversión foto-térmica:
Compuesto S-53 de la tabla 1
Resina soluble en álcali:
Resina novolak de m-cresol/p-cresol/fenol, (proporción molar 3:2:5)
Agente 1 supresor de solubilidad:
Lactona de cloruro de metilrrosanilina
Agente 2 supresor de solubilidad:
Resina de novolak y el compuesto (V), anteriormente
mencionado, unidos entre sı́ por un enlace éster
Aditivo 1: Cymel 300, fabricado por Mitsui Cytec Company
Aditivo 2: Ácido ciclohexano-1,2-dicarboxı́lico
Aditivo 3: Tetraoleato de polioxietilenosorbit
Disolvente: Metil cellosolve
Etil cellosolve
0,04 g
1,0 g
0,1 g
0,1
0,01
0,05
0,04
7,2
1,8
g
g
g
g
g
g
Ejemplo H1
25
30
35
Sobre la superficie de la capa fotosensible, de la placa fotosensible de impresión litográfica mencionada
anteriormente, se aplicó un material protector (material: papel de pulpa natural) que tenı́a un contenido
de agua de un 4,0 %, un espesor de 100 µm y un peso de 25 g/dm2 y, posteriormente, se cortó con un
tamaño de 1.180 mm x 900 mm, mediante un dispositivo de corte y 900 de estas láminas se apilaron
sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera situado sobre la misma. A
continuación, las superficies laterales del apilado se cubrieron con una lámina contraı́ble por calor y la
lámina se sometió a contracción con un secador, para adherencia. Sobre la parte superior del apilado se
colocó un material aislante calorı́fugo en forma de una alfombra de 1.200 mm x 1.400 mm.
A continuación, el apilado se llevó a una cámara que tenı́a una atmósfera de 70◦C y se midió el tiempo
que pasó hasta que la temperatura de la placa alcanzó 60◦C, sin funcionamiento alguno de aparato de
circulación de aire.
Ejemplo H2
40
45
50
Sobre la superficie de la capa fotosensible, de la placa fotosensible de impresión litográfica mencionada
anteriormente, se aplicó un material protector (material: papel de pulpa natural) que tenı́a un contenido
de agua de un 4,0 %, un espesor de 100 µm y un peso de 25 g/dm2 y, posteriormente, se cortó con un
tamaño de 1.180 mm x 900 mm, mediante un dispositivo de corte y 900 de estas láminas se apilaron
sobre una plataforma de resina que tenı́a un tablero de partı́culas de madera situado sobre la misma. A
continuación, las superficies laterales del apilado se cubrieron con una lámina contraı́ble por calor y la
lámina se sometió a contracción con un secador, para adherencia. Sobre la parte superior del apilado se
colocó un material aislante calorı́fugo en forma de una alfombra de 1.200 mm x 1.400 mm.
A continuación, el apilado se llevó a una cámara que tenı́a una atmósfera de 70◦ C y se midió el
tiempo que pasó hasta que la temperatura de la placa alcanzó 60◦C, mientras que funcionaba el aparato
de circulación de aire. La velocidad de la corriente de aire alrededor del apilado era de 6,0 m/s sobre
la media de las cuatro esquinas de la superficie de las placas de impresión litográfica apiladas, contra el
aparato de circulación de aire.
Los resultados de los ejemplos H1 y H2 se muestran en la tabla 9.
55
TABLA 9
Tiempo transcurrido hasta que la temperatura de placa
alcanzó 60◦C.
60
Ejemplo H1
Ejemplo H2
21 horas
18 horas
70
ES 2 196 925 T3
REIVINDICACIONES
5
10
15
1. Un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica que comprende un material
fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica, que tiene una banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y una resina soluble en
álcali, donde la velocidad de disolución de dicho material fotosensible, en condiciones de no expuesto,
en un revelador alcalino, aumenta desde la parte superficial hacia la parte inferior de dicho material
fotosensible.
