Rtvist. Mujan. dt Física 30 no. 2 (1984) 261.287 261 ESTUDIO Y CARACTERIZACION DEL RUIDO DE FONDO DE DISPOSITIVOS GaAsFET EN EL RANGO DE MICROONDAS Arturo Serrano Santoyo C. de Investigación Cientffica y de Educ. Supo de Ensenada, B.C. (CICESE) Departamento de Ffsica Aplicada. Espinoza 843. Ensenada, B.C. (recibido marzo 8, 1982, aceptado agosto 30, 1982) Una de las propiedades más importantes del transistor de efecto de campo de arseniuro de Galio (GaASFET) es el tener un factor de ruido bajo en el intervalo de microondas (~ dB, 4GHz). La aplicación de este dispositivo en sistemas y componentes de.alta frecuencia requiere por lo tanto del conocimiento de sus propiedades de ruido de fondo interno asocia das a sus propiedades estáticas y dinSmicas. El propósito de este traba jo es hacer una revisión de los tipos de ruido existentes en dispositivos GaAsFET en el intervalo de microondas. A partir de esta revisión se describen, tanto la medición de factor de ruido de los dispositivos, así como los factores que intervienen en la precisión de dicha medición. Se mues tran resultados experimentales y teóricos del mínimo factor de ruido de-di versos dispositivos Ga1\sFET. - 262 ABSfRACT One oi the most important properties oi the gallium arsenide field effect transistor 1s its low noise figure in the microwave frequency range (%1 dB, 4 GHz). The applications of this devide in components and systems in the high frequency range require analysis oi background noise in terms oi basie static and dynamic properties oi the device. The purpose oi this paper is to review GaAsFET noise properties; froro this review, a description of precise noise measurement techniques 1s made. Sorne experimental and theoretical results on the minimum noise figure are shown ior several GaAsFET devices. 1. II'IfRODUCCION El estudio de los fen6menos conductores est~ relacionado ye en el dispositivo o del voltaje de estos fen6menos de fluctuaci6n de abreviaci6n se utilizará de fluctuaci6n con las fluctuaciones aplicado al mismo. El nombre genérico dicha palabra a lo largo de este trabajo. para el estudio de ruido en semiconductores: DESDE EL P~1U DE VISTA DE LA FISICA DEL DISPOSITIVD.- do es básico para el entendimiento ductor debido a que proporciona meno de conducci6n. IDO semi que fl~ se conoce como "ruido" y para prop6sitos Existen dos razones fundamentales dispositivos en dispositivos de la corriente herramdenta El estudio del comportamiento infonnaci6n del material del carácter Cuando el ruido es caracterizado del rui semi con interno del fen6~ se puede utilizar para el conocimciento de otros par~tros c~ fisicos del dispo. sitivo. DESDE EL P~1U DE VISfA DE APLICACIa-IES CIRCUITALES. - vos semiconductores ra amplificar se utilizan señales débiles, dici6n o amplificaci6n cer los elementos diciones densidad para medir cantidades el ruido establece de dichas señales. se relaciona de portadores dispositl fisicas pequeñas Por 10 tanto, es importante de corriente al campo eléctrico y al mecanismo los o ~ un limite al nivel de mc- que definen esos limites de operaci6n 6ptimas de trabajo. Es conocido que la densidad en un conductor OJando y encontrar e1ectr6nica aplicado, de fluctuaci6n J que fluye al gradiente mediante con~ las con de la siguiente 263 expresi6n: J = oE + q D. (6n) ~ óx + J donde D, es el coeficiente (1) r de difusi6n y J J. radar de la fluctuaci6n. Van der Zíel de J se puede expresar como (1) r representa al mecanismo gene- ha encontrado que el espectro r S(J) = r J (x)-J (x') • 4q'(D.n/A )~B6(x-x') r r 1 donde aB es el ancho de banda y A T en cuesti6n, ó(x-x1)=1/óx gitud de la secci6n es el ~rea transversal cuando x=x'; incremental (2) -~ ó(x-x')=O, del conductor x=x1 en la cual el conductor y x es la lo~ ha sido dividido. La Ec. (2) es una expresi6n general del espectro del ruido, la cual, para el caso de canducci6n S(J ) = 6hmica, se convierte (3) AT donde k es la constante la temperatura En este caso el coeficiente obtenido de la relaci6n de Einstein, campo eléctrico a la conductividad de Boltzmann, absoluta. caso de transporte y T D. = kT~ /q, la cual se cumple para el J. o bajos, o caso 6hmico. Cuando el es atunentado (de tal foma blece una transferencia de arrastre mente el fen6meno del material de difusi6n ha sido de campos e16ctricos dores tiene energías promedio relaci6n exprcsi6n: 4okT~B 6(x - x') r