TEMA 7 TRANSISTORES DE EFECTO CAMPO (Guía de Clases) Asignatura: Dispositivos Electrónicos I Dpto. Tecnología Electrónica CONTENIDO INTRODUCCIÓN JFET: CURVAS CARACTERÍSTICAS Símbolos de los JFET Esquema básico de polarización Curvas características ZONAS DE FUNCIONAMIENTO Región óhmica Región de contracción Región de saturación Región de corte Región de ruptura EL TRANSISTOR MOS: ESTRUCTURA Y TIPOS CURVAS CARACTERÍSTICAS SÍMBOLOS GRÁFICOS EL MOS EN CONMUTACIÓN INVERSORES MOS Y CMOS Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 1 INTRODUCCIÓN Transistor de efecto de campo (FET) son dispositivos semiconductores donde el control de la corriente se realiza mediante un campo eléctrico. Tienen las siguientes características: - Dispositivo unipolar: un único tipo de portadores de carga - Ocupa menos espacio en un circuito integrado que el bipolar, lo que supone una gran ventaja para aplicaciones de microelectrónica - Tienen una gran impedancia de entrada (del orden de MΩ) Existen dos tipos de transistores de efecto campo: - De unión: JFET o simplemente FET - De puerta aislada: IGFET, MOS, MOST o MOSFET Estructura de los JFET - Barra semiconductora con contactos óhmicos en los extremos - Puerta o elemento de control muy impurificado con portadores distintos a los de la barra - Elementos: Fuente o surtidor (S), Drenador (D), Puerta (G), y Canal (región situada entre las dos difusiones de puerta - La tensión puerta surtidor (VGS) polariza inversamente las uniones La corriente entre Drenador (D) y Fuente (S) se controla mediante el campo creado por la polarización inversa aplicada a la puerta (G). ANOTACIONES pg. 2 Transistores de efecto campo. Guía de clases JFET: CURVAS CARACTERÍSTICAS Símbolos de los JFET: D D G G S S Canal N Canal P Esquema básico de polarización: + IG ID + VGG VDS VDD IS VGS _ _ Para canal P el esquema es idéntico con polaridades invertidas ANOTACIONES Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 3 Curvas características: ID = f (VDS, VGS) Para VGS = 0: • VDS pequeña (<VP ): Canal casi completamente abierto => resistencia pequeña y aproximadamente constante => comportamiento aproximadamente lineal => REGIÓN ÓHMICA • VDS cercana a VP : canal se va cerrando por un punto y la resistencia aumenta con la tensión => comportamiento no lineal => REGIÓN DE CONTRACCIÓN • VDS > VP : La resistencia rds es grande y aproximadamente constante => JFET fuente de corriente => REGIÓN DE SATURACIÓN • VDS muy elevada: Conducción inversa en las uniones, ID se dispara y se produce fácilmente la destrucción del JFET => REGIÓN DE RUPTURA ANOTACIONES pg. 4 Transistores de efecto campo. Guía de clases ZONAS DE FUNCIONAMIENTO ÓHMICA: |VDS| < ||Vp| - |VGS|| ID CONTRACCIÓN: |VDS| ≈ ||Vp| - |VGS|| SATURACIÓN: |VDS| > ||Vp| - |VGS|| VGS = 0 RUPTURA: VDS elevada |VGS|= |Vp| CORTE: |VGS| > |Vp| Región óhmica |VDS| < | |Vp| – |VGS| | Valores pequeños de VDS Resistencia óhmica: rds = L 1 q. N D . µ n 2ac Valores usuales de la resistencia: de 100 Ω a 100 KΩ -> rds > Rcesat (transistor bipolar) ID = f(VDS) -> función lineal Cada VGS define un valor de resistencia distinto ANOTACIONES VDS pg. 5 Transistores de efecto campo. Guía de clases Región de contracción |VDS| ≈ | |Vp| – |VGS| | Al elevar VDS, ID deja de crecer linealmente -> se entra en la zona de contracción. Cálculo de la tensión de contracción Vp NA >> ND => wn ≈ w >> wp w(x) = a – b(x) = Vj = Vo + VI = (q ND w2)/(2ε) 2ε (V + V ( x)) q. N D o Si b = δ ≈ 0 (estrangulamiento) y Vo << V(x) entonces: a= q. N D 2 2ε Vp ⇒ Vp = a 2ε q. N D ( ) Vp es la VDS que provoca estrangulamiento (estrechez máxima) en un punto (para VGS=0) o la VGS que corta completamente el canal. Si VDD = 0 => ID = 0 => Vo + V(x) = |VGS|, independiente de x b⎞ 2ε 2ε ⎛ 2 VGS ⇒ ( a − b) = VGS ⇒ VGS = ⎜ 1 − ⎟ V p ⎝ a⎠ q. N D q. N D 2 a−b= ANOTACIONES pg. 6 Transistores de efecto campo. Guía de clases Región de saturación |VDS| > | |Vp| – |VGS| | La anchura mínima del canal es δ. Al aumentar más la tensión entre drenador y fuente VDS, δ permanece constante y aumenta L’ y se entra en la zona de saturación. I DS ⎛ VGS = I DSS ⎜ 1 − ⎜ Vp ⎝ ⎞ ⎟ ⎟ ⎠ 2 ; siendo IDSS el valor de la corriente de saturación cuando la puerta está cortocircuitada con