2. Un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica que comprende un material
fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica, que tiene una banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y una resina soluble en
álcali, donde la velocidad de disolución de dicho material fotosensible, en condiciones de no expuesto, en
un revelador alcalino, aumenta continuamente desde la parte superficial hacia la parte inferior de dicho
material fotosensible.
3. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, que se ha expuesto mediante una luz láser.
20
25
4. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de la reivindicación 1, en el que
dicho material fotosensible incluye un compuesto polar difundido en dicho material desde la superficie de
dicho material fotosensible.
5. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de la reivindicación 4, en el que
dicho compuesto polar es H2 O.
6. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, en el que el material fotosensible es una monocapa.
30
7. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con la reivindicación
1, en el que el material fotosensible está compuesto por varias capas.
35
8. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, en el que el gradiente de solubilidad del material fotosensible, en la dirección del espesor, es
de al menos 2.
40
9. La composición positiva fotosensible de acuerdo con las reivindicaciones 1, 2 u 8, en el que, cuando
el material fotosensible se revela con un revelador alcalino, la velocidad de disolución del material fotosensible, en las condiciones de no expuesto, es de un 0,01 % a un 20 % en el semi-punto (t/2) del tiempo
(t) hasta que la proporción restante de pelı́cula alcanza un 80 %.
10. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, en el que la temperatura de transición vı́trea del material fotosensible es de 50◦C a 120◦C.
45
11. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, que contiene al menos una resina de novolak como la resina soluble en álcali.
12. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, que contiene al menos una resina de polivinil fenol como la resina soluble en álcali.
50
55
13. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, en el que el material de conversión foto-térmica es un colorante de cianina.
14. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con la reivindicación
13, en el que el colorante de cianina es un compuesto representado por la siguiente fórmula (I) general:
60
71
ES 2 196 925 T3
5
10
15
20
25
donde cada uno de los anillos C1 y C2 , que son independientes entre sı́, es un anillo de benceno o un anillo
de naftaleno que pueden tener un sustituyente, donde cada uno de Y1 e Y2 , que son independientes entre
sı́, es un grupo dialquilmetileno o un átomo de azufre, donde cada uno de R1 y R2 , que son independientes
entre sı́, es un grupo de hidrocarburo que puede tener un sustituyente, donde L1 es un grupo tri-, pentao hepta-metino que puede tener un sustituyente, siempre que dos sustituyentes de dicho grupo pentao hepta-metino puedan enlazarse entre sı́ para formar un anillo de cicloalqueno C5−7 y X’ es un contra
anión.
15. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, en el que el material de conversión foto-térmica es un compuesto que tiene al menos un
esqueleto de N,N-diaril iminio en su molécula.
16. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con la reivindicación
15, en el que el compuesto que tiene al menos un esqueleto de N,N-diaril iminio en su molécula es un
compuesto representado por una de las siguientes formulas (IIa) o (IIb) generales:
30
35
40
45
50
55
60
donde cada uno de los anillos C3 a C6 , que son independientes entre sı́, es un anillo de benceno que puede
tener un sustituyente, X’ es un contra anión y el anillo de ciclohexadieno al que están unidos los átomos
72
ES 2 196 925 T3
de nitrógeno, puede tener un sustituyente.
17. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, en el que el material fotosensible también contiene un agente supresor de solubilidad.
5
18. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con la reivindicación
17, en el que el agente supresor de solubilidad es un compuesto de éster sulfónico.
10
19. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con la reivindicación
17, en el que el agente supresor de solubilidad es un compuesto que tiene un esqueleto de triarilmetano.
15
20. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, en el que la resina soluble en álcali contiene grupos hidroxil fenólicos y al menos una
parte de dichos grupos hidroxil fenólicos están esterificados mediante un compuesto de ácido sulfónico
que funciona para suprimir solubilidad del material fotosensible.
21. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, en el que el material fotosensible también contiene un colorante ácido de color desarrollable.