la velocidad en la siguiente comparables de port~ se est~ de energía de los portadores de dichos portadores. de velocidad de Einstein que un gran porcentaje a la energía fon6nica), de saturaci6n. debe ser modificada a la red sin cambiar Este fen6meno es precisaBajo estas condiciones ya que la temperatura la tanto como la IOOvilidaddependen del campo aplicado. En dispositivos semiconductores se pueden tener tres tipos bás.!. cos de ruido. Ruido téllllico (Ruido Jolmson) - Causado por el IOOvimientoaleatorio los portadores de de corriente Ruido bnpulsional (Shot noise) - Resulta del arrastre de portadores sado por la aplicaci6n Ruido de baja frecuencia de un campo eléctrico (Flicker effect) externo. - Resulta de fluctuaciones cau 264 lentas en conductividad, con espectro en frecuencia que sigue la ley de variaci6n l/fn. La contribuci6n de este ruido en el rango de micro ondas puede ser despreciable. Van der Ziel(Z) sugiere una definici6n gen6rica en la cual se tienen dos tipos Msicos de ruido: a. Ruido de generaci6n - recanbinaci6n. ~ Este tipo de ruido es ca~ sado por fluctuaciones espontáneas en las relaciones de generaci6n, recombinaci6n y atrapamiento de JX)rtadores, lo cual causa a la vez fluctuaciones b. en las densidades de portadores libres. Fn dis positivos semiconductores de tmi6n, este tipo de ruido rJUJestra similitud al ruido impulsional. Ruido de difusi6n.- Este tipo de ruido se produce debido al hecho de que la difusi6n en sí misma es un proceso aleatorio, de tal manera que las fluctuaciones a fluctuaciones en la relaci6n de difusi6n dan lugar en la densidad de portadores. S! En dispositivos miconductores de uni6n este tipo de ruido contribuye a ruido impulsional. En el material m:molítico (efecto de voltunen) contr! buye a ruido térmico. Cuandoel fen6menode velocidad de saturaci6n es daninante, mecanisJOO de ruido, J , es atribuido r dos por movimiento aleatorio de difusi6n. i r el a desplazamientos de carga produci- de los portadores y es conocido comoruido En este tipo de ruido, en cualquier punto x, la corriente (x) = J (x)A aparece en impulsos angostos los cuales están no correla r'~ cionados entre sí. - Los imp.Jlsos que aparecen en el intervalo (x, x+óX). provocan un desplazamiento de carga de x a x + ó.X lo cual implica a la vez la aparici6n de una capa dipolar con signos opuestos entre x y x + !J.X. Ec. (3) es aplicada para el caso de ruido térmico La (régimen de ñmcionamie!'. to 6hmico) y la Ec. (2), caso general, es aplicada al caso de ruido de d~ fusi6n (régimen de saturaci6n). el funcionamiento de dispositivos ra dpica de un dispositivo Estos dos regímenes son 105 típicos en GaAsFET. La Fig. 1 muestra la estruct~ GaAsFET. En la Fig. 2 se nnJestran las carac terísticas I-V así como los circuitos equivalentes s~lificados. 265 -+ -- L. , eS tipo n t N , lOe SUBSTRATO CON 1, _~ ? jJ' m -, 4 4 OO e m 7 DE Estructura rriente se encuentran RESISTIVIDAD' 10 - de excitaciones en equilibrio ratura de la red se define el la 9 n- cm externas. termodtnámico los portadores con la red. de difusi6n o sigue la va - Di z kTolJo/q. Cuando se aplica un cam. externo E(x), la temperatura T cambia a un valor o adquirida al aplicar O Bajo estas condiciones de calentamiento electr6nico ll II de Einstein se modifica D. (E)' 1 donde T de co- Si la tempe > T ) J que es la temperatura de los electrones el E(x). IMPURIFICADO como T , la constante riaci6n de la relaci6n de Einstein, (T '.9 basica de un GaAsFET t{pico. En la ausencia T GoAl 7 It - Vo L • L d ' 0.51' Fiq. l. po eléctrico •, Ld f SEMIAISLANTE CROMO, L ----+-- ~ 17 GoAs L el de la siguiente k T (E) U (E) el q es la temperatura la ecuación manera(3): (4) de los electrones diente del campo. Sabiendo que i (x) • J (x) r r y lJ(E) es la movilidad depen A y aplicando la Ec. (2) T se puede encontrar el valor cuadrático medio de la corriente de ruido bajo condiciones de campo aplicado: 266 \5(0 lb) O e. r.1 (e) R, G. Rd GaA.FET 'n1 ,In •• e o C.' D. Cd. R. 5. (d) Fig. 2. (a) Curvas caracteristicas del GaAsFET. (h) Polarización (e) Circuito equivalente intrínseco (d) circuito equivalente extrínseco (S) Substituyendo la Ec. (4) en la (S) se obtiene para el valor cuadrático me dio del voltaje de ruido la siguiente expresi6n: 267 e' (6) = r donde g(x) es la conuuctancia en f~ci6n de x cuando un campo eléctrico es aplicado. Bacchtold(3) encontr6 