juntura metal semiconductor

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JUNTURA METAL
SEMICONDUCTOR
Dra. María Rebollo
Dr. Andres Ozols
FIUBA
2006
Drs. Rebollo- Ozols
1
CARACTERISTICAS CUALITATIVAS Juntura Metal - Semiconductor
Los Diagramas de bandas de Energía
g(ε)
ε
ε
dn/dε
gc(ε)
εc
εF
εF
dn/dε
εv
gv(ε)
dp/dε
Metal
Semiconductor
Drs. Rebollo- Ozols
2
CARACTERISTICAS CUALITATIVAS Juntura Metal - Semiconductor
Barrera Schottky
Diagrama de bandas de Energía
φm > φ S
(antes del contacto)
Semiconductor
tipo N
Metal
EF en Semiconductor
por encima de la EF
Flujo de electrones para EF cte
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3
Juntura Metal – Semiconductor tipo N
A-
φm > φ S
φφ0
0
Potencial de Schottky
φB = (φm − χ )
El potencial de contacto
(Potencial visto por los
electrones de la banda de
conducción)
φ0 = φB − ( EC − EF )
Metal
Semiconductor
tipo N
Zona de
vaciamiento
(carga positiva)
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4
Juntura Metal – Semiconductor tipo N
b-
φm < φ S
εo
eφ0
eχ
eφS
eφM
εc
εF
+ -+ -+ --
εv
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5
Funciones de trabajo φ
Afinidad Electrónica χ
Elemento
Función de
trabajo
Elemento
Afinidad
Electrónica
Ag
4.26
Ge
4.13
Al
4.28
Si
4.01
Au
5.1
GaAs
4.07
Cr
4.5
AlAs
3.5
Mo
4.6
Ni
5.15
Pd
5.12
Pt
5.65
Ti
4.33
W
4.55
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6
Campo Eléctrico
La distribución de carga en la
juntura metal SC tipo N
La ley de Poisson:
dE ρ ( x )
=
dx
εS
ρ
ρND
Q+ = eNDxnA
xn
x
Q- = -eNDxnA
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Campo Eléctrico
E=∫
eN d
εS
dx =
eN d
εS
x + C1
C1 = cte.
La condición de contorno
E ( xn ) = 0
−
C1 = −
Emax =
eN d
εS
eN d
εS
eN d
εS
xn
E=−
eN d
εS
( xn − x )
xn
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8
Potencial Eléctrico
El potencial se obtiene integrando el campo:
φ ( x) = − ∫ E ( x)dx + C '1
φ ( x) = − ∫
eN D
εS
C´1 = cte.
( x − xn )dx + C '1
2
eN D x
φ ( x) −
( − xxn ) + C '1
εS 2
La diferencia de potencial
en la zona de vaciamiento:
eN D xn2
∆φ = φ ( xn ) − φ (0) = φ0 =
2ε S
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9
Potencial Eléctrico
Eligiendo
φ ( xn ) = 0
eN D xn2
C '1 = −
2ε S
φ0(x)
eN D
φ ( x) = −
(x n -x) 2
2ε
y
φ (0) = −φ0
xn
x
-φ0
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10
Potencial Eléctrico
La energía potencial de los electrones es
e2 ND
− eφ( x ) =
(x n - x) 2 y
2ε
- eφ(0) = eφ 0
eφ0
xn
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x
11
Ancho de la zona de vaciamiento
Es obtenido a partir de la expresión de la juntura pn,
W = xn
W = xn =
Na = 0
(
2ε S φ O − V
)
eN d
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12
Juntura Metal – Semiconductor fuera de Equilibrio
eφ0
εo
eφM
eχ
eφB
eφS
-
++
εc
++
εF
++
εv
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13
Juntura Metal – Semiconductor fuera de Equilibrio
Polarización directa
(aplicado potencial +V)
+
φ0 − V
metal
semiconductor
Polarización directa V0>0
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Juntura Metal – Semiconductor fuera de Equilibrio
Polarización Inversa
(aplicado potencial –V)
-
φ0 + V
+
metal
semiconductor
Polarización inversa V0<0
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Capacidad de Juntura
La carga espacial cambia con la polarización
Q = AeN D x n = A 2eε(φ 0 − V0 ) N D
A= área de juntura
La capacidad es obtenida a partir de la expresión de la juntura pn, (bajo
condiciones de señal pequeña)
dxn
eε S N d
C = AeN d
=A
dV
2 φO − V
(
1/C2
)
φ0
V0
1
2
= 2
(φ 0 − V0 )
2
C
A eεN D
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Característica corriente-voltaje
Sin polarización:
La corriente de electrones compuesta por
JnS-M: la corriente de electrones de la banda de conducción que
fluye desde SC al metal. Estos electrones tienen suficiente energía
como para saltar el potencial de contacto φ0.