20
25
30
22. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con la reivindicación
21, en el que el colorante ácido de color desarrollable es un compuesto que tiene un esqueleto de lactona
en su molécula.
23. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, en el que la capa fotosensible también contiene un compuesto capaz de reticular a la resina
soluble en álcali, como efecto del calor.
24. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con la reivindicación 23, en el que el compuesto capaz de reticular la resina soluble en álcali, como efecto del calor, es
un compuesto que tiene un esqueleto de melamina.
25. Un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con la reivindicación 24, que tiene un compuesto polar difundido a su través desde la superficie.
35
26. Un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con la reivindicación 25, en el que dicho compuesto polar es H2 O.
27. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, en el que el material fotosensible, sustancialmente, no contiene generador foto-ácido alguno.
40
28. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, en el que la velocidad de disolución de la capa fotosensible en un revelador alcalino no se
cambia sustancialmente por irradiación con rayos ultravioleta.
45
50
55
60
29. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, en el que el disolvente que permanece en el material fotosensible es un 6 % como máximo.
30. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, en el que el material fotosensible no sufre sustancialmente cambio quı́mico alguno por
irradiación con una luz que tiene una longitud de onda comprendida dentro del intervalo de 600 nm a
1.300 nm.
31. El precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de acuerdo con las reivindicaciones 1 ó 2, en el que el material fotosensible no sufre sustancialmente cambio quı́mico alguno por
irradiación con una luz que tiene una longitud de onda comprendida dentro del intervalo de 250 nm a
600 nm.
32. Un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica que se puede exponer mediante un rayo de luz láser que tiene una densidad luminosa de al menos 2,0x106 mJ/s·cm2 , donde dicha
placa comprende un material fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica que tiene
una banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300
nm y una resina soluble en álcali, donde la velocidad de disolución de dicho material fotosensible, en
73
ES 2 196 925 T3
condiciones de no expuesto, en un revelador alcalino, aumenta desde la parte superficial hacia la parte
inferior de dicho material fotosensible.
5
33. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica que
comprende la aplicación de un recubrimiento de una composición fotosensible que contiene un material
de conversión foto-térmica que tiene una banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de
longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y una resina soluble en álcali, sobre un soporte, para formar
una capa de material fotosensible y la difusión de un compuesto que tiene un grupo polar en el material
fotosensible, desde la superficie del material fotosensible.
10
15
20
25
30
35
40
34. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica que
comprende la aplicación de un recubrimiento de una composición fotosensible que contiene un material
de conversión foto-térmica que tiene una banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de
longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y una resina soluble en álcali, sobre un soporte, para formar
una capa de material fotosensible y la difusión de H2 O en el material fotosensible, desde la superficie
superior del material fotosensible.
35. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica que
comprende la aplicación de un recubrimiento de una composición fotosensible que contiene un material
de conversión foto-térmica que tiene una banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de
longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y una resina soluble en álcali, sobre un soporte, para formar
una capa de material fotosensible y, posteriormente, la puesta en contacto de la placa recubierta con una
atmósfera que tiene una humedad absoluta de al menos 0,007 kg/kg’.
36. Un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica sobre la que se puede formar
una imagen cuando se expone mediante una luz láser, donde dicha placa de impresión comprende un
material fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica que tiene una banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y una resina
soluble en álcali, donde dicho material fotosensible está formado como una capa sobre un soporte que,
posteriormente, se pone en contacto con una atmósfera que tiene una humedad absoluta de al menos
0,007 kg/kg’.
37. El método de producción de un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica
de acuerdo con la reivindicación 35, en el que el contacto con una atmósfera que tiene una humedad
absoluta de al menos 0,007 kg/kg’ se mantiene bajo calentamiento para conseguir una temperatura de
30◦C a 100◦C.
38. El método de producción de un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica
de acuerdo con la reivindicación 37, en el que las condiciones de humedad en el proceso de mantenimiento
bajo calentamiento son tales que la humedad absoluta es de 0,007 kg/kg’ a 0,2 kg/kg’.