que para el caso de arseniuro existe una temperatura T • el es decir, la adici6n T equivalente > T el del fen6meno de transferencia una temperatura de ruido T se debe la estructura 3 peratura equivalente Teq donde T -T y el ev T eq cuyo valor es mayor que Este aumento en temperatura de ruido se debe a • eq de ruido T de galio, entre valles al cual se le asocia Esta transferencia entre valles subsidiarios ev de bandas del GaAs. de ruido se expresa Bajo estas condiciones finalmente la tem como +T el (7) se dan por(3) ev i ' Tel 4kg(x)óB Tev 4kg(~)iiB (8) y i' Baechtold(3) (9) encuentra una relaci6n semiempirica para la Ec. (7), la cual se expresa coroo T • T {I eq (lO) o donde ó y p son dos coeficientes T o • 300'K. de valores 6 y 3, respectivamente, Este resultado ha sido utilizado por Pucel(6) para la obten - ci6n de las corrientes de ruido de drenaje y comp..Ierta en un GaAsFET. Graffcuil(4) que en altas frecuencias encuentra fica de la siguiente Teq' la expresi6n (10) se medí manera: To{1 + 6' exp r:. - I]j? en donde 6' varía del 0.7 a 2 y 6 • 3. (11) 268 2. TIPOS DE RUlOOEN DISroSITI,DS GaAsFET ~n el caso particular tres contribuciones básicas Ruido térmico.- del transistor C~FET Producido transferencia de galio(3). el cual es inherente Producido y extrínsecas. y voltajes equivalente GaAsFET son de dos catego- ci6n más significativa cias cuadripolar. mente como la corriente bajo condiciones circuito nalmente la fuente de ruido asociada a la terminal se relacionan Las fuentes de ruido generada 9 de drenaje. debida a las fluctuaciones es decir debido a id. Esta convcnci6n por Van der Ziel (S) para el estudio Pucel (6) para el estudio del GaAsFET. Las de contribu estas resisten mediante se identifican en la trayectoria y la corriente como ig de a la terminal a las resistencias id e i a del circuito las fuentes de ruido del GaAsFET de corto circuito de compuerta de drenaje, se relacionan al ruido térmico en el dispositivo; son Rg• Rs y Ru. La Fig. 3 muestra representaci6n intrínsecas por los elementos y la fuente de ruido asociada fuentes de ruido extrínsecas del dispositl por el movimiento estas fuentes se especifican del GaAsFET: e id que son respectivamente compuerta Las fuentes de ruido producido intrínseco de arseniuro producido l~s fuentes de ruido en transistores das: intrínsecas al material en la regi6n de saturaci6n vo y atribuido al desplazamiento de cargas aleatorio de los portadores (6) • corrientes y extrínsecas intrínsecas rccombinaci6n.- Producido~~iante el efecto de entre valles, Ruido de difusi6n.- y con CO~ en la rcgi6n 6hmica del dispositivo tribucioncs importantes de las resistencias finidas en el circuito cquivalentc(S). Ruido de generaci6n se pueden distinguir al ruido total del dispositivo. una respectiva - fuente-drenaje de ruido inducida en el de carga en la corriente fue establecida del J FET Y seguida Debido al acoplamiento C1t1VO que existe entre el circuito de drenaje y compuerta; res id e ig están correlacionados parcialmente. origipor de tipo cap~ los generado- 269 g d GoA.FET 111,,1."'0 l. ti l. ruido ft ------,----, S n'n r.) 80. Ild. GoA,FET l"tr,'nl.co ,¡,. ruido R • ( b) Fig. 3. Representación Cuadripolar del GaAsFET. intrínsecas y extrínsecas. El análi~;is G~sFET de fluctuaci6n ('n r.1isJX>sitivos se basa en los ~i~Jientes elementos: a) I ig' i b) lid'1__valor . e) jC = i *id/(Ii 9 El análisis abierto medio del ruido de compuerta valor cuadrático - cuito de 105 mecanisn:os Incluye fuentes de ruido ico fTlCdio del ruido clJadr:h 9 '1 lid' 1 ) ,, coeficiente de <.!rcnajc de cOTTl'lacián. se basa en la obtención del voltajc de ruido a cir. IVd21 g("n('rn~.~..cn la_..::..~cci6n fuente tram:;fomaci6n circuital dar l."quivalcntc de' ruhl(l. li/I = 1"/1/1'/ drcna.ic, y al haccT la se ohtienC' ('1 valor del g('ncr~. l'd es 1;1 rc~i~tcncio del conal. ,, , Ohmic:o --+It-R.gló" I idl Corrlent, rodo 'dZ fdll d. ruido d. In lo r.gio'" Co"ien" d. ruIdo In la d. regio'" d. ruido pu.rta odyoc.nte d. ruIdo ,.',mieo. drlnoj'. dr.naj •. Ruido d, g.n.r060 O lo r.glé" Idl- idl2 .Cor,lufl d. ruido gen.rodo pu.rta odyocent. o lo r.gió" cia"" 'd21 -Corri,n', pUtr'O d. lo alturo d. ruido '622 -Corriuh compu.to Fig. 4. g,n.- d., 'ah, ocio' U' dilu,io'" - •. 