JnM-S: la corriente de electrones desde el metal al semiconductor.
En este caso los electrones deben superar el potencial φB.
En equilibrio JnS-M = JnM-S.
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17
Característica corriente-voltaje
La corriente de huecos está compuesta de:
JpM-S : la corriente de huecos desde el metal al semiconductor.
Se compone de huecos que se generan en la superficie del
semiconductor cuando electrones de la banda de valencia pasan
a ocupar estados accesibles dentro del metal.
JpS-M: la corriente de huecos desde el semiconductor al metal. Se
compone de huecos que llegan desde el interior del
semiconductor y desaparecen en la superficie cuando atrapan
un electrón del metal.
En equilibrio JpS-M = JpM-S.
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18
Característica corriente-voltaje
Con polarización directa:
La corriente de electrones desde el semiconductor al metal, debe ser proporcional al
número de electrones cuya energía supere φ0-V.
El electrón que llega a la superficie desde la banda de conducción:
1
2
mv x mín ≥ e(φ0 − V0 )
2
La corriente de estos electrones:
∞
I n S-M = (-e)
∫
∞
-v x dn = e
vx mín
∫
v x dn
vx mín
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Característica corriente-voltaje
El número de electrones con velocidades (vx y vx+dvx; vy y vy+dvy; vz y vz+dvz):
dn = g ( v x , v y , v z )f FD ( v x , v y , v z )dv x dv y dv z
g( v x , v y , v z ) =
2m
3
h3
La aproximación de Boltzmann:
2m 3 (ε − ε F ) / kT
dn =
e
dv x dv y dv z
h3
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20
Característica corriente-voltaje
∞
∞
∞
vx mín 0
0
∫ ∫ ∫
I n S-M = e
con:
∞
∞
∞
vx mín 0
0
∫ ∫ ∫
v x e(ε −ε F ) / kT dvx dv y dvz
1
ε = ε c + m( v 2x + v 2y + v 2z )
2
3
I nS −M
2em3
v x dn = 3
h
∞
2em − (ε c −ε F ) / kT
= 3 e
vx e
∫
h
vx mín
mvx2
−
2 kT
∞
dvx ∫ e
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0
−
mv 2y
2 kT
∞
dv y ∫ e
mvz2
−
2 kT
dvz
0
21
Característica corriente-voltaje
Pero:
mv 2y
2
∞ − mv z
e 2kT dv y = e 2kT dv z =
0
0
∞ −
∫
∫
2πkT
m
I nS −M
∞
∫
−
e4π m
2
(kT ) e
=
3
h
mv 2x mín
2 kT
e − (ε c −ε F ) / kT
mv 2x
mv 2 x mín
−
kT − 2kT
2
kT
vxe
dv x =
e
v x mín
m
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Característica corriente-voltaje
La región de contacto
es muy delgada
La energía mínima
I nS− M =
los electrones pasan al
metal por efecto túnel
cuando su energía
cumpla la condición
1
2
mv x ≥ e(φ0 − V0 )
2
1
mv 2x mín = e(φ0 − V0 )
2
e4πm
2 − e(φ 0 − V0 ) / kT − (ε c − ε F ) / kT
(
kT
)
e
e
h3
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23
Característica corriente-voltaje
Si V = 0
I nS− M = I nM −S =
e4πm
2 −[eφ 0 + (ε c − ε F ) ] / kT
(
kT
)
e
3
h
Según el gráfico de bandas en equilibrio
εo
eφ0 + (εc − ε F ) = eφB
I nS− M = I nM −S =
e4πm
h
3
2 − eφ B / kT
(kT) e
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eφ0
eφB
-
++
++
εc
εF
++
εv
24
Característica corriente-voltaje
Si V > 0
ƒLa corriente desde el semiconductor al metal se modifica pues la barrera
será e(φ0-V).