39. El método de producción de un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica
de acuerdo con la reivindicación 38, en el que las condiciones de humedad en el proceso de mantenimiento
bajo calentamiento son tales que la humedad absoluta es de 0,018 kg/kg’ a 0,1 kg/kg’.
45
50
55
40. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica, que
comprende la aplicación de un recubrimiento de composición fotosensible que contiene un material de
conversión foto-térmica que tiene una banda de absorción comprendida dentro del intervalo de longitudes
de onda de 600 nm a 1.300 nm y de una resina soluble en álcali, sobre un soporte, para formar una capa
fotosensible y la ejecución de una difusión de un material en el interior del material fotosensible, desde
la superficie de la capa fotosensible, de forma que la velocidad de disolución de dicha capa fotosensible
en un revelador alcalino aumente continuamente desde la parte de la superficie hacia la parte de la capa
inferior.
41. El método de la reivindicación 40 en el que el material difundido es un compuesto polar.
42. El método especificado en la reivindicación 41, en el que dicho compuesto polar es H2 O.
60
43. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica, que
comprende la aplicación de un recubrimiento de composición fotosensible que contiene un material de
conversión foto-térmica que tiene una banda de absorción comprendida dentro del intervalo de longitudes
de onda de 600 nm a 1.300 nm y de una resina soluble en álcali, sobre un soporte, para formar una capa
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de material fotosensible, solapando dicho material fotosensible con un material protector que contiene
humedad y manteniendo el laminado bajo calor.
5
44. El método de producción de un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica
de acuerdo con la reivindicación 43, en el que el material protector tiene un contenido de H2 O de un 1 %
a un 10 % en peso.
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45. Un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica sobre la que se puede formar
una imagen cuando se expone mediante una luz láser, donde dicha placa de impresión comprende un material fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica que tiene una banda de absorción
comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y una resina soluble
en álcali, donde dicho material fotosensible se forma sobre un soporte que, posteriormente, se solapa
con un material protector que tiene un contenido de H2 O de un 1 % a un 10 % en peso, manteniendo
posteriormente el laminado bajo calentamiento de forma que dicho H2 O se difunde al interior de dicho
material fotosensible.
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46. El método de producción de un precursor de placa positiva de impresión litográfica según se define
en la reivindicación 45, en el que el precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica se
solapa con un material protector que contiene humedad, manteniendo posteriormente el laminado bajo
calentamiento para conseguir una temperatura de 30◦ C a 100◦C.
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47. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica que
se puede exponer mediante una luz láser, método que comprende la formación de una capa fotosensible
que contiene un material de conversión foto-térmica que tiene una banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y una resina soluble en álcali, sobre
un soporte, superponiendo posteriormente a dicha capa fotosensible un material protector que tiene un
contenido de H2 O de un 1 % a un 10 % en peso y manteniendo posteriormente el laminado bajo calentamiento durante un tiempo predeterminado.
48. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica que
se puede exponer mediante una luz láser, método que comprende la formación de una capa fotosensible
que contiene un material de conversión foto-térmica que tiene una banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y una resina soluble en álcali, sobre un
soporte, superponiendo posteriormente a dicha capa fotosensible un material protector que tiene un contenido de H2 O de un 1 % a un 10 % en peso y manteniendo posteriormente el laminado bajo calentamiento
durante un tiempo predeterminado, de forma que dicho H2 O se difunde desde dicho material protector al
interior de dicho material fotosensible y de forma que la velocidad de disolución en un revelador alcalino
de dicho material fotosensible, en las condiciones de no expuesto, aumenta continuamente desde la parte
superficial hacia la parte inferior de dicho material fotosensible.