1ftlo •• ceio'" d. loCOfI1 I debido 01 ",nerador '" lo "cejó" d. IJ d.bido o lo' eanClJ, cuyo fuente •• '0 ca"'. f1uch~o- 'dI" genero do en lo •• cc:jo'" d. lo como Ja r.glón odyoc.nte d. dlfu.Jo'" Ruido t.rmico Q'hmic:a. O."UodO .Corri,nh d. Saluroclo'll-+ 11 I I d.bldo o lo fuen',_ ~2' d. r u'do 06)'(1(:1"11 generodo In lo II e ción d. lo o lo , • a ión. 11 d.bido • i . d2 Contribuciones de ruido térmico y ruido de difusión en las regi~ nes óhmica y de saturación de un GaAsFET. La Fig. 4 nuestra un diagrama en el cual se representan los componentcs de g e id en el dispositivo GaJl~FET. Dado que i es producida g a través de las fluctuaciones en la terminal de drenaje. en dicha fi~~ra id, e id, se C'specifican como las fucntes de ruido para las regiones 6hmica y saturaci6n respectivamente y ~ consideran independientes o no correlacionadas de tal fo~~ que i 2 sc puede escribir como d 271 i 2 + i dI donde V 2 + (V d2 2. V dI es la contribuci6n 2)/r 2 d2 (12) d de voltaje de ruido térmico en la rcgi6n 6hm_i d¡ ca y Vd es la contribuci6n i de voltaje de ruido de difusi6n. ¡ fluctuaciones inducido i Componentes g de carga opuesta cuyos componentes en la compuerta representada d produce por el ruido son los siguientes: de Ruido Ténnico: local i a) Contribuci6n gi60 6hmica induccn . Las fluctuaciones de voltaje gl¡ (v a fluctuaciones de carga espacial) tuaci6n de carga opuesta en el segmento sobre la regi6n 6hmica adyacente del electrodo en la TC- una [1u£ de compuerta al lugar donde fluctúa la altura del canal. b) Contribuci6n remota i I~s fluctuacion~s la regi6n 6hmica. dada la estructura fiestan en sincronismo esta manera compuerta Componentes uniforme se establecen fluctuaciones De de carga en el segmento de de la regi6n de saturaci6n. tes de ruido de la regi6n de saturaci6n Esta modulaci6n al desplazamiento del canal, se mani- a lo largo de la rcgi6n de saturaci6n. de Ruido de Difusi6n: Las fluctuaciones de carga inducidas ra del canal. de ruido t~rmico en g12 mentos de la terminal provienen es producida de las capas dipolares I~s componentes son respectivamente ig e ig 21 2" Dado que las fluctuaciones por las fue~ de la modulaci6n por corrientes asociadas de estas fluctuaciones de compuerta en la compuerta al proceso establecidas de las regiones de altu de ruido debidas de saturaci6n. en los seg- 6hmica y de saturaci6n de \ultajc en el canal son responsa. bIes tanto de ig como de id' llJ13 correlaci6n existe entre ambas corrientes de ruido. Debido a que ig e id están ligadas a tr~vés de un acoplamiento capacitivo, el coeficiente se expresa de la siguiente jC de corrc1aci6n e es un imaginario puro el cual manera: (13) 272 dado que: i + i i 9, 9 i + i i 9, (14 ) 9, 9" i 9" 9, + i i 9" 9" e (1 S) De la Fig. 4 se puede observar que las componentes forman oe los siguientes p..'1rcs:(i d1 ta forma la Ec. (13) se expresa como jC = j(C, + C,) ,i ). (i dl 91 no correlacionadas ,i ). (i d2 • i 92 se ) de es d1 (16) donde c, c" (17) c, c (18) " en l;ls que c" (19) c" (20) Las con~nente5 intrínsecas i , i , e id han sido obtenidas por Van der Ziel(2) Pucel(6) Graffeuil(4) ~jO diferentes condiciones de opcr~ ci6n. Estos rcsultados serán utilizados por la obtcnci6n del factor de ruido en la secci6n 3 de este trabajo. Las componentes extrínsecas del ruido en el GaAsFET pueden ser obtenidas directamente a través de la f6rmula de ruido térmico de ~yquist. 273 Provienen de la influencia de R9 R-b Y Rs Y sus valores de voltaje euadrá tica medio se expresan de la siguiente manera: I e e s o 9 4kT 2 2 d (21) -4kTRtJl e9 ' e (22) R tJl o s (23) • 4kT R tJl e o o c ' es y c están representados ge de te de la Fig. 3b. Los generadores Los valores de las fuentes de ruido e a ser predominantes GaAsFET. Es decir altttenninar el comportamiento que e ge , e y cd s e la rcducci6n ge equivale~ J e Y cd pueden llegar s e global del transistor pueden ser mucho m5s grandes que i e id de tal manera que la forma específica sitivo se logra mediante en el circuito g de reducir el ruido en el dis~ de los elementos parásitos del dis~ sitivo, el cual es un problema tccno16gico en sí. La manera de cuantificar el peso de las fuentes de ruido intrín~ ca en rclaci6n a las fuentes de ruido extrínseco de ruido del circuito obtenci6n equivalente que considere se hace mediante el factor ambas fuentes dc ruido. del factor de ruido se llevará a cabo en la siguiente La secci6n de este trabajo. 