la fuente (VGS = 0 ) Región de corte |VGS| ≥ |Vp| => IDS ≈ 0 El canal desaparece Región de ruptura Cuando la tensión drenador fuente VDS es muy grande y entonces la corriente de drenador se eleva mucho y se llega a la destrucción del FET. ANOTACIONES |VDS| ≥ BVDS Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 7 EL TRANSISTOR MOS. ESTRUCTURA Y TIPOS Los transistores de efecto campo de unión JFET estudiados hasta ahora presentan la característica de que con VGS = 0, ID no es nula cuando VDS ≠ 0. Los transistores de efecto campo de puerta aislada (de acumulación) tienen ID nula con VGS = 0, lo cual es interesante para trabajar en conmutación. Estos transistores de efecto campo de puerta aislada se suelen llamar MOS (Metal Oxide Sc) y tienen una impedancia de entrada elevada, del orden de 1010 ÷ 1015 Ω MOSFET de acumulación de canal P Tipos: - Canal P -> sustrato N; impurificaciones P+ - Canal N -> sustrato P; impurificaciones N+ Construcción de la zona del canal - Muy impurificada o enriquecida (enhacement) en los portadores de carga del sustrato -> MOS de enriquecimiento o acumulación - Poco impurificada o empobrecida (depletion) en los portadores de carga del sustrato (enriquecida en los portadores de las impurificaciones de D y S) -> MOS de empobrecimiento o de deplexión ANOTACIONES pg. 8 Transistores de efecto campo. Guía de clases Curvas de salida: ID = f(VDS, VGS) MOS de acumulación Región de no saturación u óhmica: |VDS| < |VGS - VTH| |ID| Región de contracción: |VDS| ≈ |VGS - VTH| Región de saturación: |VDS| > |VGS - VTH| |VGS| |VDS| |BV| Región de corte: |VGS| < |VTH| Tensión de ruptura ANOTACIONES pg. 9 Transistores de efecto campo. Guía de clases CURVAS CARACTERÍSTICAS Es la representación de la corriente de drenador ID en función de la tensión entre la puerta y la fuente VGS ID = f(VGS) Con VDS constante se varía VGS y se observa ID , obteniéndose curvas diferentes para cada tipo de transistor: Transistores enriquecidos (enhacement) CANAL N CANAL P ID VTH ID VGS VGS VTH |ID| = K (|VGS| - |VTH|)2 K = 0’3 mA/V2 para |VGS| > |VTH| Transistores empobrecidos (depletion) CANAL P CANAL N ID ID Vp IDSS IDSS VGS -Vp ID = IDSS(1 - VGS/ Vp)2 ANOTACIONES VGS pg. 10 Transistores de efecto campo. Guía de clases SÍMBOLOS GRÁFICOS Canal P Canal N D D EMPOBRECIDOS O DE DEPLEXIÓN (DEPLETION) G G S D G S S D ENRIQUECIDOS O DE ACUMULACIÓN (ENHACEMENT) G S Otro tipo de símbolo: D D DEPLEXIÓN G G S S D D ACUMULACIÓN G G S S En electrónica digital: D D ACUMULACIÓN G G S ANOTACIONES S pg. 11 Transistores de efecto campo. Guía de clases EL MOS EN CONMUTACIÓN Se usa el transistor de acumulación. RL ocupa aproximadamente veinte veces más área en un circuito integrado que el transistor. Recta de carga: VDD = IDRL + VDS +VDD RL + D G Vsal + Vent S _ _ ID VGS = VDD B V’’’GS > V’’GS V’’GS > V’GS V’GS > VTH VGS = VTH ≈0 Vent Vsalida 0 +VDD ≈0 +VDD ANOTACIONES A +VDD -> En lógica digital -> Vent Vsalida punto A 0 1 punto B 1 0 VDS pg. 12 Transistores de efecto campo. Guía de clases El circuito anterior es un inversor. Símbolos del inversor: 1 INVERSORES MOS Y CMOS -VDD + Q2 VL = VDS2 = VGS2 _ INVERSOR CON TRANSISTOR DE CARGA CON PUERTA UNIDA A DRENADOR + Q1 Vsal = VDS1 + Vent = VGS1 _ _ Q2 actúa como la resistencia de carga y se llama FET de carga. Q2 está siempre en saturación independientemente de Q1 => Q2 tiene siempre el canal formado. ANOTACIONES pg. 13 Transistores de efecto campo. Guía de clases ID2 VGS2 = -VDD Lugar geométrico donde VGS2 = VDS2 VGS2 = -VTH VDS2 = VGS2 -VDD -VTH ID1 = ID2 VGS1 = -VDD B A VON -VDD + VTH VGS1 = -VTH VDS1 = -VDD - VDS2 -VDD Curva de carga: ID1 = f(VDS1) = f(-VDD – VDS2) Vent Vsalida -> En lógica digital -> 0 -VDD + VTH punto A 0 1 -VDD - VON punto B 1 0 ANOTACIONES Vent Vsalida pg. 14 Transistores de efecto campo. Guía de clases -VDD Q2 INVERSOR CON MOS DIFERENTES (ACUMULACIÓN Y DEPLEXIÓN) + Q1 Vsal = VDS1 + Vent = VGS1 _ _ VDD S2 G2 Q2 (PMOS) D2 INVERSOR CMOS (MOS DE SIMETRÍA COMPLEMENTARIA) + + D1 G1 Vent Q1 (NMOS) Vsal S1 _ _ a) Vent = 0 => Q1 está en corte y Q2 en estado de conducción VGS1 < VT y |VGS2| > |VT| => Vsal ≈ VDD b) Vent = VDD => Q1 en estado de conducción y Q2 en corte VGS1 > VT y |VGS2| < |VT| => Vsal ≈ 0 ANOTACIONES