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49. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica, en
el que una composición fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica, que tiene una
banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y
una resina soluble en álcali, se aplica recubriendo sobre un soporte, para formar una capa de material
fotosensible que, posteriormente, se solapa con un material protector que tiene un contenido de H2 O de
un 1 % a un 10 % en peso, para obtener un precursor de placa de impresión litográfica de un tamaño
predeterminado, donde una diversidad de tales precursores de placa de impresión litográfica se apilan
uno sobre otro y donde al menos la totalidad de las superficies laterales de los precursores de placa de
impresión litográfica apilados se cubre con un material impermeable para la humedad, manteniendo posteriormente el apilado bajo calentamiento.
50. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica, en
el que una composición fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica, que tiene una
banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y
una resina soluble en álcali, se aplica recubriendo sobre un soporte, para formar una capa de material
fotosensible que, posteriormente, se solapa con un material protector que tiene un contenido de H2 O de un
1 % a un 10 % en peso y se enrolla para formar una bobina y donde al menos la totalidad de las superficies
laterales de dicho precursor de placa de impresión litográfica con forma de una bobina se cubren con un
material impermeable para la humedad, manteniendo posteriormente la bobina bajo calentamiento.
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51. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica, en
el que una composición fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica, que tiene una
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banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y
una resina soluble en álcali, se aplica recubriendo sobre un soporte, para formar una capa de material
fotosensible y se hace chocar un fluido a una temperatura de 30◦C a 100◦C contra el mismo, donde la
humedad absoluta de dicho fluido es de al menos 0,007 kg/kg’.
5
52. El método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de
acuerdo con la reivindicación 51, en el que la velocidad de choque de dicho fluido es de 0,5 a 20 m/s.
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53. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica, en
el que una composición fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica, que tiene una
banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y
una resina soluble en álcali, se aplica recubriendo sobre un soporte, para formar una capa de material
fotosensible que, posteriormente, se coloca en una cámara que tiene una temperatura de 30◦ C a 100◦C,
que también tiene una humedad absoluta de al menos 0,007 kg/kg’ y que tiene un tamaño predeterminado, donde se hace circular aire por la cámara.
54. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica, en
el que una composición fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica, que tiene una
banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y
una resina soluble en álcali, se aplica recubriendo sobre un soporte, para formar una capa de material
fotosensible que, posteriormente, se solapa con un material protector que tiene un contenido de agua de
un 1 % a un 10 % en peso, para obtener un precursor de placa de impresión litográfica de un tamaño
predeterminado, donde una diversidad de tales precursores de placa de impresión litográfica se apilan
uno sobre otro y donde dichos precursores de placa de impresión litográfica apilados se colocan en una
cámara que tiene una temperatura de 30◦ C a 100◦ C y que tiene un tamaño predeterminado, donde se
hace circular aire por la cámara.
55. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica, en
el que una composición fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica, que tiene una
banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y
una resina soluble en álcali, se aplica recubriendo sobre un soporte, para formar una capa de material
fotosensible que, posteriormente, se solapa con un material protector que tiene un contenido de H2 O de
un 1 % a un 10 % en peso, para obtener un precursor de placa de impresión litográfica de un tamaño
predeterminado, donde una diversidad de tales precursores de placa de impresión litográfica se apilan uno
sobre otro, donde las superficies laterales de dichos precursores de placa de impresión litográfica apilados
se cubren con un generador de calor y se calientan por dicho generador de calor y se mantienen bajo
calentamiento.
56. El método de producción de un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica
de acuerdo con la reivindicación 55, en el que el generador de calor tiene forma de una lámina.
57. El método de producción de un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica
de acuerdo con la reivindicación 55, en el que el generador de calor está en contacto con las superficies
laterales del precursor de placa de impresión.