3. La definici6n puertos FAcroR DE RUlOO general del factor de ruido para lUla red de dos se da como la relaci6n señal a ruido de la entrada entre la rela- ci6n señal a ruido a la salida de dicha .red, es decir, (24) F=~ s Para la obtenci6nde1 el circuito equivalente cia de fuente asociada factor de ruido F en el GaAsFET se considera de la Fig. 3(b), al cual se le incluirá una impcda~ a un generador de ruido de entrada dado por cf• Pa- de cálculo, se considera despreciable el valor Cgd y &d en el circuito intrínseco del GaAsFET mostrado en la Fig. 2(c). SU efecto se in cluirá mediante mediante la aplicación del principio de superposición po~ ra facilidad 274 teriormente. el factor de ruido del GaAsFti se Bajo estas condiciones, obtendrá mediante el circuito equivalente factor de ruido se sUnplifica de la Fig. 5. cuando se considera cual ha sido probabo por Van der Ziel (7): "La relación voltaje en las terminales de salida de cualquier El cálculo el siguiente del teorema, el señal a ruido de etapa amplificadora (en este caso GaAsFET) es igual a la rclaci6n señal a ruido de corriente las tenninalcs de salida corto circui tadas". ma y la utilizaci6n factor de ruido: de la Ec. (24) conduce a la siguiente expresi6n del + 1 1 9'e 1 F ::: 1 + __ en La aplicaci6n de este teoT~ + 1 + Id 90 So 0 o + Ideo l' _ (25) I¡;-I' o en donde ig corriente producidas e , is o , ig o , id , id o e o e if de ruido en la trayectoria representan los componentes de la corto circuitada de fuente a drenaje o generadores e , es' eg, e , y e£o El vage de n~dio del generador de ruido de entrada o de fuente se ex- por los respectivos lor cuadrático presa o COIOO "'4kTRllB f o (26) f ~~diante aná en donde Rf es la parte real de la impedancia de fuente Z£o lisis circuita1 se obtiene para el circuito de la Fig. S la siguiente presi6n del factor de ruido: F • 1 + 1 [R +R +R + 9 s D IZtl' r. b 3 ( 2Re [z t Y [l+ ;:lZt]. liT' d I i ' Il+Yll Zt[' 4kf iJl + Y2l o 4k 1 <lB o c ii;) J]. (27) --------, d en donde Zt • Z£ + R + R +R s D 9 R + R + R + R S e f 9 + jX f J (28) ex- 275 a - Contribución de las fuentes extrínsecas b Contribución de ig incluyendo c Contribuci6n de id incluyendo elementos extrínsecos d Contribuci6n de la corrclaci6n Los ténninos Yl 1 Y del GaAsFEf(8)o Y"I. 1 elementos extrínsecos entre b y c. se obtienen del análisis del circuito equivalente Ra "a. RO "d. ~ Ca. "" Z, •• Fig. 5. • Ym., ~ t Id '1 ., circuito equivalente del GaAsFET. Este modelo se utiliza para el cálculo del Factor de Ruido. y describe el comportamiento en frecuencia de 9 , t es el tiempo d~ transito electrónico en el canal. Se utilizarnla notación e y e para especificar que son fuentes extrínsecas y no confun3Ír d con Yas fuentes de voltaje de Ruido intrínsecas asociadas a i e . 9 'd o La Eco (27) puede ser transfonnada diante la siguiente a una expresión más simple me notaci6n: I'i"¡ 9 4k 1 ,',B o (29) 276 Ii ,1 '1 (30) &d n 4kTi\B Sn I~ Y" r R • R • R S o 9 o , (g n 2 ~ s jC (S 9n . . R e dn )' R 9 )!I'. (1-C')g Sdn .-¡Y;-"" Y"I (31) & 9n 9n (32) gn [Sdn y 11' • jC (&on gdi] l Sn • (1-C') IY,,1 ' (33) y 21 El factor de ruido se expresa entonces ' C()lJl() = l • (1/Rf) (r n • gn 12f • 2e I') F donde g . y gd 9n e tlvamente. son las conductancias gs el coeficiente Pucel obtiene parámetros complejos del dispositivo; (34) de ruido asociadas a i e id respe~ de correlaci6n expresiones entre i e i 9 y grado de saturaci6n de ruido especificados son graficados por el mismo autor. mostrada en la Fig. . para el factor de ruido en funci6n de que dependen de la polarizaci6n estos parámetros 9 d como K • K Y K e 9 r Una copia de la gr~fica de Pucel es 6 Y es de gran utilidad para el cálculo de la figura de ruido de dispositivo GaAsFET. Las Ecs. (31), (32) Y (33) en funci6n de K • K Y K se expresan r 9 e como: r (R • R n 9 K r.'] J. (35) • 9S (R e + 9 Existen (36) d Y R S + R) • D por lo tanto, de la gr5fica de Pucel para, e más complicado objeto 9S gm gm 2 9 [I.W'C' + R ) + K O r W2C2 9 Sn de i , i S con las f£5. e involucra es efectuar le.. (3i) Yl1 dos maneras alternativas de conocer K , K Y K con las Ecs. (35)-(37) r 9 (31)-(33). un un modelado e En el segundo ~innúmero de factores, del comportamiento caso, F. a partir o a partir el proceso sin embargo, es si el del ruido de fondo, es 277 u :lo: •. ••• :lo: - ••• :lo: 100 •••• •. :o •••• ••• -• -• u o -1 u 10 O 2 4 R.I oc i a'n Fig. 6. 