ƒLa corriente desde el metal al semiconductor no se modifica pues la
barrera que deben saltar los electrones sigue siendo φ0.
ƒLa corriente neta en la juntura fuera del equilibrio será:
I n = I nM − S − I nS − M
In =
e4π m
e4π m
2 − e (φB −V0 ) / kT
2 − eφB / kT
(
kT
)
e
(
kT
)
e
=
−
h3
h3
e4π m
(kT ) 2 e − eφB / kT eeV0 / kT − 1
3
h
(
)
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Ecuación del diodo ideal
I
(
)
I n = I S eeV0 / kT − 1
IS
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V0
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CONTACTOS NO RECTIFICANTES (ÓHMICOS)
Cuando el contacto ofrece una resistencia despreciable al flujo de corriente el
contacto es óhmico.
Un contacto M-SC se hace óhmico si el
efecto de la barrera se hace despreciable.
CONTACTO TÚNEL
e(φ0 -V0)
eφB
eφB
εc
εFS
εFM
e(φ0 +V0)
εFM
εC
εFS
εv
εV
Por ejemplo dopando fuertemente al semiconductor se puede reducir el ancho de
la carga espacial. Se produce efecto túnel para ambos tipos de polarización.
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27
CONTACTOS NO RECTIFICANTES (ÓHMICOS)
Contactos óhmicos de Schottky
Juntura metal- semiconductor tipo-P
Juntura metal- semiconductor tipo-N
φm > φS
φm < φS
eφ0
εo
εo
eφ0
eχ
eχ
eφM
eφM
eφS
εc
εc
eφB
-
++
+ -+ -+ --
eφS
++
++
εF
εF
εv
εv
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28
Ejemplo 1
Datos
SC: Si tipo n, dopado
N d = 1016 cm −3 ni = 1010 cm −3
Metal: W
eφm = 4.55eV eχ = 4.01eV
T = 300 K
Calcule
El potencial de contacto
φ0
El Campo eléctrico máximo
W
Emax
La capacitancia de juntura
C´
El ancho de la zona de vaciamiento
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Ejemplo 1
El potencial de contacto
SC fuertemente extrínseco
φ0 = φB − ( EC − EF )
La Barrera de Schoctky
φB = φm − χ = ( 4.55 − 4.01) eV = 0.54eV
La distancia ente la banda de conducción y EF
n = NC e
−
( EC − EF )
KT
≅ Nd
⎛ NC ⎞
EC − EF = KT ln ⎜
⎟
N
⎝ d⎠
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Ejemplo 1
El potencial de contacto
1 ⎛ 2.81019 ⎞
EC − EF =
ln ⎜
⎟ eV = 0.206eV
16
40 ⎝ 10
⎠
φ0 = φB − ( EC − EF ) = ( 0.54 − 0.206 ) eV = 0.33eV
El ancho de la zona de vaciamiento
xn =
(
2ε S φ O − V
eN d
) =W
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El ancho de la zona de vaciamiento
2(11.7)(8.8510 −14 ) ( 0.33)
−4
W=
0.207
x
10
cm = 0.207 µ m
=
−19
16
(1.610 )10
El Campo eléctrico máximo
Emax =
eN d xn
εS
1.610 )(10 )( 0.20710 )
(
=
= 3.210 Vcm
11.7 ( 8.8510 )
19
−4
16
4
−1
14
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33
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