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58. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica, en
el que una composición fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica, que tiene una
banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y
una resina soluble en álcali, se aplica recubriendo sobre un soporte, para formar una capa fotosensible
que, posteriormente, se solapa con un material protector que contiene un compuesto que tiene un grupo
polar, para obtener un precursor de placa de impresión litográfica de un tamaño predeterminado, donde
una diversidad de tales precursores de placa de impresión litográfica se apilan uno sobre otro y donde se
aplica un material aislante calorı́fugo a casi la totalidad de las superficies superior y del fondo de dicho
apilado y el apilado se mantiene bajo calentamiento, en tal estado.
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59. El método de producción de un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica
de acuerdo con la reivindicación 58, en el que el contenido de H2 O del material protector es de un 1 % a
un 10 % en peso.
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60. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión, en el que
una composición fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica, que tiene una banda
de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y una
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resina soluble en álcali, se aplica recubriendo sobre un soporte, para formar una capa fotosensible que,
posteriormente, se solapa con un material protector que contiene un compuesto que tiene un grupo polar,
para obtener un precursor de placa fotosensible de impresión con una forma de banda alargada, donde
un precursor de placa fotosensible de impresión se arrolla sobre un material de núcleo aislante calorı́fugo
para formar una bobina del precursor de placa fotosensible de impresión y su periferia se cubre con un
material aislante calorı́fugo y, posteriormente, la bobina se mantiene bajo calentamiento, en tal estado.
61. El método de producción de una placa fotosensible de impresión de acuerdo con la reivindicación
60, en el que antes de que se apile alternativamente un precursor de placa fotosensible de impresión y un
material protector, se eleva la temperatura del precursor de placa fotosensible de impresión para que su
temperatura esté dentro del intervalo de ± 10◦ C, con respecto a la temperatura empleada para mantener
el precursor de placa fotosensible de impresión bajo calentamiento.
62. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica, en
el que una composición fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica, que tiene una
banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y
una resina soluble en álcali, se aplica recubriendo sobre un soporte, para formar una capa de material
fotosensible y se realiza un proceso de secado a una temperatura comprendida dentro de un intervalo de
20◦C a 100◦C, durante un tiempo predeterminado, antes de la difusión de un compuesto que tiene un
grupo polar, desde la superficie del material fotosensible.
63. Un método para producir un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica, en
el que una composición fotosensible que contiene un material de conversión foto-térmica, que tiene una
banda de absorción comprendida dentro de un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm y
una resina soluble en álcali, se aplica recubriendo sobre un soporte, para formar una capa fotosensible
y se realiza un proceso de secado a una temperatura comprendida dentro de un intervalo de 20◦ C a
100◦C, durante un tiempo predeterminado, antes de ponerse en contacto con una atmósfera que tiene
una humedad absoluta de al menos 0,007 kg/kg’.
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64. El método de producción de un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica
de acuerdo con la reivindicación 62, en el que en dicho proceso de secado, el secado a una temperatura
comprendida dentro de un intervalo de 20◦ C a 100◦C se realiza durante un tiempo predeterminado, hasta
que el disolvente que permanece en la capa fotosensible tiene un valor de un 10 % en peso como máximo.
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65. El método de producción de un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica de
acuerdo con la reivindicación 62, en el que dicho proceso de secado comprende dos etapas, una primera
etapa de secado en la que el secado se efectúa a una temperatura comprendida dentro de un intervalo de
20◦C a 55◦ C, durante un tiempo predeterminado y una segunda etapa de secado, en la que el secado se
efectúa a una temperatura más alta que la de la primera etapa de secado, durante un tiempo predeterminado.
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66. El método de producción de un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica
de acuerdo con la reivindicación 65, en el que dicho proceso de secado comprende dos etapas y en la
primera etapa de secado, el secado se efectúa a una temperatura comprendida dentro de un intervalo de
20◦C a 55◦C, durante 10 a 120 segundos.
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67. El método de producción de un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica
de acuerdo con la reivindicación 62, en el que en dicho proceso de secado, el secado se efectúa durante al
menos 25 segundos hasta el punto de terminación de secado a velocidad constante de la capa fotosensible
del precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica.