6 8 L/a Coeficientes de ruido en función de la relación L/a. 1.0 278 recomendable utilizar esta manera. En nuestro caso la primera alternativa es utilizada dado que est~ enfocada directamente al conocimiento del fac- tor de ruido del dispositivo. Fuk"Ui (9) ha optado por lID procedimiento an6. lago para determinar la figura 6ptima de ruido en GaAsFET. Loriou(lO) dela misma manera utiliza las curvas de Van JeT Zicl(S) para el estudio del ruido ténnico en GaAsFETcon longitudes de compuerta L> 2 micrones. método de LaTiou, dadas las dimensiones y la movilidad si6n es despreciable del dispositivo, y te~Jeratura En el el ruido de Jifu de los electrones en el por Van JeT Zíel como constantes. canal son consideradas Las curvas de Pucel son más generales ya que consideran la in- fluencia de ruido ténnico, ruido de difl~i6n y el efecto de transferencia entre valles; además consideran los efectos de velocidad Todos estos factores son importantes compuerta para dispositivos L$ 1 micr6n, es decir para dispositivos Desde el punto de vista de aplicaciones dispositivos utilizados y en partlcu se desea tener el mí- En el caso del GaAsFET y tal como en otros en prcamplificadorcs, pende del valor de la de de bajo ruido. circuitales lar, para sistemas de recepci6n de alta frccuencia, nim:> factor de ruido posible. de saturaci6n. con longitudes impedancia del circuito el factor de ruido mínim:> de de fuente o de cntrada Zf hasta que el valor de F sea mínUno. Las condicioncs la Ec. (34) es mínimo. bajo las cuales el factor de ruido definido se obtienen cuando por la parte reactiva de Zf es igual en magnitud y opuesta en signo a la parte imaginaria correlaci6n Ze jXe y cuando la parte real Zf es igual a su valor 6£ = Re + de la impedancia de tiroo, es decir, (38) de tal forma que con las condiciones dadas por las l~s. (38) y (39) Y us~ do la Ec. (34), el factor de ruido mínimo se expresa como F. mJ.n • 1 + 2 g (R n Las Figs. 7a, 7b y 8 e + R ) fop muestran (40) respectivamente gráficas del factor Fmin 279 en funci6n de la frecuencia y de los parámetros del GaAsFET y el circuito equivalente utilizado. Las gráficas de dichas figuras son hechas p~ra el GaAsFET HFET 1101 (11) , Vola'tI nOmino 1•• d •• circuito .quinl.",. lo ",.7) poro: -------. , , 3.2 ¡K•• I 2 I ,"2 0.0240 K, • 24 'o • ZOmA. &O%llot. ------------------1 I Volor ,lpieo proporcionado porj' .1 fobricon', poro ulol mismo. : Kc -1.10 K, -o.024e condlcjon •••• : K,- •• '. , 'O .'OmAaIO%Jlat. fmincl.6dB 2 . 3 ( rtnin (dB) ) ===:.:.===========; • :.::::::: ______________ - - - -- f (GHz.) o,•• , :::: :::: :: :: :: :::: =1 ~ -----------------"fCQscombioo ~ ;Va I nominal •• Cqdcombio o 0.06 o :: :::: 2 t,' I : 3 K,- d. :d' -RO -O 0.3 , ~ 11m cambio CI 0.12 - - - - - - ~ COI ca mbio o , ,, 0.2 , 2 3 (b ) Fig. 7. • 1 (GHz) Variación de F • a) Influencia ~~nlos parámetros del circuito equivalente en el valor de Fmio obtenido mediante los coeficientes de Pucel de la Fig. 6 Y la Ec. (41). b) Gráfica que muestra la variación de Fmin cuando los parámetros (I '"20 mAl del circuito equivalente de la Fig. e son modifica dos individualmente (manteniendo los dem~s constantes) a par-tir de sus valores nominales. 280 Al substituir expandiendo para las 60s. (35), (36) Y (37) en la (40), se obtiene, en series de potencias en funci6n de w, la siguiente expresi6n Fm1.n F . m1n 1 + 2 (<£ +2(<£ ) (K {K 9 gSgm 9S gm ) 2 r + g (R m {K g (R + K 9 m e 9 9 + R) } j! r. ) j RO ••• V (41) + ••• 1. a 2.~Jl. " .3ao.v • '1 " 3. l5 .J\. Fig. 8. Circuito utilizado para la obtención de las gráficas 7a y 7b. Los parámetros corresponden al HFET 1101 (valores nominales) . Se puede observar la dependencia . directa de F. rn1.n en función del término Cg/!;. = f/fT, en donde fT es el producto ancho de banda-frecue~ cia o frecuencia de transici6n. La relaci6n implica el deterioro del fa~ tor de ruido con el aumento de frecuencia y de los factores parásitos GaAsFET; obviamente si K . K Y K aumentan, 9 r e el factor mentará y dado que éstos dependen de la polarizaci6n, de ruido del mínimo au - el nivel mínimo de corriente ID circulando en el dispositivo asegurará el mínimofactor de 281 ruido. Sin embargo. siempre hay un compromiso en relaci6n del dispositivo, la cual aumentará conforme la corriente a la ganancia lo aumenta. general, dado que la ganancia y el factor de ruido se encuentran to, se considera el GaAsFET de bajo ruido para aplicaciones cia, es decir, en procesos de preamplificací6n. En en ccnn ie de baja ganan- dl Cuando el parámetro de seña es la potencia de salida se utilizan dispositivos GaAsFET de potencia y en este caso el factor de ruido ya no tiene la misma tmportancia el caso de preamplificaci6n, utiliza independientemente (1 - 10 Qlz) el factor que a frecuencias moderadamente de ruido tenderá a ser 6ptirno en cuanto las resistencias parásitas y la relaci6n longitud de compuerta-espesor capa activa se del factor de ruido obtenido. Se puede concluir considerando altas que en de tal forma que el GaAsFET de potencia de la (L/a) sean mínimas. Las Figs. 7a y 7b han sido obtenidas Fig .6, las cuales proporcionan mediante valores para L/a = 5 Y los siguientes F=4 Qlz (HFET1101): K = 2.1; K e 2.4xlO-'; r las curvas de la K E 9 2.4. Estos valores implican opcraci6n en Vos' 3 Volts y ID = 20 mA. Se puede observar que la operaci6n a menores niveles de corriente K 1.10, K e r = 2.4xlO-2; K = 1.10; 1 • 10 mAl implica la disminuci6n del factor de ruido censide 9 o rablemente. La disminuci6n de las componentes parásitas Fmin y su eliminaci6n ruido ténnico extrínseco, dejando coroo única fuente de ruido t6nnico ri. En este caso, la mayor contribuei6n disminuci6n R,;. R" y Ro disminuye completa (R,; = Rg = Ro = O) implica la ausencia de corresponde de Cgs y el aumento de ~ proporciona a ruido de difusi6n. un importante La mejoramie!!. to de Fatin. Obsérvese cual representa con el aumento de Cgd de 0.02 a 0.06 mejora Frnin 10 en sí, un efecto de retroalimentaci6n tmportante, debido a la posici6n de Cgd en el circuito equivalente. (Véase Fig. 8). Los menores factores de ruido se obtienen, por 10 tanto, para nores niveles de corriente y menores frecuencias ci6n de Cgs ,y de las resistencias ra la obtenci6n de operaci6n. ID! La disminu del circuito es a la vez fundamental de factores de ruido bajos. se puede concluir pa- finalmente diciendo que F. depende de tres factores básicos: frecuencia de operaci6n, m1n punto de polarizaci6n y factores intrinsecos y extrínsecos del dispositivo. 282 4. ~lEDICION DEL FAcroR DE RU¡OO La Fig. 9 muestra el diagrama a bloques de la medici6n del factor de ruido incluyendo los elementos complementarios. De este diagrama a bloques se puede oh:;crvar el número de elementos de que intervienen en la medici6n y dado que dicha medición se hace en el intervalo de microondas es difícil obtener la contribución mentas de la medición. exacta al ruido total de todos los ele AderM.S existen da que conectan a dichos elementos, las lmeas coaxiales o guías de O!! los cuales hay que considerar también. El diagrama a bloques de la Fig. 9 se puede hacer más complejo con el p~ p6sito de mejorar la precisión de la medici6n, sin embargo, cada vez que la complejidad del banco de prueba aumenta, más difícil es cuantificar efecto en el factor de ruido del transistor de F. mln implica una cuantificación su GaAsFET.Unabuena medición correcta de pérdidas y contribución al ruido de cada uno de las elementos del banco de prueba. Con el objeto de llevar a cabo una medici6n directa y simplificada, se describe a continuaci6n un método sencillo que permite, conocer el factor de ruido del dispositivo, así como su ganancia asociada, éste mé todo es descrito por Friis(13). En este método se lleva a cabo una cali-braci6n adecuada que permite cuantificar las pérdidas de entrada y salida del montaje del GaAsFET y de esta forma obtener su efecto sobre el factor de ruido y la ganancia asociada. Consid~rese el diagrama de la Fig. 10 como un diagrama simplif~ cado del banco de prueba descrito en la Fig. 9 en donde G1 es la ganancia del transistor GaAsFET acoplado mediante el aislador 1, F1 es el factor de ruido con la influencia de G2• Es decir, con todos los elementos del banco de prueba de la Fig. 9 despu~s del punto b. Si la fuente de ruido es aplicada en el punto 3, F1 es obtenida; si el transistor es removido y la fuente es aplicada en b, F2 es obtenido. El factor de ruido de dos am plificadores es cascada para el caso de la Fig. 10 según ~Umford(13) se escribe COTOO F2 Fl ~ Fd + • 1 (42) --- G1 283 = o --~------~ ~ N 2=~C' N • Fig. 9, .; Diagrama ~ .; .• ••.. :~..• ...•• :..•• .. ~. •. ó :! a bloques de la medición de factor de ruido. 