55
68. El método de producción de un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica
de acuerdo con la reivindicación 62, en el que en dicho proceso de secado, la temperatura más alta a la
que se realiza el secado es una temperatura que supera en 10◦ C a la temperatura de transición vı́trea del
material de dicha capa fotosensible, antes del secado.
69. El método de producción de un precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica
de acuerdo con la reivindicación 62, en el que en dicho proceso de secado, la temperatura de transición
vı́trea del material fotosensible, después del secado, es de 40◦ C a 80◦ C.
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70. Un método para formar una imagen positiva que comprende la exploración y la irradiación del
precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica como se define en la reivindicación 1, con
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una luz láser que tiene un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm, para proyectar una
imagen con el fin de exposición, operación que va seguida por el revelado con un revelador alcalino.
5
71. Un método para formar una imagen positiva que comprende la exploración y la irradiación del
precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica obtenido por el método definido en la
reivindicación 33, con una luz láser que tiene un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm,
para proyectar una imagen con el fin de exposición, operación que va seguida por el revelado con un
revelador alcalino.
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72. Un método para formar una imagen positiva que comprende la irradiación del precursor de placa
positiva fotosensible de impresión litográfica como se define en la reivindicación 1, con una luz láser que
tiene un intervalo de longitudes de onda de 600 nm a 1.300 nm, para exposición, sometiendo el precursor
de placa positiva fotosensible de impresión litográfica a un proceso de revelado alcalino.
15
73. El método de formación de una imagen positiva de acuerdo con la reivindicación 70, en el que
la intensidad luminosa en el momento de irradiación con un rayo de luz láser es de al menos 2 x 106
mJ/s·cm2 .
20
74. Un método para formar una imagen positiva que comprende la exploración y la irradiación del
precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica como se define en la reivindicación 13,
con una luz láser que tiene una longitud de onda en las cercanı́as de 830 nm, para proyectar una imagen
para exposición, operación que va seguida por el revelado con un revelador alcalino.
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75. Un método para formar una imagen positiva que comprende la exploración y la irradiación del
precursor de placa positiva fotosensible de impresión litográfica como se define en la reivindicación 15,
con una luz láser que tiene una longitud de onda en las cercanı́as de 1064 nm, para proyectar una imagen
para exposición, operación que va seguida por el revelado con un revelador alcalino.
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76. El método de formación de una imagen positiva de acuerdo con la reivindicación 70, en el que el
revelador alcalino contiene un hidróxido metálico alcalino y un silicato metálico alcalino, tiene un pH de
al menos 12 y contiene una silicona.
77. El método de formación de una imagen positiva de acuerdo con la reivindicación 70, en el que el
revelador alcalino contiene un agente anfótero superficialmente activo.
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78. El método de formación de una imagen positiva de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 70 a 77, en el que la imagen positiva representa una placa de impresión litográfica.
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79. Un método para imprimir una imagen sobre una superficie, método que comprende la formación
de una imagen positiva sobre una placa de impresión, mediante irradiación de un precursor de placa
positiva de impresión fotográfica como se define en la reivindicación 1, con una luz láser que tiene una
longitud de onda de 600 nm a 1.300 nm, para exposición, revelando la imagen formada usando un proceso de revelado alcalino, aplicando tinta de impresión a la imagen revelada y aplicando tinta desde dicha
imagen a la superficie que se va a imprimir.
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NOTA INFORMATIVA: Conforme a la reserva del art. 167.2 del Convenio de Patentes Europeas (CPE)
y a la Disposición Transitoria del RD 2424/1986, de 10 de octubre, relativo a la
aplicación del Convenio de Patente Europea, las patentes europeas que designen a
España y solicitadas antes del 7-10-1992, no producirán ningún efecto en España en
la medida en que confieran protección a productos quı́micos y farmacéuticos como
tales.
Esta información no prejuzga que la patente esté o no incluı́da en la mencionada
reserva.
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