284 en donde Fd es el factor de ruido deseado o factor de ruido real del GaAsFET, F2 es el factor de ruido del punto b en adelante, G1 es la g~ cia asociada del GaAsFET: la Ec. (42) es obtenida cuando el atenuador 6 proporciona una atenuaci6n de OdB; cuando la atenuaci6n es diferente de OdB, la Ec. (42) se convierte en F' AF, - 1 = Fd + --- (43) G1 donde A es el valor de atenuaci6n definido por el atenuador 6. (42) Mediante y (43) se obtienen para Fd y G, las siguientes ecuaciones: (A - l)F, G • F' _ F, (44) 1 F 1 [ 1) 1-..", o Fig. 10. ( 45) b Diagrama a bloques cia asociada. para la medición de factor de ruido y ganan- En la Tabla 1 se resumen los resultados obtenidos en la medici6n del factor de ruido y ganancia obtenidos mediante las Ecs. (44) y (45) p~ 285 ra el caso de GaAsFETcomerciales. ye una herramienta valiosa cía del dispositivo Este nétodo. aunque sencillo, constit~ en el conocimiento del factor de ruido y g~ y su aplicaci6n las cuales se pueden cuantificar cuidadosa las pérdidas proporciona mediciones con suficiente en exactitud. TABlA 1 . Corriente de drenaje(ma) Frecuencia Transistor (Glz) = (vos 8 10 9.9 2.8 (2.3) • (11) 4 10 1.5 • 12.1 (1.2). (13) 12 10 3.5 , 7 (3.6) • (6) I 12 5 3.7 • 6.5 12 60 6.7 • 11.5 I 8 10 3.4 (3) 8 10 2.3 • 7.4 (2.6) • (7. S) 4 10 1.8 • 11 (1.6). (11) I fm:r 1101 ( ) Valores G (dB) 3V) "EC 38883 AFT 2101 Fmin, proporcionados por el • R.3 • (9) fabricante Valores medidos de factor de ruido y ganancia asociada para tres dife rentes dispositivos GaAsFET. De la Tabla 1 se pueden observar tre los valores medidos en laboratorio fabricante. las diferencias que existen propio y los proporcionados e~ por el Las diferencias existendc transistor a transistor y de banco de prueba a banco de prueba. Por lo tanto. la medici6n de F.m.n Y de G en 286 las condiciones propias proporciona rio del dispositivo, información dado que éste realizará importante para el usua- las pruebas de los sistemas diseñados con la componente en el mismo banco de prueba y a las frecuencias y polarizaciones que le convengan. La infonnaci6n del fabricante en este sentido es limitada. Se puede observar también de la tabla 1 el efc£ de drenaje y to nocivo sobre el factor de ruido del aumento de corriente frecuencia. mNCLUSIONES Las conclusiones de la siguiente generales del trabajo desarrollado manera: Una caracterizaci6n de ruido precisa es de fundamental cía para el estudio de ruido de fondo del dispositivo. de F informaci6n min proporciona ci6n adecuada del dispositivo realizadas miento proñmdo impoTtan El conocimiento sobre T l' de tal forma que la caracteriza e completo, de las propiedades constituyen factores importantes globales del dispositivo. de las propiedades de dispositivos El conoci- semiconductores croondas pennite su utilizaci6n de manera 6ptima, en particular seña de receptores de bajo nivel de ruido. A la fecha se han logrado dispositivos ruido F.m,n a 4 GHz de alrededor el punto de vista tecnol6gico avances en el proceso han llevado a obtener GaAsFET con factores de muy Unportante, sin embargo, de dispositivos ruido de fondo de dispositivos con tul GaAsFET los cuales modelo completo que describa de ruido de dispositivos estático, GaAsFET con compuertas en el rango de microondas. a cabo en el Departamento y Estudios Avanzados con pr~ dinámico y de de submicrones para El estudio de las propiedades GaAsFET y la medici6n do han sido de fundamental importancia <mplificadores de señales vía satélite. Investigaci6n a pesar de los valores muy bajos del factor de ruido de microondas, cisi6n y de una manera global el comportamiento llevados de mi- para el di:. de O.S dB(14) lo cual es un avance desde de fabricaci6n no se cuenta hasta el momento su utilizaci6n - tanto como de capas epitaxiales en su proceso de fabricación a la descripción se resumen de su mínimo factor de TUi:. para el desarrollo de sistemas pr! Los oontajes del dispositivo fueron de Ingeniería Eléctrica del Instituto Politécnico del Centro de Nacional. 287 Las rediciones de Fmin se llevaron a cabo en el Laboratoire d 'Automatique et D1Analyse des Systemes en Toulouse, Francia y en el Centro de Investí. gaci6n Científica y Educaci6n Superior de Ensenada, Baja California. REFERENCIAS J. 2. 3. A. Van der Zie1, K.M. Van Vliet, "H.F. Thennal Noise in Space Charge Limited Salid State Oiodes 11", Salid State E1ectronics, Vol. 11, pp. 508-59 (1968). A. 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